JPH01272624A - 電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料 - Google Patents

電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料

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JPH01272624A
JPH01272624A JP10196988A JP10196988A JPH01272624A JP H01272624 A JPH01272624 A JP H01272624A JP 10196988 A JP10196988 A JP 10196988A JP 10196988 A JP10196988 A JP 10196988A JP H01272624 A JPH01272624 A JP H01272624A
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JP
Japan
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epoxy resin
silicone polymer
weight
molding material
component
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Pending
Application number
JP10196988A
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English (en)
Inventor
Shinsuke Hagiwara
伸介 萩原
Hiroyuki Kuritani
弘之 栗谷
Shigeo Asai
浅井 茂雄
Fumio Furusawa
文夫 古沢
Shigeki Ichimura
茂樹 市村
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料に関し、
さらに詳しくは、耐熱衝撃性、耐熱性、成形性に優れた
電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
従来、コイル、コンデンサ、トランジスタ、ICなどの
電子部品封止用としては、エポキシ樹脂成形材料が広く
用いられている。この理由としては、エポキシ樹脂が電
気特性、耐熱性、機械強度、インサートとの接着性など
の緒特性にバランスがとれているためである。
しかし、電子部品のパッケージは、ICに代表されるよ
うに、小形、薄形化の傾向にあり、冷熱サイクル時にパ
ッケージがクラックするという問題が生じる。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明はかかる欠点を解決するために為されたものであ
り、耐熱衝撃性、耐熱性が良好で、かつ成形性にも優れ
た電子部品対土用エポキシ樹脂成形材料を提供しようと
するものである。
エポキシ樹脂成形材料の耐熱衝撃性を改善するものとし
て、エポキシ樹脂系をシリコーン重合体で改質する方法
がある。一般にシリコーン重合体はエポキシ樹脂系に非
相溶であり、エポキシ樹脂中に微粒子で分散する構造を
形成し、耐熱衝撃性を向上する効果がある。しかし、シ
リコーン重合体は非相溶であるために、成形材料の耐熱
衝撃性は向上するものの、成形時にしみ出し、パリ(金
型クリアランスからのしみ出し)や成形品外観の悪化を
引き起こすという欠点を有し、この欠点を解決すること
が望まれていた。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討を
重ねた結果、エポキシ樹脂系に特定の化合物を組み合わ
せて配合することにより上記の目的を達成しうることを
見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の電子部品封止用エポキシ樹脂成形材
料は (A)1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキ
シ樹脂、 (B)1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有す
る化合物、 (C)平均粒径50μm以下の固形シリコーン重合体及
び、 (D)ポリアルキレンエーテル基を有する液状シリコー
ン重合体を必須成分としてなることを特徴とする。
本発明において用いられる(A)成分の1分子中に2個
以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂としては、電子
部品封止用エポキシ樹脂成形材料で一般に使用されてい
るものであれば制限はなく、フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂をはじめとするフェノール類とアルデヒド類のノボラ
