JPH02199637A - 光ディスク及びその製造方法 - Google Patents
光ディスク及びその製造方法Info
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、光ディスク及びその製造方法に関する。
［従来の技術］
従来の光ディスクは基板に第１の保護層、記録層、第２
の保護層と連続成膜するか、基板に第１の保護層、記録
層、第２の保護層、ＡＩ等の反射層を形成して、このと
き記録層が基板の外周部と内周部に成膜されないように
治具で覆って成膜していた。貼り合わせは熱可塑性のホ
ットメルト型の接着剤をロールコート法によって塗布し
た後プレスすることによって行なっていた。
の保護層と連続成膜するか、基板に第１の保護層、記録
層、第２の保護層、ＡＩ等の反射層を形成して、このと
き記録層が基板の外周部と内周部に成膜されないように
治具で覆って成膜していた。貼り合わせは熱可塑性のホ
ットメルト型の接着剤をロールコート法によって塗布し
た後プレスすることによって行なっていた。
［発明が解決しようとする課題］
しかし、従来技術では基板の外周部と内周部に記録層が
成膜されないように成膜しているため。
成膜されないように成膜しているため。
基板の外周部と内周部は樹脂基板を用いた場合樹脂基板
が露出する構造になる。熱可塑性のホットメルト型の接
着剤は耐熱性がないため、高温高湿下での信頼性がなく
、ロールコート法によって形成しているため接着剤塗布
時に基板に応力をかけて基板を変形しやすかった。その
ためエポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂で貼り合わせる
ことが検討されるが、エポキシ系の樹脂は基板樹脂との
接着力に欠ける。従って、エポキシ系の樹脂のように基
板樹脂との密着力が弱い接着剤を用いて両面型の光ディ
スクを形成しようとすると、基板樹脂とエポキシ系の接
着剤の密着力がないためそこの部分から剥離して記録層
を酸化させるという問題点を有していた。
が露出する構造になる。熱可塑性のホットメルト型の接
着剤は耐熱性がないため、高温高湿下での信頼性がなく
、ロールコート法によって形成しているため接着剤塗布
時に基板に応力をかけて基板を変形しやすかった。その
ためエポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂で貼り合わせる
ことが検討されるが、エポキシ系の樹脂は基板樹脂との
接着力に欠ける。従って、エポキシ系の樹脂のように基
板樹脂との密着力が弱い接着剤を用いて両面型の光ディ
スクを形成しようとすると、基板樹脂とエポキシ系の接
着剤の密着力がないためそこの部分から剥離して記録層
を酸化させるという問題点を有していた。
そこで本発明はそのような課題を解決するものでその目
的とするところは、エポキシ系のように樹脂との接着力
が弱い接着剤を用いても接着部分から剥離することがな
り、シかもホットメルト型の接着剤のような熱可塑性樹
脂を用いないので耐熱性があり、貼り合わせ時に基板に
応力をかけることかない光ディスクを提供するところに
ある。
的とするところは、エポキシ系のように樹脂との接着力
が弱い接着剤を用いても接着部分から剥離することがな
り、シかもホットメルト型の接着剤のような熱可塑性樹
脂を用いないので耐熱性があり、貼り合わせ時に基板に
応力をかけることかない光ディスクを提供するところに
ある。
［課題を解決するための手段］
本発明の光ディスク及びその製造方法は基板に第１の保
護層、記録層、第２の保護層１反射層の順に、その基板
の外周部と内周部に記録層が成膜されないようにした後
、前述の第１の保護層、記録層、第２の保護層２反射層
全面及び前述の記録層が成膜されない部分を覆うように
セラミックス層を成膜したことを特徴とする。
護層、記録層、第２の保護層１反射層の順に、その基板
の外周部と内周部に記録層が成膜されないようにした後
、前述の第１の保護層、記録層、第２の保護層２反射層
全面及び前述の記録層が成膜されない部分を覆うように
セラミックス層を成膜したことを特徴とする。
［作用コ
