JPH01283511A - クロック発生装置 - Google Patents
クロック発生装置Info
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- JPH01283511A JPH01283511A JP63114112A JP11411288A JPH01283511A JP H01283511 A JPH01283511 A JP H01283511A JP 63114112 A JP63114112 A JP 63114112A JP 11411288 A JP11411288 A JP 11411288A JP H01283511 A JPH01283511 A JP H01283511A
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- Japan
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- clock generation
- grating
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 35
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 17
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 4
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- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
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- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
(産業上の利用分野)
本発明は、クロック発生装置、より詳細には光走査装置
に於いて光走査の基準となるクロック信号を発生させる
ための装置に関する。 (従来の技術) 光走査装置に於いて、回転多面鏡等の光偏向器の作製誤
差による走査毎の走査位置の変動や、あるいはfθレン
ズ等の結像レンズの収差や誤差による光走査の等速性か
らのずれ等を補正するために、各光走査毎に多数の走査
位置でクロック発生用の光ビームを検出して光走査の同
期をとる。所謂多点同期方法が知られている。 多点同期方法では、光走査用ビームによる光走査に同期
して、クロック発生用光ビームによりグレーティングを
光走査する。グレーティングは、光透過部と光遮断部、
もしくは光吸収部と光反射部とが一定の微小ピッチで交
互に一方向へ配列形成されており、従って、グレーティ
ングを透過したクロック発生用ビームもしくはグレーテ
ィングに反射されたクロック発生用ビー・ムは上記ピッ
チに応じて強度変調される。そこで、:の強度変調され
たクロック発生用ビームを光電変換して電気信号を取り
出し、これに基づいて光走査の基準となるクロック信号
を発生させる。 グレーティングを透過したクロック発生用ビームを光電
変換素子に受光させる方法としては、特開昭80−72
473号公1l1{に開示されたように、グレーティン
グを透過したクロック発生用ビームを凹面鏡を用いて単
一の光電変換素子に集光させたり、或は、凹面鏡アレイ
を用いて光電変換素子のアレイに導いたりする方法が知
られている。しかし、この方法は凹面鏡や凹面鏡アレイ
の製造誤差や収差により光電変換素子へ、上記ビームを
集光することが必ずしも容易ではなく5クロック信号の
タイミングの高精度化が困難である。 また、グレーティングを透過したクロック発生用ビーム
を受光する方法として、グレーティングの直ぐ後ろに、
グレーティングの長さ方向、即ち光走査領域全長に対応
する長さにわたって、光電変換素子の受光面を連続的に
配置する方法も考えられるが、光電変換素子全体の接合
容量が大きくなり周波数特性が悪くなるので、光走査の
高速化に対処することが難しい。 (発明が解決しようとする課題) 従って本発明は、上記多点同期方式に於いて、グレーテ
ィングを透過した、もしくはグレーティングに反射さ九
たクロック発生用ビームに基づいて簡単に且つ確実に、
精度の良いクロック信号を発生させることを解決課題と
し、かかる課題を解決した新規なりロック発生装置の提
