JPH01273321A - 半導体ウエハの保護部材 - Google Patents
半導体ウエハの保護部材Info
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 title description 51
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims abstract description 65
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 37
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 claims description 15
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 11
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 abstract description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract description 2
- 229920002821 Modacrylic Polymers 0.000 abstract 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 37
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 24
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 14
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 14
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 11
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 9
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 7
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 6
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 3
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Chemical class 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 description 2
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 230000009993 protective function Effects 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALKCLFLTXBBMMP-UHFFFAOYSA-N 3,7-dimethylocta-1,6-dien-3-yl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC(C)(C=C)CCC=C(C)C ALKCLFLTXBBMMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVFDTKUVRCTHQE-UHFFFAOYSA-N Diisodecyl phthalate Chemical compound CC(C)CCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC(C)C ZVFDTKUVRCTHQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- KRADHMIOFJQKEZ-UHFFFAOYSA-N Tri-2-ethylhexyl trimellitate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC(CC)CCCC)C(C(=O)OCC(CC)CCCC)=C1 KRADHMIOFJQKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Natural products CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- DROMNWUQASBTFM-UHFFFAOYSA-N dinonyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCCC DROMNWUQASBTFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIBFFTLQMKKBLZ-SEYXRHQNSA-N n-butyl oleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCCCC WIBFFTLQMKKBLZ-SEYXRHQNSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 125000005591 trimellitate group Chemical group 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 1