エポキシ系の樹脂のように基板樹脂との密着力が弱い接
着剤を用いて両面型の光ディスクを形成しても、接着が
セラミックス層同士であるため密着力があり、接着部分
から剥離して記録層を酸化させるという問題はない。
着剤を用いて両面型の光ディスクを形成しても、接着が
セラミックス層同士であるため密着力があり、接着部分
から剥離して記録層を酸化させるという問題はない。
〔実施例］
以下本発明について図面に基づいて詳細に説明する。
第１図は本発明になる光ディスクの概略図である。１お
よび９はポリカーボネートの基板、２および１０は５ｉ
ＡＩＮの第１の保護層、３および１１はＮｄＤｙＦｅＣ
ｏの記録層、４および１２は５ｉＡＩＮの第２の保護層
、５および１３はＡ１層、６および１４は５ＩＡＩＮ層
、７は接着層。
よび９はポリカーボネートの基板、２および１０は５ｉ
ＡＩＮの第１の保護層、３および１１はＮｄＤｙＦｅＣ
ｏの記録層、４および１２は５ｉＡＩＮの第２の保護層
、５および１３はＡ１層、６および１４は５ＩＡＩＮ層
、７は接着層。
８および１５はハードコート層である。
ｌおよび９のポリカーボネートの基板は射出圧縮成形に
よって形成した。１や９のポリカーボネートの基板の内
外周部に５ＩＡＩＮ層や記録層がまわらないように治具
を取り付けて、５ＩＡＩＮ層、 ＮｄＤｙＦｅＣｏ層
、 ５ＩＡＩＮ層、 Ａ１層の順に連続成膜した。
よって形成した。１や９のポリカーボネートの基板の内
外周部に５ＩＡＩＮ層や記録層がまわらないように治具
を取り付けて、５ＩＡＩＮ層、 ＮｄＤｙＦｅＣｏ層
、 ５ＩＡＩＮ層、 Ａ１層の順に連続成膜した。
２および１０の５ＩＡＩＮの第１の保護層はＳ ｉＡｌ
の焼結ターゲットを用いて、窒素とアルゴンの混合ガス
を用いることによるＲＦ反応マグネトロンスパッタ法に
よって成膜したものである。３および１１のＮｄＤｙＦ
ｅＣｏの記録層はＮｄＤｙＦｅＣｏの合金ターゲットを
用いたＤＣマグネトロンスパッタ法によって成膜したも
のである。４及び１２のＳ ＩＡＩＮの第２の保護層は
２および１０の５ｉＡＩＮの第１の保護層と同様に、窒
素とアルゴンの混合ガスを導入することによるＲＦ反応
マグネトロンスパッタ法によって成膜したものである。
の焼結ターゲットを用いて、窒素とアルゴンの混合ガス
を用いることによるＲＦ反応マグネトロンスパッタ法に
よって成膜したものである。３および１１のＮｄＤｙＦ
ｅＣｏの記録層はＮｄＤｙＦｅＣｏの合金ターゲットを
用いたＤＣマグネトロンスパッタ法によって成膜したも
のである。４及び１２のＳ ＩＡＩＮの第２の保護層は
２および１０の５ｉＡＩＮの第１の保護層と同様に、窒
素とアルゴンの混合ガスを導入することによるＲＦ反応
マグネトロンスパッタ法によって成膜したものである。
５および１３のＡ１層はＡＩのターゲットを用いてアル
ゴンガスを導入することによるＤＣマグネトロンスパッ
タ法によって成膜したものである。６および１４Ｓ １
ＡＩＮ層はＳ ｉＡｌの合金ターゲットを用いて窒素と
アルゴンの混合ガスを用いることによるＲＦ反応マグネ
トロンスパッタ法によって成膜したものである。５や１
３のＡ１層を成膜した後。
ゴンガスを導入することによるＤＣマグネトロンスパッ
タ法によって成膜したものである。６および１４Ｓ １
ＡＩＮ層はＳ ｉＡｌの合金ターゲットを用いて窒素と
アルゴンの混合ガスを用いることによるＲＦ反応マグネ
トロンスパッタ法によって成膜したものである。５や１
３のＡ１層を成膜した後。
真空系を−Ｈリークして、ディスクの内外周を覆ってい
た治具を取り外して成膜した。７の接着層は大日本イン
キ化学工業のエピクロンＳ−１２９と油化シェルエポキ
シの工・ビキニアーＩＢＭＩ−１２と１．６−ヘキサン
ジオールジアクリレートと【−ブチルパーオキシイソブ
チレートとチバガイギー社製のイルガキュアー９０７の
混合物を。
た治具を取り外して成膜した。７の接着層は大日本イン
キ化学工業のエピクロンＳ−１２９と油化シェルエポキ
シの工・ビキニアーＩＢＭＩ−１２と１．６−ヘキサン
ジオールジアクリレートと【−ブチルパーオキシイソブ
チレートとチバガイギー社製のイルガキュアー９０７の
混合物を。
記録層が成膜された側にリング状の塗布した後。