供を目的とする。 (課題を解決するため、の手段) 以下、本発明を説明する。 本発明のクロック発生装置は、光走査装置に於いて光走
査の基準となるクロック信号を発生させる装置であって
、クロック発生用光ビーム発生手段と、ゲーティングと
、ビーム拡大手段と、受光手段と、クロック制御回路と
を有する。 クロック発生用光ビーム発生手段は、クロック発生用光
ビームを発生させる。 グレーティングは、光透過部と光遮断部、もしくは光吸
収部と光反射部とが一定の微小ピッチで交互に一方向へ
配列形成されており、上記クロック発生用光ビームによ
って光走査される。 ビーム拡大手段は、上記グレーティングを透過すること
により、あるいはグレーティングに反射されることによ
りグレーティングによって強度変調されたクロック発生
用光ビームに、副走査対応方向への発散傾向を与える。 受光手段は、複数の光電変換素子を主走査対応方向へ千
鳥状に配列し、かつ、副走査対応方向から見て、各光電
変換素子、の受光面空部同士が互いに重なり合う様に構
成されている。ここに、「副走査対応方向から見て、各
光電変換素子の受光面端部同士が互いに重なり合う」と
は、各光電変換素子の受光面を、副走査対応方向に直交
する面上に射影した場合、各受光面の端部が互いに重な
り合い、この射影に於いて受光面が主走査対応方向に、
すき間なく連続することを意味する。 クロック制御回路は、上記受光手段の各光電変換素子の
出力に基づき、クロック信号を形成させる。 (作 用) 本発明で
に於いて光走査の基準となるクロック信号を発生させる
ための装置に関する。 (従来の技術) 光走査装置に於いて、回転多面鏡等の光偏向器の作製誤
差による走査毎の走査位置の変動や、あるいはfθレン
ズ等の結像レンズの収差や誤差による光走査の等速性か
らのずれ等を補正するために、各光走査毎に多数の走査
位置でクロック発生用の光ビームを検出して光走査の同
期をとる。所謂多点同期方法が知られている。 多点同期方法では、光走査用ビームによる光走査に同期
して、クロック発生用光ビームによりグレーティングを
光走査する。グレーティングは、光透過部と光遮断部、
もしくは光吸収部と光反射部とが一定の微小ピッチで交
互に一方向へ配列形成されており、従って、グレーティ
ングを透過したクロック発生用ビームもしくはグレーテ
ィングに反射されたクロック発生用ビー・ムは上記ピッ
チに応じて強度変調される。そこで、:の強度変調され
たクロック発生用ビームを光電変換して電気信号を取り
出し、これに基づいて光走査の基準となるクロック信号
を発生させる。 グレーティングを透過したクロック発生用ビームを光電
変換素子に受光させる方法としては、特開昭80−72
473号公1l1{に開示されたように、グレーティン
グを透過したクロック発生用ビームを凹面鏡を用いて単
一の光電変換素子に集光させたり、或は、凹面鏡アレイ
を用いて光電変換素子のアレイに導いたりする方法が知
られている。しかし、この方法は凹面鏡や凹面鏡アレイ
の製造誤差や収差により光電変換素子へ、上記ビームを
集光することが必ずしも容易ではなく5クロック信号の
タイミングの高精度化が困難である。 また、グレーティングを透過したクロック発生用ビーム
を受光する方法として、グレーティングの直ぐ後ろに、
グレーティングの長さ方向、即ち光走査領域全長に対応
する長さにわたって、光電変換素子の受光面を連続的に
配置する方法も考えられるが、光電変換素子全体の接合
容量が大きくなり周波数特性が悪くなるので、光走査の
高速化に対処することが難しい。 (発明が解決しようとする課題) 従って本発明は、上記多点同期方式に於いて、グレーテ
ィングを透過した、もしくはグレーティングに反射さ九
たクロック発生用ビームに基づいて簡単に且つ確実に、
精度の良いクロック信号を発生させることを解決課題と
し、かかる課題を解決した新規なりロック発生装置の提
供を目的とする。 (課題を解決するため、の手段) 以下、本発明を説明する。 本発明のクロック発生装置は、光走査装置に於いて光走
査の基準となるクロック信号を発生させる装置であって
、クロック発生用光ビーム発生手段と、ゲーティングと
、ビーム拡大手段と、受光手段と、クロック制御回路と
を有する。 クロック発生用光ビーム発生手段は、クロック発生用光
ビームを発生させる。 グレーティングは、光透過部と光遮断部、もしくは光吸
収部と光反射部とが一定の微小ピッチで交互に一方向へ
配列形成されており、上記クロック発生用光ビームによ
