JPH01266534A - 光及び熱硬化性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、プリント配線板の製造において永久保護皮膜
として使用するソルダーレジストとして好適な、光及び
熱硬化性組成物１こ関する。

（従来の技術） 光硬化性組成物は、プリント配線板の製造において、配
線パターン形成用のエツチングレジストやメツキレジス
ト、或いは半田マスク形成用等のソルダーレジストとし
て使用されている。

特に、光硬化性組成物を半田マスク形成用等のソルダー
レジストとして用いる場合は、永久保護皮膜として、酸
、アルカリ、有機溶剤に耐え、しかも２４０〜３２０℃
の半田浴へ３０〜１０秒浸漬した場合に、半田のもぐり
やマスクの浮き及びクラックが発生してはならないとい
う厳しい接着性や皮膜強度が要求される。

この種の光硬化性組成物として、例えば、特開昭５９−
４８７５２号公報には、アクリル系の線状高分子化合物
とアクリル系の光重合性単氷体とベンゾフェノンのよう
な光増感剤とを含有する基本の組成物に、イミダゾール
、チアゾール、テトラゾール、トリアゾール又はこれら
の誘導体と３−クロロ−２−アシッドフォスフオキシプ
ロピルメタクリレートのような光重合性不飽相結合を有
するリン酸化合物とを含有した組成物が開示されている
。

上記組成物は、光硬化と現像とを行なった後、さらに光
照射と加熱処理とを行ない、それにより半田耐熱性、接
着性、耐酸性、耐アルカリ性、耐溶剤性などの改善を意
図している。

ところが、かかる光硬化性組成物を使用して、光硬化と
現像後の光硬化と熱硬化とを完全に実施しても、未だ半
田耐熱性、接着性、耐溶剤性、耐アルカリ性及び皮膜強
度などが充分でなく、半田マスク形成用等のソルダーレ
ジストとしては問題がある。

又、ソルダーレジストは一般に溶剤に溶解して使用され
るが、保存中や塗布の際に溶剤が揮散してレジストの粘
度が増大しないように、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテルの如き高沸点の溶剤が使用されている。

ところが、かかる光硬化性組成物を使用すると予備乾燥
時に充分に溶剤が揮散せず、上記物性に悪影榔を与えて
いた。

（発明が解決しようとする課題） 本発明の目的は、上記欠点に鑑み、予備乾燥の際に溶剤
が容易に揮散し、得られたフィルムは半田耐熱性、接着
性、解像度、耐酸性、耐アルカリ性、′＃４溶剤性、皮
膜強度、及び表面硬度に優れ、ソルダーレジストとして
好適に使用できる光及び熱硬化性組成物を提供すること
にあ本発明の硬化性組成物は、側鎖にエチレン性不飽和
基とカルボキシル基を有する線状高分子化合物（ａｌを
必須成分として含有する。

かかる線状高分子化合物としては、側鎖にエチレン性不
飽和基とカルボキシル基を有していれば任意の線状高分
子化合物が使用できるが、（メタ）アクリル酸メチル、
（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル
、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）ア
クリル酸２−ヒドロキシエチル等の（メタ）アクリル酸
エステルと（メタ）アクリル酸との共重合体に、（メタ
）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸クロライ
ド、（メタ）アクリル酸等を反応させて得られたアクリ
ル系線状高分子化合物が好ましく、又その重量平均分子
量は１０００〜１０００００が好ましく、より好ましく
は５０００〜２００００である。

そして、上記の線状高分子化合物は、硬化性組成物中に
１０〜９０重量％、好ましくは２０〜５０重量％含有さ
れる。

また、本発明の硬化性組成物は、末端にエチレン性不飽
和基を少なくとも二個有する光重合性単量体（ｂｌを必
須成分として含有する。

かかる光重合性単量体としては、常圧で１００℃以上の
沸点を有する多価アルコールの（メタ）アクリル酸エス
テルが好適に用いられ、例えば、エチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ
）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネ
オベンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパン（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレートなどがある。