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- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体ウェハの裏面を研磨する際にその回路
パターン形成面に貼着される保護部材に関し、保護部材
を剥離離去した研磨ウェハを水による洗浄のみで清澄に
できるようにしたものである。
パターン形成面に貼着される保護部材に関し、保護部材
を剥離離去した研磨ウェハを水による洗浄のみで清澄に
できるようにしたものである。
従来の技術
半導体ウェハの製造工程においては、IC等の回路パタ
ーンの形成工程を終えた半導体ウェハはこれをできるだ
け薄くするため裏面研磨工程におかれて例えば0.6m
m程度の厚さのものが0.3〜0.4mn+程度にされ
、その、後必要に応じ素子単位等に分断される。裏面研
磨工程では半導体ウェハが破損したり、回路パターン形
成面が研磨くず等で汚染、損傷することを防ぐため、そ
の回路パターン形成面に予め保護部材が貼着される。裏
面研磨を終えると保護部材はウェハより剥離離去され、
得られた研磨ウェハは洗浄される。
ーンの形成工程を終えた半導体ウェハはこれをできるだ
け薄くするため裏面研磨工程におかれて例えば0.6m
m程度の厚さのものが0.3〜0.4mn+程度にされ
、その、後必要に応じ素子単位等に分断される。裏面研
磨工程では半導体ウェハが破損したり、回路パターン形
成面が研磨くず等で汚染、損傷することを防ぐため、そ
の回路パターン形成面に予め保護部材が貼着される。裏
面研磨を終えると保護部材はウェハより剥離離去され、
得られた研磨ウェハは洗浄される。
従来、前記保護部材としては、水溶性有機化合物ないし
非イオン系界面活性剤を配合した水エマルジョンタイプ
のアクリル系感圧接着剤を、合成樹脂フィルムに塗布し
たものが知られていた(特開昭61−43677号公報
)。
非イオン系界面活性剤を配合した水エマルジョンタイプ
のアクリル系感圧接着剤を、合成樹脂フィルムに塗布し
たものが知られていた(特開昭61−43677号公報
)。
発明が解決しようとする課題
火災防止や環境衛生等の観点から有機溶剤の使用中止が
強く求められている。しかし、前記の保護部材では水に
よる洗浄に先立ち、アセトンやイソプロピルアルコール
等の親水性有機溶剤で研磨ウェハを洗浄する必要があっ
た。
強く求められている。しかし、前記の保護部材では水に
よる洗浄に先立ち、アセトンやイソプロピルアルコール
等の親水性有機溶剤で研磨ウェハを洗浄する必要があっ
た。
本発明は、保護部材を剥離離去した研磨ウェハを水によ
る洗浄のみで清澄にすることができる保護部材の提供を
目的とする。
る洗浄のみで清澄にすることができる保護部材の提供を
目的とする。
課題を解決するための手段
本発明は、非イオン系界面活性剤を含有する溶液タイプ
のアクリル系感圧接着剤を用いて、架橋構造の感圧接着
剤層を形成することにより、上記の課題を克服したもの
である。
のアクリル系感圧接着剤を用いて、架橋構造の感圧接着
剤層を形成することにより、上記の課題を克服したもの
である。
すなわち、本発明は、非イオン系界面活性剤を配合した
溶液タイプで、かつ数平均分子量40万以上の架橋型ア
クリル系共重合体を主成分とする感圧接着剤をゲル分率
が4096以上となるよう架橋処理して形成した、半導
体ウェハの回路パターン形成面に貼着される感圧接着剤
層と、これを支持する耐水性シートからなることを特徴
とする半導体ウェハの保護部材を提供するものである。
溶液タイプで、かつ数平均分子量40万以上の架橋型ア
クリル系共重合体を主成分とする感圧接着剤をゲル分率
が4096以上となるよう架橋処理して形成した、半導
体ウェハの回路パターン形成面に貼着される感圧接着剤
層と、これを支持する耐水性シートからなることを特徴
とする半導体ウェハの保護部材を提供するものである。
作 用
溶液タイプとした感圧接着剤を用いて非イオン系界面活
性剤を含有し、かつゲル分率が40%以上のアクリル系
感圧接着剤層とすることにより、非イオン系界面活性剤
がウェハとの貼着界面にブリードして薄層(通常、50
A以下)を形成し、これにより感圧接着剤成分を残留さ
せることな(保護部材をスムースに剥離離去することが
できる。また、研磨ウェハ上に残留した非イオン系界面
活性剤層は水のみで容易に洗浄除去することができ、そ
の際、非イオン系界面活性剤により非水溶性物質も洗浄
除去される。従って、有機溶剤を用いる必要なく研磨ウ
ェハの回路パターン形成面を清澄にすることができる。
性剤を含有し、かつゲル分率が40%以上のアクリル系
感圧接着剤層とすることにより、非イオン系界面活性剤
がウェハとの貼着界面にブリードして薄層(通常、50
A以下)を形成し、これにより感圧接着剤成分を残留さ