って光走査される。 ビーム拡大手段は、上記グレーティングを透過すること
により、あるいはグレーティングに反射されることによ
りグレーティングによって強度変調されたクロック発生
用光ビームに、副走査対応方向への発散傾向を与える。 受光手段は、複数の光電変換素子を主走査対応方向へ千
鳥状に配列し、かつ、副走査対応方向から見て、各光電
変換素子、の受光面空部同士が互いに重なり合う様に構
成されている。ここに、「副走査対応方向から見て、各
光電変換素子の受光面端部同士が互いに重なり合う」と
は、各光電変換素子の受光面を、副走査対応方向に直交
する面上に射影した場合、各受光面の端部が互いに重な
り合い、この射影に於いて受光面が主走査対応方向に、
すき間なく連続することを意味する。 クロック制御回路は、上記受光手段の各光電変換素子の
出力に基づき、クロック信号を形成させる。 (作 用) 本発明で
【よ、グレーティングを透過することにより、
もしくはグレーティングに反射されることにより強度変
調されたクロック発生用光ビームが副走査方向に発散傾
向をもち、この方向に広がって受光手段に入射するので
、この光ビームは千鳥配列された光電変換素子の各列に
入射する。また。 光電変換素子の受光面は、上記の如く、副走査対応方向
から見て、その端部同士が互いに重なり合点しているに
も係わらず、クロック発生用ビームの強度変調に従う、
連続した正確な光電変換信号を得ることができる。 (実施例) 以下、具体的な実施例に即して説明する。 第1図に示す実施例に於いて、符号11及び12は半導
体レーザーを示す、半導体レーザー11は書き込み用、
半導体レーザー】2はクロック発生用である。半導体レ
ーザー11.12は直接変調が可能であるが、これらか
らのレーザー光はコリメートレンズ13.14により平
行な光ビームとなり、偏向ビームスプリッタ−15で合
流されビーム整形用のシリンダーレンズ16を通り5回
転釜面鏡17の同じ鏡面の僅かに離れた位置で偏向され
て、fθレンズ18を通ったのち2半導体レーザー11
からの光ビームはミラー19に反射されて、記録媒体2
0上にスポット状に結像し、記録媒体20を主走査方法
へへ光走査する。即ち、半導体レーザー11からの光ビ
ームは光走査用ビームである。 一方、半導体レーザー12からQ光ビームはfθレンズ
18の作用でグレーティング21上にスポット状に結像
し、主走査対応方向Bヘゲレーティング21を走査する
。即ち半導体レーザー12からの光ビームはクロック発
生用ビームである。従って、半導体レーザー12、これ
を駆動するレーザー悶動回路30.コリメートレンズ1
4.偏向ビームスプリッタ−15、シリンダーレンズ1
6、回転多面l!17、fθレンズ18は、この実施例
に於いて、クロック発生用光ビーム発生手段を構成して
いる。 グレーティング21は、光透過部と光遮断部とが所定の
微小ピンチで上記主走査対応方向Bへ配列形成されてお
り、グレーティング21を透過したクロック発生用光ビ
ームは上記光透過部と光遮断部とにより強度変調される
。 グレーティング21を透過したクロック発生用光ビーム
はロッドレンズ22に入射し、第3図(1)に示す様に
一旦副走査対応方向Cに於いて集束したのち、副走査対
応方向Cに発散性のビームとなり、同方向Cにビーム径
を拡大されて受光手段23に入ち、この実施例において
ロッドレンズ22はビーム拡大手段である。 受光手段23は、第2図に示す様に、基板23Aに、複
数の光電変換素子23−1.23−2.23−3.、、
、.23−n、、。 、を千鳥状に配列し、各光電変換素子からの光電変換信
号をアンプ23−IA、23−2A、、、、23−nA
を介して加算器23Bで加算処理しうるように構成され
ている。各光電変換素子の受光面は、その主走査対応方
向Aにおける端部が隣接する受光面の端部と。 副走査対応方向から見て重なり合うようになっている。 即ち、例えば光電変換素子23−1およびこれに隣接す
る光電変換素子23−2を見ると、これらの受光面の端
部は副走査対応方向Bから見ると、符号dで示す領域で
互いに重なり合っている。 グレーティング21を透過したクロック発生用光ビーム
はビーム拡大手段としてのロッドレンズ22によりビー
ム径を副走査対応方向Cに拡大されて、第2図に符号8
Mで示すような副走査対応方向に縦長のビームとして受
光手段23に入射するので、主走査対応方向Aに走査す
るに従って、上の光電変換素子23−1.23−3.2
3−5.、、、の列にも、下の光電変換素子23−2.