なお、上記の光重合性単量体は、ｉｌｌもしくは２種以
上が用いられ、特に２種以上を組合わせて用いると、組
成物の重合反応性や硬化皮膜の物性を調整するのに有効
である。また、上記の光重合性単量体には、エチレン性
不飽和基を１個有する光重合性単量体が一部含有されて
いてもよく、平均としてエチレン性不飽和基を２個以上
含有していればよい。

そして、これらの光重合性単量体は、組成物中に５〜９
０重量％、好ましくは１０〜５０重量％含有される。

また、本発明の硬化性組成物は、分子中にエポキシ基を
少なくとも二個有するエポキシ樹脂ｉｃｌを必須成分と
して含有する。

かかるエポキシ樹脂としては、重量平均分子量が好まし
くは１００〜１００００．より好ましくは３００〜４０
００のものが用いられ、例えばビスフェノールＡ型エポ
キシｒｄ脂（エピコート８２８、エピコー）　１００１
．油化シェルエポキシ社製）、ノボラック型エポキシ樹
脂（ＹＤｌｉＮ−６３８、Ｙ　Ｄ　ＣＮ　−７０４、東
部化成社製）、臭素化型エポキシ樹脂（ＹＤＢ−３４０
、ＹＤＢ−４００、東部化成社製）、グリシジルエステ
ル型（エポキシ樹脂ＣＹ−１８４、ＣＹ−１９２、日本
チバガイギー社製）などがある。

なお、上記のエポキシ樹脂は、ｌｆｉもしくは２種以上
が用いられ、特に２種以上を組合わせて用いると、組成
物の現像性や硬化皮膜の物性を調整するのに有効である
。また、上記のエポキシ樹脂には、分子中にエポキシ基
を１個有するエポキシ樹脂が一部含有されていてもよく
、平均としてエポキシ基を２個以上含有していればよい
１、 そして、これらのエポキシ樹脂は、組成物中に１〜９０
重量％、好ましくは５〜６０重皿％　　−含有される。

また、本発明の硬化性組成物は、光増感剤（ｄｌを必須
成分として含有する。

かかる光増感剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、２−エ
チルアントラキノンなどの芳香族カルボニル化合物；ｐ
−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ
安息香酸エチルなどのジアルキルアミノ安息香酸エステ
ル；チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−
クロロチオキサントン、２．４−ジエチルチオキサント
ンなどのチオキサントン誘導体；９−フェニルアクリジ
ン、９−ｐ−メトキシフェニルアクリジンなどのアクリ
ジン誘導体、９．１０ジメチルベンズフエナジンなどの
フェナジン誘導体；ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｔ
−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、キ
ュメンハイドロパーオキサイドなどの有機過酸化物；コ
バルトアセチルアセトネート、ナフテン酸コバルト、ナ
フテン酸亜鉛なとの錯体化合物などが好適に用いられる
。

なお、上記の光増感剤は、１種もしくは２１以上が用い
られ、特に２種以上を組合わせて用いると、組成物の重
合開始効率の改善や露光時間の短縮を行なうことができ
る。

そして、上記の光増感剤は、組成物中に０．０１〜１５
重凰％、好ましくは０．１〜１０ｉｉ量％含有される。

また、本発明の硬化性組成物は、熱硬化剤（ｅｌを必須
成分として含有する。

かかる熱硬化剤としては、２−エチル−４−メチルイミ
ダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、１−ベンジ
ル−２−メチルイミダゾール、ｌ−シアノエチル−２−
エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−
２−ウンデシルイミダゾリウム・トリメリテート、２−
メチルイミダゾリウム・イソシアヌレート、２−フェニ
ルイミダゾリウム・イソシアヌレート、２−フェニル−
４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾールなどのイミダ
ゾール系の熱硬化剤が好適に用いられる。