せることな(保護部材をスムースに剥離離去することが
できる。また、研磨ウェハ上に残留した非イオン系界面
活性剤層は水のみで容易に洗浄除去することができ、そ
の際、非イオン系界面活性剤により非水溶性物質も洗浄
除去される。従って、有機溶剤を用いる必要なく研磨ウ
ェハの回路パターン形成面を清澄にすることができる。
もちろん、裏面研磨時の水の浸入防止、研磨(ずによる
パターン面の汚染防止、剥がれによるウェハの損傷防止
等の保護機能、及び剥離時の研磨ウェハの割れ防止等の
剥離容易性も満足する。
パターン面の汚染防止、剥がれによるウェハの損傷防止
等の保護機能、及び剥離時の研磨ウェハの割れ防止等の
剥離容易性も満足する。
発明の構成要素の例示
第1図に例示したように、本発明の保護部材は、耐水性
シート1に感圧接着剤層2を付設したものよりなる。
シート1に感圧接着剤層2を付設したものよりなる。
耐水性シート1は、衝撃緩和と、保護部材が洗浄水等で
侵されて剥離困難となることを防止するためのもので、
例えば厚さが25〜150囲のポリプロピレンシート、
ポリエチレンテレフレートシート、ポリカーボネートシ
ート、ポリエチレンシート、エチレン・酢酸ビニル共重
合体シート、エチレン・プロピレン共重合体シート、ポ
リ塩化ビニルシートの如きプラスチックシートなどが用
いられる。自動貼着装置により保護部材を半導体ウェハ
の回路パターン形成面に自動的に貼着する方式を採る場
合には、ポリプロピレンシート、ポリエチレンテレフレ
ートシート、ポリカーボネートシートなどからなる腰の
強いものが好ましく用いられる。耐水性シートの形状を
、貼着対象である半導体ウェハの平面形状に対応するよ
う成形した場合には、保護部材貼着後の成形処理が不要
となる。
侵されて剥離困難となることを防止するためのもので、
例えば厚さが25〜150囲のポリプロピレンシート、
ポリエチレンテレフレートシート、ポリカーボネートシ
ート、ポリエチレンシート、エチレン・酢酸ビニル共重
合体シート、エチレン・プロピレン共重合体シート、ポ
リ塩化ビニルシートの如きプラスチックシートなどが用
いられる。自動貼着装置により保護部材を半導体ウェハ
の回路パターン形成面に自動的に貼着する方式を採る場
合には、ポリプロピレンシート、ポリエチレンテレフレ
ートシート、ポリカーボネートシートなどからなる腰の
強いものが好ましく用いられる。耐水性シートの形状を
、貼着対象である半導体ウェハの平面形状に対応するよ
う成形した場合には、保護部材貼着後の成形処理が不要
となる。
保護部材貼着後の成形処理は、水の浸入原因となる剥が
れを発生しやすい。
れを発生しやすい。
感圧接着剤層2は、溶液タイプとしたアクリル系感圧接
着剤を耐水i生シートに塗布することにより形成される
。水エマルジョンの状態で塗布しても本発明の目的は達
成されず、有機溶剤による洗浄が必要となる。
着剤を耐水i生シートに塗布することにより形成される
。水エマルジョンの状態で塗布しても本発明の目的は達
成されず、有機溶剤による洗浄が必要となる。
アクリル系感圧接着剤としては、数平均分子量が40万
以上、就中40万〜300万の架橋型アクリル系共重合
体を主成分とするものが用いられる。数平均分子量が4
0万未満のものでは凝集力に乏しくてウェハに残留しや
すい。架橋型のアクリル系共重合体は、アクリル酸系ア
ルキルエステルを主体にこれと、架橋性官能基を有する
共重合性モノマと、その他必要に応じ改質モノマとを、
乳化重合方式、バルク重合方式、溶液重合方式などで代
表される通例の重合方式を適用して得ることができる。
以上、就中40万〜300万の架橋型アクリル系共重合
体を主成分とするものが用いられる。数平均分子量が4
0万未満のものでは凝集力に乏しくてウェハに残留しや
すい。架橋型のアクリル系共重合体は、アクリル酸系ア
ルキルエステルを主体にこれと、架橋性官能基を有する
共重合性モノマと、その他必要に応じ改質モノマとを、
乳化重合方式、バルク重合方式、溶液重合方式などで代
表される通例の重合方式を適用して得ることができる。
アクリル酸系アルキルエステルとしては例えばメチル基
、エチル基、ブチル基、2−エチルヘキシル基、デシル
基、ドデシル基などで代表される炭素数が30以下、就
中14以下のアルキル基を有するアクリル酸やメタクリ
ル酸のエステルなどが用いられる。
、エチル基、ブチル基、2−エチルヘキシル基、デシル
基、ドデシル基などで代表される炭素数が30以下、就
中14以下のアルキル基を有するアクリル酸やメタクリ
ル酸のエステルなどが用いられる。
アクリル系共重合体を架橋型のものとするために用いら
れる架橋性官能基を有する共重合性モノマの代表例とし
てはアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタ
コン酸の如きカルボキシル基含有モノマ、アクリル酸2
−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチ
ル、アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸
2−ヒドロキシプロピル、N−メチロールメタクリルア
ミドの如きヒドロキシル基含有モノマ、アクリルアミド
、メタクリルアミドの如きアミド基含有モノマ、アクリ
