JPH01266533A - 光及び熱硬化性組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
- H05K3/287—Photosensitive compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、プリント配線板の製造において永久保護皮膜
として使用するソルダーレジストとして好適な、光及び
熱硬化性組成物に関する。
として使用するソルダーレジストとして好適な、光及び
熱硬化性組成物に関する。
(従来の技術)
光硬化性組成物は、プリント配線板の製造1こおいて、
配線パターン形成用のエツチングレジストやメツキレジ
スト、或いは半田マスク形成用等のソルダーレジストと
して使用されている。
配線パターン形成用のエツチングレジストやメツキレジ
スト、或いは半田マスク形成用等のソルダーレジストと
して使用されている。
特に、光硬化性組成物を半田マスク形成用等のソルダー
レジストとして用いる場合は、永久保護皮膜として、酸
、アルカリ、有機溶剤に耐え、しかも240〜320℃
の半田浴へ30〜10秒浸漬した場合に、半田のもぐ・
りやマスクの浮き及びクラックが発生してはならないと
いう厳しい接着性や皮膜強度が要求される。
レジストとして用いる場合は、永久保護皮膜として、酸
、アルカリ、有機溶剤に耐え、しかも240〜320℃
の半田浴へ30〜10秒浸漬した場合に、半田のもぐ・
りやマスクの浮き及びクラックが発生してはならないと
いう厳しい接着性や皮膜強度が要求される。
この種の光硬化性組成物として、例えば、特開昭61−
59447号公報には、ノボラック型エポキシ樹脂のエ
ポキシ基の一部をアクリレート化したハーフエステル、
光重合性単量体、線状高分子化合物、光増感剤及び有機
過酸化物よりなる樹脂組成物にタクルを添加した光硬化
性組成物が記載されている。
59447号公報には、ノボラック型エポキシ樹脂のエ
ポキシ基の一部をアクリレート化したハーフエステル、
光重合性単量体、線状高分子化合物、光増感剤及び有機
過酸化物よりなる樹脂組成物にタクルを添加した光硬化
性組成物が記載されている。
上記組成物は、光硬化と現像とを行なった後。
さらIこ光照射と加熱処理とを行ない、それにより半田
耐熱性、接着性、耐酸性、耐アルカリ性、耐溶剤性など
の改善を意図している。
耐熱性、接着性、耐酸性、耐アルカリ性、耐溶剤性など
の改善を意図している。
ところが、かかる光硬化性組成物を使用して、光硬化と
現像後の光硬化と熱硬化とを完全に実施しても、未だ半
田耐熱性、接着性、耐溶剤性、耐アルカリ性及び皮膜強
度などが充分でなく、半田マスク形成用等のソルダーレ
ジストとしては問題があった。
現像後の光硬化と熱硬化とを完全に実施しても、未だ半
田耐熱性、接着性、耐溶剤性、耐アルカリ性及び皮膜強
度などが充分でなく、半田マスク形成用等のソルダーレ
ジストとしては問題があった。
(発明が解決しようとする課II)
本発明は、上記の問題点を解決するものであり、その目
的とするところは、半田耐熱性、接着性、解像度、耐酸
性、耐アルカリ性、耐溶剤性、皮膜強度、及び表面硬度
に優れた硬化性組成物を提供することにある。
的とするところは、半田耐熱性、接着性、解像度、耐酸
性、耐アルカリ性、耐溶剤性、皮膜強度、及び表面硬度
に優れた硬化性組成物を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明の硬化性組成物は、側鎖にエチレン性不飽和基と
カルボキシル基を有する線状高分子化合物(alを必須
成分として含有する。
カルボキシル基を有する線状高分子化合物(alを必須
成分として含有する。
かかる線状高分子化合物としては、側鎖にエチレン性不
飽和本とカルボキシル基を有していれば任意の線状高分
子化合物が使用できるが、(メタ)アクリル酸メチル、
(メタ)アクリル酸エチ −ル、(メタ)アクリル酸
ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メ
タ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル等の(メタ)アク
リル酸エステルと(メタ)アクリル酸との共重合体に、
(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸
クロライド%(メタ)アクリル酸等を反応させて得られ
たアクリル系線状高分子化合物が好ましく、又その重量
平均分子量は1000〜100000が好ましく、より