そして、これらの熱硬化剤は、ｉｌｌ又は２種以上が組
成物中にα０１〜１５重量％、好ましくはα１〜１０重
量％含有される。

本発明の硬化性組成物は、低沸点溶剤（ｆｌを必須成分
として含有する。低沸点溶剤の沸点は高くなると揮散し
にく（なるので、１２０℃未満であり、誘電率が高くな
ると線状高分子化合物ｆａｌと溶剤（ｆｌの相溶性が増
し、組成物の粘度の溶剤に対する依存性が大きくなり、
溶剤の揮散によって組成物の粘度が変化しやすくなるの
で誘電率（２０℃）は５以下に限定される。

かかる低沸点溶剤としては、ベンゼン、四塩化炭素、エ
チルエーテル、シクロヘキサン、二１１１ｔｔ　化炭Ｒ
、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ　−ヘプタン、クロ
ロホルム、トルエン、チオフェンなどがある。

そして、上記低沸点溶剤は、組成物中にα０１〜１０重
量％、好ましくは０．１〜５重量％含有される。

本発明の硬化性組成物は、以上の必須成分に加えて、必
要に応じてハイドロキノンなどの重合禁止剤、珪酸マグ
ネシウム（タルク）などの充填剤、シリカなどの増粘剤
、フタロシアニングリーンなどの着色剤、その他可塑剤
、密着改良剤などの添加剤を副次的な成分として含有し
ていてもよい。

本発明の硬化性組成物は、例えば次のように使用される
。

まず、線状高分子化合物（ａｌと光重合性単産体（ｂｌ
とエポキシ樹脂（ｃｌと光増感剤（ｄｌと熱硬化剤（ｅ
ｌと低肺点溶剤（ｆｌ及び必要に応じてその他の添加剤
とを、有機溶剤に一般１こ１０〜８０重ゑ％となるよう
に溶解又は一部分数した混合液を調製する。

上記の有機溶剤としては、ジエチレングリコール七ツメ
チルエーテル、ジエチレレングリコールモノブチルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコー
ル七ツメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテルアセテートなどが用いられる。

つぎに、これを保護すべき銅張りａ層板のような基板上
１こ塗布し一般に５０〜８０℃の温度で乾燥し、基板上
に硬化性組成物の皮膜を形成し、これに配線パターンの
ような陰画を通して紫外線などの活性光線を照射し、露
光部分の皮膜を光重合により硬化させる。活性光線の光
量は一般に５００〜１０００　ｍ　Ｊ　／　ｔｘＡとさ
れる。

ついで、１重量％程度の炭酸ナトリウム水溶液などのア
ルカリ水溶液を用いて、未露光部分の皮膜を溶出させ、
陰画に相応する画像を基板上に現像する。しかる後、一
般に１００〜２００℃の温度で、１０〜６０分間程度加
熱し、硬化皮膜を熱重合と架橋によりさらに硬化させる
。

かくして、基板上に永久保護皮膜が形成される。

（作用） 本発明の硬化性組成物は、上記のように、保護すべき基
板上に塗布され、予備乾燥されると溶剤は速やかに揮散
されてしまい皮膜上に形成され、これに陰画を通じて活
性光線が照射されると、露光部の硬化性皮膜中の光重合
性単量体（ｂｌが光増感剤（ｄ目こより活性化され、光
重合して硬化する。また、線状高分子化合物［ａｌは、
側鎖にエチレン性不飽和結合を有するので、それにより
線状高分子化合物同志が架橋し、基板との良好な密着性
が発現する。

次いで、未露光部をアルカリ水溶液を用いて溶出して現
像すると、線状高分子化合物（ａｔは、側鎖にカルボキ
シル基を有するので、それにより線状高分子化合物がア
ルカリ水溶ｇ＋こ容易に溶出され、未露光部の皮膜が全
体として良好に除去される。また、この良好な未硬化皮
膜の溶出性と良好な硬化皮膜の密着性と１こより解像度
が向上する。

しかる後、これを加熱処理すると、上記露光部の硬化皮
膜中のエポキシ樹脂（ｃｌが、熱硬化剤により活性化さ
れ、熱重合して硬化する。また、線状高分子化合物（ａ
ｌ　Ｏ’４カルボキシル基とエポキシ樹脂（ｅｌのエポ
キシ基とが反応し、さらｌこ高度な架橋構造が生じ、そ
れにより半田耐熱性、接着性、耐酸性、耐アルカリ性、
耐溶剤性、皮膜強度及び表面硬度が向上する。また、光
増感剤による光硬化と熱硬化剤薯こよる熱硬化とを併用
することにより、硬化時間が短縮される。