ック樹脂をエポキシ化したもの、ビスフェノールA1ビ
スフエノールB、ビスフェノールF1ビスフエノールS
などのジグリシジルエーテル、フタル酸、ダイマー酸な
どの多塩基酸とエピクロルヒドリンの反応により得られ
るグリシジルエステル型エポキシ樹脂、ジアミノジフェ
ニルメタン、イソシアヌル酸などのポリアミンとエピク
ロルヒドリンの反応により得られるグリシジルアミン型
エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸などの過酸で酸
化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、及び脂環族エ
ポキシ樹脂などがあり、これらを適宜何種類でも併用す
ることができる。
本発明において用いられる(B)成分の1分子中に2個
以上のフェノール性水酸基を有する化合物としては、フ
ェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カ
テコール、ビスフェノールA、ビスフェノールFなどの
フェノール類とホルムアルデヒドとを酸性触媒下で縮合
反応させて得られるノボラック型フェノール樹脂、ビス
フェノールA1ビスフエノールF1ポリパラビニルフエ
ノール樹脂、レゾルシン、カテコール、ハイドロキノン
などの多価フェノールなどがあり、単独又は2種類以上
併用してもよい、また、(A)のエポキシ樹脂との当量
比〔(B)の水酸基数/(A)のエポキシ基数〕は、特
に限定はされないが、0.7〜1.3が好ましい。
本発明において(C)の固形シリコーン重合体としては
ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサ
ン、ジメチルシロキサン−ジフェニルシロキサンコポリ
マーなどポリオルガノシロキサンの高重合体があげられ
る。さらにこれらポリオルガノシロキサン重合体の架橋
物を用いてもよい、また、(C)の固形シリコーン重合
体は構造中にシラノール基、ヒドロキシ基、カルボキシ
基、ビニル基、アミノ基、メルカプト基、エポキシ基、
メトキシ基、エトキシ基などの官能基を有するものを用
いてもよい。
ICなどの電子部品を成形する金型のゲートサイズは最
近ではパッケージの小型化、薄形化とともに小さくなり
、200〜500μm程度である。
そこで本発明の(C)の固形シリコーン重合体の粒径は
成形時に支障の無い様、十分小さい必要があり、平均粒
径50μm以下が良く、最大粒径も′1001!m以下
が好ましい。シリコーン重合体微粉末の特性については
特に限定するものではないが、通常の成形温度150°
C〜180°Cで流動を起こさずに、粒径を維持するも
のが好ましい。また、低応力化、耐クラツク性に対して
は、シリコーン重合体の転移温度は室温以下が好ましい
(C)の固形シリコーン重合体の添加量としては(A)
成分+(B)成分の重量に対し、2〜20%の比率が好
ましい。この理由としては、2%未満では目的の耐熱衝
撃性向上に効果が小さく、20%を超えると成形時の流
動性を損なうことがあるためである。
本発明において(D)の液状シリコーン重合体は構造中
にポリアルキレンエーテル基を持つことが特徴である。
ポリアルキレンエーテル基は一般に千R−0÷の繰り返
し単位から成り、Rはメチレン基またはポリメチレン基
およびその誘導体である。本発明の主目的である耐熱衝
撃性及び成形性(成形時のしみ出し)に対して特に−数
式%式% (ただし、a、bは0.2 <a/b < 5の関係を
有する数である)で示す構造が好適であり、分子量とし
ては400〜4000が好適である。この理由としてa
/bが0.2未満であるとベース樹脂であるエポキシ樹
脂との相溶性が悪くなり、5を超えるとエチレンオキシ
ド成分の親水性のため耐湿性が低下することがあるため
である。また、分子量については400未満では耐熱衝
撃性、耐湿性に対し効果が少ないか、または低下し、分
子ff14000を超えると相溶性や成形時の流動性に
支障の生じることがある。また、ポリアルキレンエーテ
ル基の比率は(D)成分のシリコーン重合体に対し10
〜60重量%が好ましい。この理由としては10重量%
未満ではベース樹脂との相溶性が悪く、成形時にしみ出
し等の問題が発生しやすく、60重量%を超えるとポリ
エーテル基の親水性により耐湿性が低下しやすいためで
ある。
(D)の液状シリコーン重合体としてポリアルキレンエ
ーテル基以外の官能基を同時に有するものを用いてもよ
く、その官能基としてはシラノール基、ヒドロキシ基、
カルボキシ基、ビニル基、アミノ基、メルカプト基、エ
ポキシ基、メトキシ基、エトキシ基などが挙げられる。
(D)の液状シリコーン重合体の添加量としては(A)
成分+(B)成分の重量に対し、2〜20%の比率が好
ましい。この理由としては、2%未満では目的の耐熱衝
撃性向上に効果がなく、20%を超えると成形時の流動
性を損なうことがあるためである。
本発明の特徴は(C)成分と(D)成分の両者を必須成