23−4.23−6. 、 、 、23−nの列にも受
光される。従って、上記走査とともに、受光手段23の
出力として、加算器23Bから、グレーティング21に
よる強度変調に対応した光電変換信号が連続的に出力さ
れることになる。 この光電変換信号は、第1図に示す様に波形整形回路2
4に入力し、同回路24により増幅・波形整形され一連
のパルスとしてクロック発生回路25に入力される。 クロック発生回路25は、PLL回路(PHASE L
OCKED LOOP回路)の分周回路を有し、入力さ
れる上記パルス(グレーティングのピッチに対応してい
る)のN逓倍のクロック信号を発生し、これをレーザー
変調回路26に入力させる。Nは上記パルスの1周期間
に書き込まれるべき画素数である。 レーザー変調回路26は画信号に従って書き込み用の半
導体レーザー11を変調するがその変調は、クロック発
生回路25から入力するクロック信号によりタイミング
の同期を制御される。 かくし°C1光走査用ビームによる書き込み光走査は多
点同期制御を受け、ジター等の発生の少ない良好な記録
画像が得られる。 上記説明から分かる様に、波形整形回路24.クロック
発生回路25は、クロック制御回路を構成する。 ビーム拡大手段は、上記ロッドレンズに限らず、第3図
(TI)に示すようなシリンダーレンズでも良いし、或
は、同図(III)に示す様に、グレーティング21の
背面部に直接貼着された拡散板であっても良い。 (発明の効果) 以上、本発明によれば新規なりロック発生装置を提供で
きる。 この装置は上述の如き構成となっているので、光電変換
素子自体は互いに独立しているにも係わらず、凹面策の
様な特殊光学系を用いずにグレーティングによる強度変
調に応じた光電変換信号を連続的に得ることができる。 従って、光電変換素子の接合容量を低減させることが可
能となり高速且つ高精度のクロック信号の発生が可能と
なる。 なお、第2図に於tブる光電変換素子23−1等と同様
のものを複数個、主走査対応方向へ1列に、且つ受光面
が互いに連続的となるように配列し、且つ、個々の光電
変換素子間を!@縁するようにすれば、ビーム拡大手段
を不用とでき、かかる受光手段はグレーティングの直ぐ
後方に配備できる。 また、上の説明では、グレーティングを透過したクロッ
ク発生用光ビームの場合を説明したが、グレーティング
として光吸収部と光反射部とを持つものを用いる場合に
は、グレーティングにより反射されたクロック発生用光
ビームの径をビーム拡大手段により拡大して受光手段に
入射させる様にすれば良い。
もしくはグレーティングに反射されることにより強度変
調されたクロック発生用光ビームが副走査方向に発散傾
向をもち、この方向に広がって受光手段に入射するので
、この光ビームは千鳥配列された光電変換素子の各列に
入射する。また。 光電変換素子の受光面は、上記の如く、副走査対応方向
から見て、その端部同士が互いに重なり合点しているに
も係わらず、クロック発生用ビームの強度変調に従う、