真空系内で別の基板と合わせて、その貼り合わせた基板
をホットプレート上に乗せて接着剤を広げて、メタルハ
ライドランプで紫外線を照射して。
をホットプレート上に乗せて接着剤を広げて、メタルハ
ライドランプで紫外線を照射して。
記録層が成膜されていない部分の接着剤を仮硬化させて
、それから５０℃で３時間６０℃で８時間加熱して接着
層を硬化させた。８および１５のノ＼−ドコート層はト
リメチロールプロパントリアクリレートと１．６−ヘキ
サンジオールジアクリレートとチバガイギー社製のイル
ガキュア−９０７の混合物を基板表面にスピンコードし
た後、高圧水銀灯によ・り紫外線を照射して硬化させた
ものである。
、それから５０℃で３時間６０℃で８時間加熱して接着
層を硬化させた。８および１５のノ＼−ドコート層はト
リメチロールプロパントリアクリレートと１．６−ヘキ
サンジオールジアクリレートとチバガイギー社製のイル
ガキュア−９０７の混合物を基板表面にスピンコードし
た後、高圧水銀灯によ・り紫外線を照射して硬化させた
ものである。
次に２本発明になる光ディスクの貼り合わせ方法を従来
の方法を用いて作成した光ディスクを耐候性試験したと
きの性状を表１に示す。
の方法を用いて作成した光ディスクを耐候性試験したと
きの性状を表１に示す。
表１
耐候性試験；７０’Ｃ９０％ＲＨ３０００時間表１に於
て本発明では第１図に示す構造の光ディスクである。比
較例のエポキシ系の接着剤を用いて貼り合わせたもので
は、第１図の構造でＡＩの反射層の上のセラミックス層
がな（、後はすべて同一の構造及び製造方法を用いて作
成したものである。比較例のロールコートはホットメル
ト型の接着剤をロールコート法によって塗布して貼り合
わせたものである。
て本発明では第１図に示す構造の光ディスクである。比
較例のエポキシ系の接着剤を用いて貼り合わせたもので
は、第１図の構造でＡＩの反射層の上のセラミックス層
がな（、後はすべて同一の構造及び製造方法を用いて作
成したものである。比較例のロールコートはホットメル
ト型の接着剤をロールコート法によって塗布して貼り合
わせたものである。
表１の結果をみると明らかなように２本発明になる光デ
ィスク及びその製造方法によれば高温高湿下に長時間放
置しても変化がない長期信頼性のある光ディスクになる
ことがわかる。
ィスク及びその製造方法によれば高温高湿下に長時間放
置しても変化がない長期信頼性のある光ディスクになる
ことがわかる。
尚１本発明はこれらの実施例に限定されると考えられる
べきではなく９本発明の宇旨を逸脱しない限り種々の変
更は可能である。
べきではなく９本発明の宇旨を逸脱しない限り種々の変
更は可能である。
例えば本実施例ではＡ１０反射反射上のセラミックス層
は５ｉＡＩＮ層を例にとっているが、これはＳＥＮ、Ａ
ＩＮ、ＢＮ等の窒化物の他にＡ１０、 Ｓ ｉ Ｏ，
Ｍ ｇ Ｏ，Ｂ ｅ Ｏ等の酸化物、ソノ他フッ化物、
カーバイト等透明、不透明にかかわらずほとんど全ての
セラミックスを用いることができる。
は５ｉＡＩＮ層を例にとっているが、これはＳＥＮ、Ａ
ＩＮ、ＢＮ等の窒化物の他にＡ１０、 Ｓ ｉ Ｏ，
Ｍ ｇ Ｏ，Ｂ ｅ Ｏ等の酸化物、ソノ他フッ化物、
カーバイト等透明、不透明にかかわらずほとんど全ての
セラミックスを用いることができる。
また１本発明では、基板に第１の保護層２ 記録層、第
２の保護層１反射層の順に、その基板の外周部と内周部
に前記記録層が成膜されないようにした例について述べ
たが、記録層を保護層で挟んだ構造にした後、すなわち
反射層のない構造の上にセラミックス層を形成する構造
でも構わない。
２の保護層１反射層の順に、その基板の外周部と内周部
に前記記録層が成膜されないようにした例について述べ
たが、記録層を保護層で挟んだ構造にした後、すなわち
反射層のない構造の上にセラミックス層を形成する構造
でも構わない。
［発明の効果］
本発明の光ディスク及びその製造方法によれば。
エポキシ系のように樹脂との接着力が弱い接着剤を用い
ても接着部分から剥離することがなく、ホットメルト型
の接着剤のような熱可塑性樹脂を用いないので耐熱性が
あり、貼り合わせ時に基板に応力をかけない。従って、