分とするところにあり、両者を単独で使用した場合に比
べ、両者を併用することで、耐熱衝撃性が良好になり、
成形時のしみ出しも発生しなくなる。
さらに、本発明の効果を適切に発生させるため(A)成
分又は(B)成分の一部又は全部と、(C)成分及び(
D)成分をあらかじめ、加熱混合することができる。加
熱混合の条件としては、特に限定するものではないが、
無溶剤下又は適当な溶剤を用いて室温〜180℃、1時
間〜10時間の範囲が好ましい、この条件下でベース樹
脂を構成する(A)成分又は(B)成分中に可撓剤であ
る(C)成分及び(D)成分を有効に分散させることが
できる。特に(C)成分の分散に際しては(D)成分が
重要な役割を果たしていると考えられる。すなわち、(
D)成分はベース樹脂と相溶性のあるポリアルキレンエ
ーテル部分と、(C)成分の固形シリコーンと親和性の
あるシリコーン骨格を有するため、(C)成分の分散性
を良好にし、結果として優れた特性を発揮できる。
また、本発明の電子部品封止用エボシキ樹脂成形材料に
は、無機質充填剤として、溶融シリカ、結晶シリカ、ア
ルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、
炭化珪素、窒化珪素、窒化ホウ素、ベリリア、マグネシ
ア、ジルコニア、フォルステライト、ステアタイト、ス
ピネル、ムライト、チタニアなどの粉体、及びチタン酸
カリウム、炭化珪素、窒化珪素、アルミナなどの単結晶
繊維、ガラス繊維などを1種類以上配合することができ
る。無機質充填剤の配合量としては、特に限定するもの
ではないが、40〜70容量%が好ましい。
また、本発明の電子部品封止用エポシ樹脂成形材料には
、三酸化アンチモンなどの難燃剤、高級脂肪酸、高級脂
肪酸金属塩、エステル系ワックスなどの離型剤、カーボ
ンブラックなどの着色剤、エポキシシラン、アミノシラ
ン、ビニルシラン、アルキルシラン、有機チタネート、
アルミニウムアルコレートなどのカップリング剤を使用
することができる。
以上のような原材料を用いて成形材料を作製する一般的
な方法としては、所定の配合量の原材料混合物をミキサ
ー等によって充分混合した後、熱ロール、押出機等によ
って混練し、冷却、粉砕することによって、成形材料を
得ることができる。
本発明で得られる成形材料を用いて電子部品を封止する
方法としては、低圧トランスファ成形法が最も一般的で
あるが、インジェクシッン成形、圧縮成形、注型などの
方法によっても可能である。
〔作用〕
本発明により耐熱衝撃性、耐熱性、成形性に優れたエポ
キシ樹脂成形材料が得られる理由は、CA)のエポキシ
樹脂および(B)のフェノール性水酸基を有する化合物
を主としたベース樹脂系に(C)の固形シリコーン微粒
子と(D)のポリアルキレンエーテル基を有する液状シ
リコーンを可撓剤として使用したことによると推察され
る。
(D)成分はベース樹脂と相溶性のあるポリアルキレン
エーテル部分と、(C)成分の固形シリコーンと親和性
のあるシリコーン骨格を有するため、(C)成分の分散
性を良好にし、結果として優れた特性を発揮できる。従
って、可撓剤として(C)成分と(D)成分の両者を必
須成分として使用することが要点となる。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明の範囲
はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例1 エポキシ当量220、軟化点78°Cのタレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂 80重量部、エポキシ当量37
5、軟化点80’C,臭素含量40重景%の臭素化ビス
フェノールA型エポキシ樹脂20重量部、水酸基当量1
06、軟化点83℃のフェノールホルムアルデヒドノボ
ラック樹脂44重量部、トリフェニルホスフィン1.5
重量部、カルナバワックス2重量部、二酸化アンチモン
8重量部、カーボンブラック1.5重量部、T−グリシ
ドキシプロビルトリメトキシシラン3重量部、石英ガラ
ス粉400重量部、及び可視剤としてジメチルシロキサ
ン単位を主成分とし、エポキシ基を1゜5重量%有する
、平均粒径12μmのシリコーンゴム粉末(I)10重
量部、エチレンオキシドとプロピレンオキシドの共重合
体(モル比1;1、分子量2000)とエポキシ基をそ
れぞれ側鎖基として有する、ポリエーテル分50重量%
、エポキシ当量3000のポリジメチルシロキサン(■
)10重量部を配合し、10インチ径の加熱ロールを使
用して、混練温度80〜90°C1混練時間7〜10分
の条件で混練した。その後、期末式粉砕機を用いて粉砕
し、エポキシ樹脂成形材料を作製した。
実施例2 実施例1のフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂
44重量部と、可撓剤として用いたシリコーンゴム粉末
(1)10重量部と液状シリコーン重合体(n)10重
量部をあらかじめトリフェニルホスフィン0.5重量部