連続した正確な光電変換信号を得ることができる。 (実施例) 以下、具体的な実施例に即して説明する。 第1図に示す実施例に於いて、符号11及び12は半導
体レーザーを示す、半導体レーザー11は書き込み用、
半導体レーザー】2はクロック発生用である。半導体レ
ーザー11.12は直接変調が可能であるが、これらか
らのレーザー光はコリメートレンズ13.14により平
行な光ビームとなり、偏向ビームスプリッタ−15で合
流されビーム整形用のシリンダーレンズ16を通り5回
転釜面鏡17の同じ鏡面の僅かに離れた位置で偏向され
て、fθレンズ18を通ったのち2半導体レーザー11
からの光ビームはミラー19に反射されて、記録媒体2
0上にスポット状に結像し、記録媒体20を主走査方法
へへ光走査する。即ち、半導体レーザー11からの光ビ
ームは光走査用ビームである。 一方、半導体レーザー12からQ光ビームはfθレンズ
18の作用でグレーティング21上にスポット状に結像
し、主走査対応方向Bヘゲレーティング21を走査する
。即ち半導体レーザー12からの光ビームはクロック発
生用ビームである。従って、半導体レーザー12、これ
を駆動するレーザー悶動回路30.コリメートレンズ1
4.偏向ビームスプリッタ−15、シリンダーレンズ1
6、回転多面l!17、fθレンズ18は、この実施例
に於いて、クロック発生用光ビーム発生手段を構成して
いる。 グレーティング21は、光透過部と光遮断部とが所定の
微小ピンチで上記主走査対応方向Bへ配列形成されてお
り、グレーティング21を透過したクロック発生用光ビ
ームは上記光透過部と光遮断部とにより強度変調される
。 グレーティング21を透過したクロック発生用光ビーム
はロッドレンズ22に入射し、第3図(1)に示す様に
一旦副走査対応方向Cに於いて集束したのち、副走査対
応方向Cに発散性のビームとなり、同方向Cにビーム径
を拡大されて受光手段23に入ち、この実施例において
ロッドレンズ22はビーム拡大手段である。 受光手段23は、第2図に示す様に、基板23Aに、複
数の光電変換素子23−1.23−2.23−3.、、
、.23−n、、。 、を千鳥状に配列し、各光電変換素子からの光電変換信
号をアンプ23−IA、23−2A、、、、23−nA
を介して加算器23Bで加算処理しうるように構成され
ている。各光電変換素子の受光面は、その主走査対応方
向Aにおける端部が隣接する受光面の端部と。 副走査対応方向から見て重なり合うようになっている。 即ち、例えば光電変換素子23−1およびこれに隣接す
る光電変換素子23−2を見ると、これらの受光面の端
部は副走査対応方向Bから見ると、符号dで示す領域で
互いに重なり合っている。 グレーティング21を透過したクロック発生用光ビーム
はビーム拡大手段としてのロッドレンズ22によりビー
ム径を副走査対応方向Cに拡大されて、第2図に符号8
Mで示すような副走査対応方向に縦長のビームとして受
光手段23に入射するので、主走査対応方向Aに走査す
るに従って、上の光電変換素子23−1.23−3.2
3−5.、、、の列にも、下の光電変換素子23−2.