ル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジルの如きエポキ
シ基含有モノマ、N、N−ジメチルアミノエチルアクリ
レートの如きアミノ基含有モノマなどがあげられる。そ
の使用量は、アクリル酸系アルキルエステル100重量
部あたり、1〜30重量部、就中2〜lO重量部が一般
である。
れる架橋性官能基を有する共重合性モノマの代表例とし
てはアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタ
コン酸の如きカルボキシル基含有モノマ、アクリル酸2
−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチ
ル、アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸
2−ヒドロキシプロピル、N−メチロールメタクリルア
ミドの如きヒドロキシル基含有モノマ、アクリルアミド
、メタクリルアミドの如きアミド基含有モノマ、アクリ
ル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジルの如きエポキ
シ基含有モノマ、N、N−ジメチルアミノエチルアクリ
レートの如きアミノ基含有モノマなどがあげられる。そ
の使用量は、アクリル酸系アルキルエステル100重量
部あたり、1〜30重量部、就中2〜lO重量部が一般
である。
必要に応じ用いられる改質モノマとしては、スチレン、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニルな
どで代表されるアクリル系感圧接着剤に公知のものがあ
げられる。その使用量は通常アクリル酸系アルキルエス
テルに対し等量以下、就中30重量%以下である。
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニルな
どで代表されるアクリル系感圧接着剤に公知のものがあ
げられる。その使用量は通常アクリル酸系アルキルエス
テルに対し等量以下、就中30重量%以下である。
本発明において用いられるアクリル系感圧接着剤は、架
橋剤を配合してアクリル系共重合体を架橋処理しうるよ
うにしたものである。架橋剤としてはポリイソシアネー
ト化合物、メラミン系化合物、エポキシ系化合物、過酸
化物、金属系化合物などで代表される公知のものを用い
てよい。架橋剤は、ゲル分率が40%以上、就中60%
以上の感圧接着剤層が形成されるよう使用される。感圧
接着剤層のゲル分率が40%未満では、凝集力不足でウ
ェハに残留しやす(なる。
橋剤を配合してアクリル系共重合体を架橋処理しうるよ
うにしたものである。架橋剤としてはポリイソシアネー
ト化合物、メラミン系化合物、エポキシ系化合物、過酸
化物、金属系化合物などで代表される公知のものを用い
てよい。架橋剤は、ゲル分率が40%以上、就中60%
以上の感圧接着剤層が形成されるよう使用される。感圧
接着剤層のゲル分率が40%未満では、凝集力不足でウ
ェハに残留しやす(なる。
感圧接着剤には、非イオン系界面活性剤が配合される。
その配合量はアクリル系共重合体100重量部あたり、
0.01〜30重量部、就中0.1−10重量部が適当
である。配合量が0.旧重量部では添加効果に乏しいし
、30重量部を超えると凝集力の低下で感圧接着剤成分
が残留しやすくなり、水洗浄のみで除去しきれなくなる
。用いうる非イオン系界面活性剤の代表例としては、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンオクチルフェニルエーテルの如きポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
オレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテ
ルの如きポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリエチ
レングリコール、アルカノールアマイドなどがあげられ
る。HLBが8〜20、就中12以上で水洗除去の容易
なものが好ましく用いられる。
0.01〜30重量部、就中0.1−10重量部が適当
である。配合量が0.旧重量部では添加効果に乏しいし
、30重量部を超えると凝集力の低下で感圧接着剤成分
が残留しやすくなり、水洗浄のみで除去しきれなくなる
。用いうる非イオン系界面活性剤の代表例としては、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンオクチルフェニルエーテルの如きポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
オレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテ
ルの如きポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリエチ
レングリコール、アルカノールアマイドなどがあげられ
る。HLBが8〜20、就中12以上で水洗除去の容易
なものが好ましく用いられる。
本発明で用いられるアクリル系感圧接着剤は可塑剤を含