（実施例） 以下、本発明の実施例及び比較例を説明する。

なお、実施例及び比較例において、部とあるのは全て重
量部を示す。

実施例１ 線状高分子化合物〔メタクリル酸メチＺｏｏ部ル／メタ
クリル酸２−ヒドロキシエチ ル／アクリル酸２−エチルヘキシル／ アクリル酸（成分重量比３０／１０／２０／４０）の共
重合体１００ｗ６にアクリル酸グリシジル４０部を反応
させたもの、ＭＷ −１１８００、Ｍ　ｗ　／　Ｍ　ｎ　＝　２．１、酸価
１１５．２重合結合／１分子＝１２個〕２．４−ジエチ
ルチオキサントン　　　　８部ｐ−ジメチルアミノ安息
香酸エチル　　　１６部微粒子状シリカ（アエロジル３
冗０、日　　２５部本アエロジル社製） １−シアノエチル−２−エチル−４２，５部−メチルイ
ミダゾール ハイドロキノン　　　　　　　　　　　　８部フロタシ
アニングリーン　　　　　　　２部ジエチレングリコー
ルモノブチルエ　１２０　Ｎ−チル 無水ケイ酸マグネシウム（ＣＴＨ−１２５、７０部日本
タルク社製） 上記配合物を３本ロールミルで混合して主組成物を調製
した。

ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（工　　２５部ピコ−
）　８２８　、油化シェルエポキシ社製）クレゾールノ
ボラック型エポキシ樹脂　　３６部（Ｙ　Ｄ　ＣＮ　７
０４、東部化成社製）テトラエチレングリコールジアク
リレ　　２５部−ト ペンタエリスリトールトリアクリレ−２５部ト ヘンゼベ１点８（１１’ｃ、誘電率２２８　８部（２０
℃）〕 上記配合物を混合して副組成物を調製した。

上記の主組成物と副組成物とを混合攪拌して、光及び熱
硬化性組成物を膚製し、これをプリント配線板用の銅張
り積層板（銅厚５０μｍ）の表面に塗布し、７０℃で２
０分間乾燥して厚さ３０μｍの皮膜を形成した。これ８
ζ、真空枠中で解像度テストパターンを有する陰画を密
着させ、高圧水銀灯により７００ｍＪ　／−の紫外線を
照射した。

次いで、陰画を剥がし、３０℃、１重量％の炭酸ナトリ
ウム水溶液を３０秒間スプレーして未露光部の皮膜を溶
出し現像を行った。しかる後、１５０℃で３０分間熱処
理を行ない、陰画に相応する硬化した永久保護皮膜を得
た。解像度は、解像度テストパターンの３０μｍの画像
まで正確に画像が再現された。

尚、得られた光及び熱硬化性組成物の粘度は２０．０Ｏ
ＯＣＰＳ（Ｅ型粘度計、１　ｒｐｍ　）であり、塗布後
の粘度は２０，５００ＣＰＳ（Ｅ型粘度計、ｌｒｐｍ）
であった。又、塗布乾燥後の指触乾燥性は非常に良く、
陰画の位置合せ及び修正が非常に容易であった。

上記の永久保護皮膜は、メチルエチルケトン、アセトン
、クロロホルム、トリクレン、メタノール、イソプロパ
ツール、トルエン、ベンゼン、キシレン及び２０重球形
硫酸水溶液に、それぞれ１０時間浸漬しても伺の変化も
なく、さらにｂＨ１２の水酸イはトリウム水溶液１こ１
時間浸漬しても、クラック、白化、銅箔からの剥離など
の異常は認められなかった。