貼り合わせ時の作業性に優れ、信頼性の高い光ディスク
となるという効果を有する。
ても接着部分から剥離することがなく、ホットメルト型
の接着剤のような熱可塑性樹脂を用いないので耐熱性が
あり、貼り合わせ時に基板に応力をかけない。従って、
貼り合わせ時の作業性に優れ、信頼性の高い光ディスク
となるという効果を有する。
第１図は本発明になる光記録媒体の基本構成図である。
う、＋＋、 １５藝一層（ＮＪへ１−Ｃ，）ｊ）１、
９ ・ ２．１０ ３、 １１ ４、 １２ ５、 ｌ ３ ６、 ｌ ４ ７ ・ １ ８、 １５ ・ポリカーボネートの基板 ・５ｉＡＩＮの第１の保護層 −ＮｄＤｙＦｅＣｏの記録層 ・５ｉＡＩＮの第２の保護層 ・Ａ１層 ・５ｉＡＩＮ層 ・接着層 Ｑハードコート層 第１図
９ ・ ２．１０ ３、 １１ ４、 １２ ５、 ｌ ３ ６、 ｌ ４ ７ ・ １ ８、 １５ ・ポリカーボネートの基板 ・５ｉＡＩＮの第１の保護層 −ＮｄＤｙＦｅＣｏの記録層 ・５ｉＡＩＮの第２の保護層 ・Ａ１層 ・５ｉＡＩＮ層 ・接着層 Ｑハードコート層 第１図
Claims (1)
- 基板に第１の保護層、記録層、第２の保護層、反射層の
順に、該基板の外周部と内周部に前記記録層が成膜され
ないようにした後、前記第１の保護層、前記記録層、前
記第２の保護層、前記反射層全面及び前記記録層が成膜
されない部分を覆うようにセラミックス層を成膜したこ
とを特徴とする光ディスク及びその製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1020134A JPH02199637A (ja) | 1989-01-30 | 1989-01-30 | 光ディスク及びその製造方法 |
| EP90901677A EP0408763B1 (en) | 1989-01-11 | 1990-01-11 | Optical disk and method of manufacturing the same |
| DE69030845T DE69030845T2 (de) | 1989-01-11 | 1990-01-11 | Optische platte und verfahren zur herstellung |
| KR1019900702053A KR100264705B1 (ko) | 1989-01-11 | 1990-01-11 | 광 디스크 및 이의 제조방법 |
| PCT/JP1990/000025 WO1990008382A1 (en) | 1989-01-11 | 1990-01-11 | Optical disk and method of manufacturing the same |
| US07/576,490 US5197060A (en) | 1989-01-11 | 1990-09-11 | Dual substrate optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1020134A JPH02199637A (ja) | 1989-01-30 | 1989-01-30 | 光ディスク及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02199637A true JPH02199637A (ja) | 1990-08-08 |
Family
ID=12018666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1020134A Pending JPH02199637A (ja) | 1989-01-11 | 1989-01-30 | 光ディスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02199637A (ja) |
-
1989
- 1989-01-30 JP JP1020134A patent/JPH02199637A/ja active Pending
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