有していてもよい。可塑剤は接着力の調整剤ないし接着
力の上昇抑制剤や、ブリード刑ないしブリード助剤など
として必要に応じ添加される。その添加量は粘度、分子
量、相溶性等に応じて適宜に決定される。一般には、ア
クリル系共重合体100重量部あたり1〜150重量部
、就中3〜80重量部である。用いつる可塑剤の代表例
としてはジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジ
ブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジノニルフ
タレート、ジイソデシルフタレートの如きフタル酸エス
テル系、ブチルオレエートの如き脂肪酸エステル系、ジ
イソデシルアジペートの如きアジピン酸エステル系、ト
リフェニルホスフェートの如きリン酸エステル系、トリ
ー2−エチルへキシルトリメリテートの如きトリメリテ
ート系、その化エポキシ系やポリエステル系のものなど
があげられる。
有していてもよい。可塑剤は接着力の調整剤ないし接着
力の上昇抑制剤や、ブリード刑ないしブリード助剤など
として必要に応じ添加される。その添加量は粘度、分子
量、相溶性等に応じて適宜に決定される。一般には、ア
クリル系共重合体100重量部あたり1〜150重量部
、就中3〜80重量部である。用いつる可塑剤の代表例
としてはジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジ
ブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジノニルフ
タレート、ジイソデシルフタレートの如きフタル酸エス
テル系、ブチルオレエートの如き脂肪酸エステル系、ジ
イソデシルアジペートの如きアジピン酸エステル系、ト
リフェニルホスフェートの如きリン酸エステル系、トリ
ー2−エチルへキシルトリメリテートの如きトリメリテ
ート系、その化エポキシ系やポリエステル系のものなど
があげられる。
本発明の保護部材は、有機溶剤を用いて溶液タイプとし
た感圧接着剤を耐水性シートに塗布し、これを架橋処理
する方法などにより得ることができる。感圧接着剤層の
厚さは適宜に決定してよいが、一般には5〜100μm
とされる。接着力をステンレス板に対する180度ビー
ル値(常温、引張速度300mm/分)に基づき、lO
〜600 g / 20 ym+に調節したものが適当
である。
た感圧接着剤を耐水性シートに塗布し、これを架橋処理
する方法などにより得ることができる。感圧接着剤層の
厚さは適宜に決定してよいが、一般には5〜100μm
とされる。接着力をステンレス板に対する180度ビー
ル値(常温、引張速度300mm/分)に基づき、lO
〜600 g / 20 ym+に調節したものが適当
である。
第1図のように、本発明の保護部材には通常、保管時等
における感圧接着剤層2を保護するため、その感圧接着
剤層2にセパレータ3等が貼着される。セパレータは、
裏面研磨工程に導入される半導体ウェハの回路パターン
形成面に保護部材を貼着する前に剥離除去される。紙、
プラスチックフィルム、金属箔などからなる柔軟な薄葉
体でセパレータは形成され、必要に応じ剥離剤で表面処
理して離形性が付与される。また、第2図のように、セ
パレータ3を長尺体で形成してキャリアテープ機能をも
たせ、これに複数の保護部材Sを裏面研磨工程に導入さ
れる半導体ウェハ4に対応させて配列貼着し、順次導入
される半導体ウェハ4に保護部材Sを自動的に貼着でき
るよう、自動貼着装置の適用が可能な形態とされる場合
もある。なお、5は圧着ロール、6は反転ロールである
。
における感圧接着剤層2を保護するため、その感圧接着
剤層2にセパレータ3等が貼着される。セパレータは、
裏面研磨工程に導入される半導体ウェハの回路パターン
形成面に保護部材を貼着する前に剥離除去される。紙、
プラスチックフィルム、金属箔などからなる柔軟な薄葉
体でセパレータは形成され、必要に応じ剥離剤で表面処
理して離形性が付与される。また、第2図のように、セ
パレータ3を長尺体で形成してキャリアテープ機能をも
たせ、これに複数の保護部材Sを裏面研磨工程に導入さ
れる半導体ウェハ4に対応させて配列貼着し、順次導入
される半導体ウェハ4に保護部材Sを自動的に貼着でき
るよう、自動貼着装置の適用が可能な形態とされる場合
もある。なお、5は圧着ロール、6は反転ロールである
。
発明の効果
本発明の保護部材によれば、架橋処理した感圧接着剤層
に非イオン系界面活性剤を含有せしめたので、保護部材
剥離後の研磨ウェハを水による洗浄処理のみで清澄にす
ることができる。従って、有機溶剤による洗浄処理が不
要である。
に非イオン系界面活性剤を含有せしめたので、保護部材
剥離後の研磨ウェハを水による洗浄処理のみで清澄にす
ることができる。従って、有機溶剤による洗浄処理が不
要である。
また、裏面研磨時に要求される汚染防止、破損防止、損
傷防止、剥がれ防止等の保護機能、及び研磨ウェハを破
損させないスムースな剥離除去性にも優れている。
傷防止、剥がれ防止等の保護機能、及び研磨ウェハを破
損させないスムースな剥離除去性にも優れている。
実施例
参考例1
アクリル酸エチル50部(M置部、以下同じ〉、アクリ