また、６０分間隔で一６５℃と１２５℃の冷却加熱を５
０回繰り返しく冷熱衝撃テスト、ＭＩＬ−３ＴＤ−２０
２Ｆ１０７Ｇ、条件Ｂ）、さらに２６０．’Ｃの半田浴
１こ２分間浸漬しても何の変化もなく、そのときの鉛筆
硬度は７Ｈであった。

実施例２ ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（エビ　３３部：ｌ−
ト８２８　、油化シェルエポキシ社製）タレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂　　３６部（ｙ　Ｄ　ＣＮ　７０
４　、東部化成社製）テトラエチレングリコールジアク
リレ−２５部ト トリ ペ　ン　タ　エ　リ　ス　リ　ト　−ルＶア　り　リ　
レー　）　　　　　　　２５Ｎ＋シクロヘキサン〔沸点
８Ｑ７℃、誘電率　１０部２．０２（２０℃）〕 上記配合物を混合して副組成物を調製した。

や 上記の副組成物と実施例で調製した主組成物とを混合攪
拌して、光及び熱硬化性組成物を調製し、以後実施例１
と全く同じ条件で永久保護皮膜を得た。解像度は、解像
テストパターンの４０μｍの画線まで正確に画像が再現
された。

尚、得られた光及び熱硬化性組成物の粘度は１７．０Ｏ
ＯＣＰＳＣＥ型粘度計、１　ｒｐｍ　）であり、塗布後
の粘度は１８，０ＯＯＣＰＳ（Ｅ型粘度計、ｌｒｐｍ）
であった。又、塗布乾燥後の指触乾燥性は非常に良く、
陰画の位置合せ及び修正が非常に容易であった。

上記の永久保護皮膜は、メチルエチルケトン、アセトン
、クロロホルム、トリクレン、メタノール、イソフロパ
ノール、トルエン、ベンゼン、キシレン及び２０重量％
硫酸水溶液に、それぞ漬しても、クラック、白化、銅箔
からの剥離などの異常は認められなかった。

また、６０分間隔で一６５℃と１２５℃の冷却加熱を５
０回繰り返しく冷熱衝撃テスト、ＭＩＬ−８ＴＤ−２０
２Ｆ１０７Ｇ１条件Ｂ）、さらに２６０℃の半田浴に２
分間浸漬しても何の変化もなく、そのときの鉛筆硬度は
７Ｈであった。

比較例１ ビスフェノールＡ型エポキシｍ脂（エビ　３３部ココ−
８２Ｂ、油化シェルエポキシ社製）クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂　　３６部（Ｙ　Ｄ　ＣＮ　７０４、
東部化成社製）テトラエチレングリコールジアクリレ−
２５部ト ペンタエリスリ　トールトリアクリレート　　２５部ベ
ンゼン〔沸点８０．１℃、誘電率２．２８　４０部（２
０℃〕〕 上記配合物を混合して副組成物を調製した。

上記副組成物と実施例１で調製した主組成物とを混合攪
拌して、光及び熱硬化性組成物を調製し、以後実施例１
と同様にして永久保護皮膜を得た。解像度は、解像テス
トパターンの７０μｍの画像まで正確に画像が再現され
た。

尚、得られた光及び熱硬化性組成物の粘度は６．０ＯＯ
ＣＰＳ　（Ｅ型粘度計、１　ｒｐｍ　）であり、塗布後
の粘度は１０，０ＯＯＣＰＳ（Ｅ型粘度針、ｌｒｐｍ）
であった。

上記の永久保護皮膜は、メチルエチルケトン、アセトン
、クロロホルム、トリクレン、メタノール、イソプロパ
ツール、トルエン、ベンゼン、キシレン及び２０％硫酸
水溶液１こ、それぞれ１０時間浸漬すると銅箔からの剥
離が少し生じ、さらにＰＨ１２の水酸化ナトリウム水１
１こ１時間浸漬すると、白化及び銅箔からの剥離が生じ
た。

また、６０分局隔で一６５℃と１２５℃の冷却加熱を５
回繰り返すと、クラックが発生し、又、２６０℃の半田
浴に２分間浸漬すると、皮膜に変色が発生し、そのとき
の鉛筆硬度は７Ｈであった。