とともに150°C,3時間加熱混合して使用した以外
は実施例1と同様に作製した。
実施例3 実施例1のシリコーンゴム粉末CI)10重量部をジメ
チルシロキサン単位を主成分とした平均粒径9μmのシ
リコーンゴム粉末(1)10重量部とした以外は実施例
1と同様に作製した。
実施例4 実施例3のフェノールホルムアルデヒドノボランク樹脂
44重量部と可撓剤として用いたシリコーンゴム粉末(
III)10重量部と液状シリコーン重合体(n)10
重量部をあらかじめトリフェニルホスフィン0.5重量
部とともに150°C13時間加熱混合して使用した以
外は実施例1と同様に作製した。
実施例5 実施例1のシリコーンゴム粉末(1)10重量部をCH
3−3i0371で示される構成単位を主成分とする平
均粒径5μmのシリコーン重合体粉末(IV)10重量
部とした以外は実施例1と同様に作製した。
実施例6 実施例5のフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂
44重量部と可撓剤として用いたシリコーン重合体粉末
(IV)10重量部と液状シリコーン重合体[■]10
重量部をあらかじめトリフェニルホスフィン0.5重量
部とともに150℃、3時間加熱混合して使用した以外
は実施例1と同様に作製した。
比較例1 実施例1の可撓剤(1)及び(II)を除いた以外は実
施例1と同様に作製した。
比較例2 比較例1に実施例1に使用した可撓剤(I)を20重量
部使用して実施例1と同様に作製した。
比較例3 比較例1に実施例3に使用した可撓剤(I[)を20重
量部使用して実施例1と同様に作製した。
表1に実施例及び比較例で得られた成形材料の特性を、
表2に特性評価法の詳細を示す。
この結果、実施例1〜6で得られた成形材料は可撓剤無
添加の比較例1と比べ、耐熱衝撃性が格段に向上し、成
形品外観、パリなど成形性も良好であり、耐熱性の指標
であるガラス転移温度の低下も少ない、これに対し、本
発明の(C)成分又は(D)成分を単独使用した比較例
2及び3はそれぞれ欠点がある。
従って、実施例のごとく(C)成分と(D)成分を併用
することで成形性、耐熱性が良好な耐熱衝撃性に優れた
成形材料が得られる。
〔発明の効果〕
本発明によって得られる電子部品封止用エポキシ樹脂成
形材料を用いてIC,LSIなどの電子部品を封止すれ
ば、実施例で示したように、樹脂に非相溶性の可撓剤を
使用した際に発生しやすい成形品外観の劣化など成形性
の問題点もなく、耐熱性、耐熱衝撃性の優れた製品を得
ることができ、その工業的価値は大である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(A)1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエ
    ポキシ樹脂、 (B)1分子中に2個以上のフェノール性水酸基を有す
    る化合物、 (C)平均粒径50μm以下の固形シリコーン重合体及
    び、 (D)ポリアルキレンエーテル基を有する液状シリコー
    ン重合体を必須成分としてなることを特徴とする電子部
    品封止用エポキシ樹脂成形材料。 2、(A)成分又は(B)成分の一部又は全部、と(C
    )成分及び(D)成分をあらかじめ、加熱混合してなる
    請求項1記載の電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料。
JP10196988A 1988-04-25 1988-04-25 電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料 Pending JPH01272624A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03167250A (ja) * 1989-11-27 1991-07-19 Matsushita Electric Works Ltd エポキシ樹脂組成物
US5319005A (en) * 1992-01-27 1994-06-07 Hitachi Chemical Co., Ltd. Epoxy resin molding material for sealing of electronic component
JP2004504436A (ja) * 2000-07-14 2004-02-12 アーベーベー・リサーチ・リミテッド ポリマーマトリックス樹脂をベースとする体積改質注型用材料

Cited By (3)

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JP2004504436A (ja) * 2000-07-14 2004-02-12 アーベーベー・リサーチ・リミテッド ポリマーマトリックス樹脂をベースとする体積改質注型用材料

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