ル酸2−エチルヘキシル50部、アクリロニトリル15
部及びアクリル酸5部を、ポリオキシエチレンアルキル
フェノールエーテル3部、ラウリルメルカプタン0.2
部及び過硫酸アンモニウム0.3部を含むイオン交換水
150部中で、窒素置換下65℃で共重合させて、数平
均分子量が90万のアクリル系共重合体を含有する水エ
マルジョンを得た。
ル酸2−エチルヘキシル50部、アクリロニトリル15
部及びアクリル酸5部を、ポリオキシエチレンアルキル
フェノールエーテル3部、ラウリルメルカプタン0.2
部及び過硫酸アンモニウム0.3部を含むイオン交換水
150部中で、窒素置換下65℃で共重合させて、数平
均分子量が90万のアクリル系共重合体を含有する水エ
マルジョンを得た。
参考例2
アクリル酸ブチル100部と、アクリロニトリル5部と
、アクリル酸5部を酢酸エチル中で常法により共重合さ
せて、数平均分子量が80万のアクリル系共重合体を含
有する溶液を得た。
、アクリル酸5部を酢酸エチル中で常法により共重合さ
せて、数平均分子量が80万のアクリル系共重合体を含
有する溶液を得た。
参考例3
アクリル酸2−エチルヘキシル55部と、アクリル酸エ
チル45部と、アクリル酸2−ヒドロキシエチル5部を
酢酸エチル中で常法により共重合させて、数平均分子量
が85万のアクリル系共重合体を含有する溶液を得た。
チル45部と、アクリル酸2−ヒドロキシエチル5部を
酢酸エチル中で常法により共重合させて、数平均分子量
が85万のアクリル系共重合体を含有する溶液を得た。
実施例1
参考例1で得た水エマルジョンよりアクリル系共重合体
を塩析させて水洗し、乾燥後トルエンを加えて30重量
%溶液とし、この溶液にアクリル系共重合体100部あ
たりジエチルフタレート50部、ポリイソシアネート化
合物6部及びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル(HLB:12)3部を加えて感圧接着剤の溶液を得
た。
を塩析させて水洗し、乾燥後トルエンを加えて30重量
%溶液とし、この溶液にアクリル系共重合体100部あ
たりジエチルフタレート50部、ポリイソシアネート化
合物6部及びポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル(HLB:12)3部を加えて感圧接着剤の溶液を得
た。
次に、その感圧接着剤溶液を半導体ウェハの平面形状に
対応した形状に切り抜いた厚さ50μmのポリエチレン
テレフタレートフィルムからなる耐水性シートに塗布し
、80℃で10分間加熱処理して厚さ2Onの架橋感圧
接着剤層を有する保護部材を得た。
対応した形状に切り抜いた厚さ50μmのポリエチレン
テレフタレートフィルムからなる耐水性シートに塗布し
、80℃で10分間加熱処理して厚さ2Onの架橋感圧
接着剤層を有する保護部材を得た。
保護部材における感圧接着剤層のステンレス板(Stl
S 304)に対する接着力(20℃、65%R,H,
,180度ビール、引張速度300+nm/分)は、2
00 g / 20m+aであった。また、感圧接着剤
層のゲル分率は70%であった。なお、ゲル分率は、剥
離性処理した支持フィルム上に感圧接着剤を塗布し、8
0℃で10分間加熱処理して厚さ10部mの架橋感圧接
着剤層とし、これを支持フィルムより剥がしてトルエン
(20℃〉中に24時間浸漬し、浸漬前後における重量
変化より算出した。
S 304)に対する接着力(20℃、65%R,H,
,180度ビール、引張速度300+nm/分)は、2
00 g / 20m+aであった。また、感圧接着剤
層のゲル分率は70%であった。なお、ゲル分率は、剥
離性処理した支持フィルム上に感圧接着剤を塗布し、8
0℃で10分間加熱処理して厚さ10部mの架橋感圧接
着剤層とし、これを支持フィルムより剥がしてトルエン
(20℃〉中に24時間浸漬し、浸漬前後における重量
変化より算出した。
実施例2
参考例2で得た溶液に、アクリル系共重合体100部あ
たりジオクチルフタレート30部、ポリイソシアネート
化合物8部及びポリオキシエチレンラウリルエーテル(
HLB :lO) 5部を加えて感圧接着剤の溶液を得
た。
たりジオクチルフタレート30部、ポリイソシアネート
化合物8部及びポリオキシエチレンラウリルエーテル(
HLB :lO) 5部を加えて感圧接着剤の溶液を得
た。
次に、その感圧接着剤溶液を半導体ウェハの平面形状に
対応した形状に切り抜いた厚さlooumのエチレン・
酢酸ビニル共重合フィルムからなる耐水性シートにおけ
るコロナ処理面に塗布し、80℃で10分間加熱処理し
て厚さ20部mの架橋感圧接着剤層を有する保護部材を
得た。
対応した形状に切り抜いた厚さlooumのエチレン・
酢酸ビニル共重合フィルムからなる耐水性シートにおけ
るコロナ処理面に塗布し、80℃で10分間加熱処理し
て厚さ20部mの架橋感圧接着剤層を有する保護部材を
得た。
保護部材における感圧接着剤層のステンレス板に対する
接着力は150 g / 20 mmであった。また、
感圧接着剤層のゲル分率は80%であった。
接着力は150 g / 20 mmであった。また、
感圧接着剤層のゲル分率は80%であった。
実施例3
参考例3で得た溶液に、アクリル系共重合体100部あ