比較例２ 線状高分子化合物〔ポリブタジェン（Ｎｌ５ＳＯ−ＰＢ
Ｃ−１０００、日本曹達社製）／ビスフェノールＡ型エ
ポキシ樹脂（エピコート８２８、油化シェルエポキシ社
製）／アクリル酸（成分重量比４３．３　／　４３．３
７１３．４　）の共重合体Ｚｏ。

部に無水マレイン酸１０部を反応させたもの〕１００部 ベンジルジメチルチタール　　　　　　　　４部２．７
−ジイツプロピルチオキサントン　　　２部ジメチルア
ミノ安息香酸ジイソプロピル　０．５部フタロシアニン
自ルー　　　　　　　　　α２部酢酸ブチル〔沸点１２
６．３℃、誘電率５．０　１００部（２０℃）〕 上記配合の組成物をプリント配線板用の銅張り積層板（
＃Ｒ板５０μｍ）の表面Ｉこ塗布し、７０℃で２０分間
乾燥して厚さ３０μｍの皮膜を形成した。これ：こ真空
枠中で解像度テストパターンを有する陰画を密着させ、
高圧水銀灯により７００ｍＪ／ｍの紫外線を照射した。

次いで、陰画を剥がし、３０℃、１重量％の炭酸ナトリ
ウム水溶液を３０秒間スプレーして未露光部の皮膜を溶
出し現像を行った。しかる後、８０℃で２０分間加熱処
理した後、３Ｊ／ｄの紫外線を照射し１６０℃で４０分
間熱処理を行ない、陰画に相応する硬化した永久保護皮
膜を得た。解像度は、解像テストパターンの８０μの画
像までしか再現できなかった。

尚、塗布乾燥後の皮膜は酢酸ブチルを含んでおり、指触
乾燥性は悪く、陰画に付着し、位置合せ及び修正が困難
であった。

上記の永久保護皮膜は、メチルエチルケトン、アセトン
、クロロホルム、トリクレン、メタノール、イソプロパ
ツール、トルエン、ベンゼン、キシレン及び２０９６硫
酸水溶液に、それぞれ１０時間浸漬すると銅箔からの剥
離が生じ、さらにＰＨ１２の水酸化ナトリウム水溶液に
１時間浸漬すると、白化及び銅箔からの剥離が生じた。

また、実施例１と全く同じ条件で、冷熱衝撃テストと半
田浴浸漬テストを行ったが、実施例１と同様な結果が得
られ、何の変化もなく、そのときの鉛筆硬度は６Ｈであ
った。

（発明の効果） 本発明の光及び熱硬化性組成物は、上述の如き構成であ
るので、例えば、プリント配線板の製造番こおける半田
マスク形成用等のソルダーレジストとして使用すると、
塗布乾燥する際に溶剤が容易に揮散し、乾燥皮膜の指触
乾燥性がすぐれ、皮膜上への陰画の位置合せ及び修正が
非常番と良く、硬化後は半田耐熱性、接着性、解像度、
耐酸性、耐アルカリ性、耐溶剤性、皮膜強度及び表面硬
度の優れた永久保護皮膜を形成することができる。

また、溶剤を使用せずにアルカリ水溶液での現像が可能
で、作業環境が改善される。また、組成物の硬化時間の
短縮が可能で、生産性の向上φ消費エネルギーの節減が
なし得る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）側鎖にエチレン性不飽和基とカルボキシル基
   を有する線状高分子化合物１０〜９０重量％、 （ｂ）末端にエチレン性不飽和基を少なくとも二個有す
   る光重合性単量体５〜９０重量％、 （ｃ）分子中にエポキシ基を少なくとも二個有するエポ
   キシ樹脂１〜９０重量％、 （ｄ）光増感剤０．０１〜１５重量％、 （ｅ）熱硬化剤０．０１〜１５重量％及び （ｆ）沸点が１２０℃未満で誘電率が５以下（２０℃）
   の低沸点溶剤０．０１〜１０重量％ からなる光及び熱硬化性組成物。