23−4.23−6. 、 、 、23−nの列にも受
光される。従って、上記走査とともに、受光手段23の
出力として、加算器23Bから、グレーティング21に
よる強度変調に対応した光電変換信号が連続的に出力さ
れることになる。 この光電変換信号は、第1図に示す様に波形整形回路2
4に入力し、同回路24により増幅・波形整形され一連
のパルスとしてクロック発生回路25に入力される。 クロック発生回路25は、PLL回路(PHASE L
OCKED LOOP回路)の分周回路を有し、入力さ
れる上記パルス(グレーティングのピッチに対応してい
る)のN逓倍のクロック信号を発生し、これをレーザー
変調回路26に入力させる。Nは上記パルスの1周期間
に書き込まれるべき画素数である。 レーザー変調回路26は画信号に従って書き込み用の半
導体レーザー11を変調するがその変調は、クロック発
生回路25から入力するクロック信号によりタイミング
の同期を制御される。 かくし°C1光走査用ビームによる書き込み光走査は多
点同期制御を受け、ジター等の発生の少ない良好な記録
画像が得られる。 上記説明から分かる様に、波形整形回路24.クロック
発生回路25は、クロック制御回路を構成する。 ビーム拡大手段は、上記ロッドレンズに限らず、第3図
(TI)に示すようなシリンダーレンズでも良いし、或
は、同図(III)に示す様に、グレーティング21の
背面部に直接貼着された拡散板であっても良い。 (発明の効果) 以上、本発明によれば新規なりロック発生装置を提供で
きる。 この装置は上述の如き構成となっているので、光電変換
素子自体は互いに独立しているにも係わらず、凹面策の
様な特殊光学系を用いずにグレーティングによる強度変
調に応じた光電変換信号を連続的に得ることができる。 従って、光電変換素子の接合容量を低減させることが可
能となり高速且つ高精度のクロック信号の発生が可能と
なる。 なお、第2図に於tブる光電変換素子23−1等と同様
のものを複数個、主走査対応方向へ1列に、且つ受光面
が互いに連続的となるように配列し、且つ、個々の光電
変換素子間を!@縁するようにすれば、ビーム拡大手段
を不用とでき、かかる受光手段はグレーティングの直ぐ
後方に配備できる。 また、上の説明では、グレーティングを透過したクロッ
ク発生用光ビームの場合を説明したが、グレーティング
として光吸収部と光反射部とを持つものを用いる場合に
は、グレーティングにより反射されたクロック発生用光
ビームの径をビーム拡大手段により拡大して受光手段に
入射させる様にすれば良い。
第1図は、本発明の1実施例を示す図、第2図は、上記
実施例に於ける受光手段を説明するための図、第3図は
、ビーム拡大手段を3例示す図である。 il、、、クロック発生用の半導体レーザー、21.、
。 グレーティング、22.、、ビーム拡大手段としての−
二
実施例に於ける受光手段を説明するための図、第3図は
、ビーム拡大手段を3例示す図である。 il、、、クロック発生用の半導体レーザー、21.、
。 グレーティング、22.、、ビーム拡大手段としての−
二
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 光走査装置に於いて光走査の基準となるクロック信号を
発生させる装置であって、 クロック発生用光ビームを発生させるクロック発生用光
ビーム発生手段と、 このクロック発生用光ビームによって光走査されるグレ
ーティングと、 このグレーティングにより強度変調されたクロック発生
用光ビームに、副走査対応方向への発散傾向を与えるビ
ーム拡大手段と、 複数の光電変換素子を主走査対応方向へ千鳥状に配列し
、かつ、副走査対応方向から見て、各光電変換素子の受
光面端部同士が互いに重なり合う様にしてなり、上記ビ
ーム拡大手段により発散傾向を与えられたクロック発生
用光ビームを受光する受光手段と、 この受光手段の各光電変換素子の出力に基づき、クロッ
ク信号を形成させるクロック制御回路と、を有するクロ
ック発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63114112A JPH01283511A (ja) | 1988-05-11 | 1988-05-11 | クロック発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63114112A JPH01283511A (ja) | 1988-05-11 | 1988-05-11 | クロック発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01283511A true JPH01283511A (ja) | 1989-11-15 |
Family
ID=14629429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63114112A Pending JPH01283511A (ja) | 1988-05-11 | 1988-05-11 | クロック発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01283511A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6075168A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-27 | Photo Composing Mach Mfg Co Ltd | 光学式プリンタ |
JPS6349515B2 (ja) * | 1981-06-29 | 1988-10-04 | Nitsushin Kasei Kk |
-
1988
- 1988-05-11 JP JP63114112A patent/JPH01283511A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6349515B2 (ja) * | 1981-06-29 | 1988-10-04 | Nitsushin Kasei Kk | |
JPS6075168A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-27 | Photo Composing Mach Mfg Co Ltd | 光学式プリンタ |
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