たりポリイソシアネート化合物7部と、ポリオキシエチ
レンオレイルエーテル(HLB:18)5部を加えて感
圧接着剤の溶液を得、これを用いて実施例1に準じ保護
部材を得た。
たりポリイソシアネート化合物7部と、ポリオキシエチ
レンオレイルエーテル(HLB:18)5部を加えて感
圧接着剤の溶液を得、これを用いて実施例1に準じ保護
部材を得た。
保護部材における感圧接着剤層のステンレス板に対する
接着力は300g/20m+aであった。また、感圧接
着剤層のゲル分率は90%であった。
接着力は300g/20m+aであった。また、感圧接
着剤層のゲル分率は90%であった。
比較例1
トルエンを用いた溶液に代えて、参考例1で得た水エマ
ルジョンをそのまま用いて実施例1に準じ感圧接着剤を
調製し、その保護部材を得た。
ルジョンをそのまま用いて実施例1に準じ感圧接着剤を
調製し、その保護部材を得た。
保護部材における感圧接着剤層のステンレス板に対する
接着力は180g/20mmであった。また、感圧接着
剤層のゲル分率は75%であった。
接着力は180g/20mmであった。また、感圧接着
剤層のゲル分率は75%であった。
比較例2
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルを配合しな
い感圧接着剤溶液を用いたほかは実施例1に準じて保護
部材を得た。
い感圧接着剤溶液を用いたほかは実施例1に準じて保護
部材を得た。
保護部材における感圧接着剤層のステンレス板に対する
接着力は250g/20mmであった。
接着力は250g/20mmであった。
比較例3
ポリオキシエチレンラウリルエーテルを配合しない感圧
接着剤溶液を用いたほかは実施例2に準じて保護部材を
得た。
接着剤溶液を用いたほかは実施例2に準じて保護部材を
得た。
保護部材における感圧接着剤層のステンレス板に対する
接着力は200g/20mmであった。
接着力は200g/20mmであった。
比較例4
ポリオキシエチレンオレイルエーテルを配合しない感圧
接着剤溶液を用いたほかは実施例3に準じて保護部材を
得た。
接着剤溶液を用いたほかは実施例3に準じて保護部材を
得た。
保護部材における感圧接着剤層のステンレス板に対する
接着力は550g/20amであった。
接着力は550g/20amであった。
比較例5
ポリイソシアネート化合物の添加量を2部とした感圧接
着剤溶液を用いたほかは実施例1に準じて保護部材を得
た。
着剤溶液を用いたほかは実施例1に準じて保護部材を得
た。
保護部材における感圧接着剤層のステンレス板に対する
接着力は560g/20mmであり、感圧接着剤層のゲ
ル分率は20%であった。
接着力は560g/20mmであり、感圧接着剤層のゲ
ル分率は20%であった。
比較例6
ポリイソシアネート化合物の添加量を2部とした感圧接
着剤溶液を用いたほかは実施例2に準じて保護部材を得
た。
着剤溶液を用いたほかは実施例2に準じて保護部材を得
た。
保護部材における感圧接着剤層のステンレス板に対する
接着力は400 g/20−であり、感圧接着剤層のゲ
ル分率は30%であった。
接着力は400 g/20−であり、感圧接着剤層のゲ
ル分率は30%であった。
比較例7
ポリイソシアネート化合物の添加量を2部とした感圧接
着剤溶液を用いたほかは実施例3に準じて保護部材を得
た。
着剤溶液を用いたほかは実施例3に準じて保護部材を得
た。
保護部材における感圧接着剤層のステンレス板に対する
接着力は550g/20mであり、感圧接着剤層のゲル
分率は35%であった。
接着力は550g/20mであり、感圧接着剤層のゲル
分率は35%であった。
評価試験
実施例、比較例で得た保護部材を、所定の回路パターン
が形成された直径4インチ、厚さ約0.6−の半導体ウ
ェハの回路パターン形成面に貼着したのち常法により半
導体ウェハを裏面研磨処理して厚さ約0.3論とし、得
られた研磨ウェハより保護部材を剥離離去した。半導体
ウェハに対する保護部材の貼着時間は24時間であった
。
が形成された直径4インチ、厚さ約0.6−の半導体ウ
ェハの回路パターン形成面に貼着したのち常法により半
導体ウェハを裏面研磨処理して厚さ約0.3論とし、得
られた研磨ウェハより保護部材を剥離離去した。半導体
ウェハに対する保護部材の貼着時間は24時間であった
。
ついで、その研磨ウェハを純水中に浸漬して10分間超
音波洗浄したのち、赤外線ヒータで乾燥させた。得られ
た研磨ウェハの回路パターン形成面(保護部材貼着面)
につき、これに付着する異物の数を大きさに基づきラン
ク分けして調べた。測定には日立DECO社製L S
−5000を用いた。
音波洗浄したのち、赤外線ヒータで乾燥させた。得られ
た研磨ウェハの回路パターン形成面(保護部材貼着面)
につき、これに付着する異物の数を大きさに基づきラン
ク分けして調べた。測定には日立DECO社製L S
−5000を用いた。
1:0.28〜0.391 I[:Q、39〜1.5
0ν濱m : 1.50〜2.50m IV :
2.50μm以上上記の結果を表に示した。
0ν濱m : 1.50〜2.50m IV :
2.50μm以上上記の結果を表に示した。
表より、本発明の保護部材によれば、水のみの洗浄で充
分に清澄なウェハが得られることがわかる。
分に清澄なウェハが得られることがわかる。
一方、実施例のいずれの保護部材においても、その裏面
研磨時に水が浸入したり、研磨くずでパターン面が汚染
されたり、保護部材が剥がれたりすることはな(、損傷
防止等のウェハ保護機能は完全であった。また、保護部
材の剥離離去に際し研磨ウェハを割ることなく容易に剥
離できた。
研磨時に水が浸入したり、研磨くずでパターン面が汚染
されたり、保護部材が剥がれたりすることはな(、損傷
防止等のウェハ保護機能は完全であった。また、保護部
材の剥離離去に際し研磨ウェハを割ることなく容易に剥
離できた。
なお、比較例1の保護部材にあっては異物の残留が多量
であったほか、水の浸入、ウェハの割れも生じた。
であったほか、水の浸入、ウェハの割れも生じた。
第1図は本発明の保護部材の構成例を示した平面図、第
2図は保護部材の自動貼着方法の説明図である。 1:耐水性シート 2;感圧接着剤層3:セパレータ 特許出願人 日東電気工業株式会社
2図は保護部材の自動貼着方法の説明図である。 1:耐水性シート 2;感圧接着剤層3:セパレータ 特許出願人 日東電気工業株式会社
Claims (1)
- 1、非イオン系界面活性剤を配合した溶液タイプで、か
つ数平均分子量40万以上の架橋型アクリル系共重合体
を主成分とする感圧接着剤をゲル分率が40%以上とな
るよう架橋処理して形成した、半導体ウェハの回路パタ
ーン形成面に貼着される感圧接着剤層と、これを支持す
る耐水性シートからなることを特徴とする半導体ウェハ
の保護部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63101980A JP2609130B2 (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | 半導体ウエハの保護部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63101980A JP2609130B2 (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | 半導体ウエハの保護部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01273321A true JPH01273321A (ja) | 1989-11-01 |
JP2609130B2 JP2609130B2 (ja) | 1997-05-14 |
Family
ID=14315004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63101980A Expired - Lifetime JP2609130B2 (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | 半導体ウエハの保護部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2609130B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1323492A1 (en) * | 2001-03-23 | 2003-07-02 | Citizen Watch Co. Ltd. | Brazing filler metal |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62101678A (ja) * | 1985-10-30 | 1987-05-12 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 半導体ウエハの保護部材 |
-
1988
- 1988-04-25 JP JP63101980A patent/JP2609130B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62101678A (ja) * | 1985-10-30 | 1987-05-12 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 半導体ウエハの保護部材 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1323492A1 (en) * | 2001-03-23 | 2003-07-02 | Citizen Watch Co. Ltd. | Brazing filler metal |
EP1323492A4 (en) * | 2001-03-23 | 2004-10-06 | Citizen Watch Co Ltd | BRAZING SUPPLY METAL |
US7074350B2 (en) | 2001-03-23 | 2006-07-11 | Citizen Watch Co., Ltd. | Brazing filler metal |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2609130B2 (ja) | 1997-05-14 |
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