好ましくは5000〜20000である。
飽和本とカルボキシル基を有していれば任意の線状高分
子化合物が使用できるが、(メタ)アクリル酸メチル、
(メタ)アクリル酸エチ −ル、(メタ)アクリル酸
ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メ
タ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル等の(メタ)アク
リル酸エステルと(メタ)アクリル酸との共重合体に、
(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸
クロライド%(メタ)アクリル酸等を反応させて得られ
たアクリル系線状高分子化合物が好ましく、又その重量
平均分子量は1000〜100000が好ましく、より
好ましくは5000〜20000である。
そして、上記の線状高分子化合物は、硬化性組成物中に
好ましくは10〜90!1%、より好ましくは20〜5
0重量%含有される。
好ましくは10〜90!1%、より好ましくは20〜5
0重量%含有される。
また、本発明の硬化性組成物は、末端にエチレン性不飽
和基を少なくとも二個有する光重合性単量体(b)を必
須成分として含有する。
和基を少なくとも二個有する光重合性単量体(b)を必
須成分として含有する。
かかる光重合性単量体としては、常圧で100℃以上の
沸点を有する多価アルコールの(メタ)アクリル酸エス
テルが好適に用いられ、例えば、エチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ
)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパン(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレートなどがある。
沸点を有する多価アルコールの(メタ)アクリル酸エス
テルが好適に用いられ、例えば、エチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ
)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパン(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレートなどがある。
なお、上記の光重合性単量体は、1種もしくは2種以上
が用いられ、特に2種以上を組合わせて用いると、組成
物の重合反応性や硬化皮膜の物性を調整するの番こ有効
である。また、上記の光重合性単量体1こは、エチレン
性不飽和基を1(H有する光重合性単量体が一部含有さ
れていてもよく、平均としてエチレン性不飽和基を2個
以上含有していればよい。
が用いられ、特に2種以上を組合わせて用いると、組成
物の重合反応性や硬化皮膜の物性を調整するの番こ有効
である。また、上記の光重合性単量体1こは、エチレン
性不飽和基を1(H有する光重合性単量体が一部含有さ
れていてもよく、平均としてエチレン性不飽和基を2個
以上含有していればよい。
そして、これらの光重合性単量体は、組成物中に好まし
くは5〜90重量%、より好ましくは10〜50重量%
含有される。
くは5〜90重量%、より好ましくは10〜50重量%
含有される。
また、本発明の硬化性組成物は、分子中にエポキシ基を
少なくとも二個有するエポキシ樹脂(c)を必須成分と
して含有する。
少なくとも二個有するエポキシ樹脂(c)を必須成分と
して含有する。
かかるエポキシ樹脂としては、重量平均分子量が好まし
くは100〜10000、より好ましくは300〜40
00のものが用いられ、例エバとスフ二ノールA型エポ
キシmjl?(エヒコ−1828、エピコート1001
.油化シェルエポキシ社製)、ノボラック型エポキシ樹
脂(υ YD品N−638、YDCN−704、東部化成社製)
、臭素化型エポキシ樹脂(YDB−340、YDB−4
00、東部化成社製)、グリシジルエステル型エポキシ
樹脂(CY−184、CY−192、日本チバガイギー
社製)などがある。
くは100〜10000、より好ましくは300〜40
00のものが用いられ、例エバとスフ二ノールA型エポ
キシmjl?(エヒコ−1828、エピコート1001
.油化シェルエポキシ社製)、ノボラック型エポキシ樹
脂(υ YD品N−638、YDCN−704、東部化成社製)
、臭素化型エポキシ樹脂(YDB−340、YDB−4
00、東部化成社製)、グリシジルエステル型エポキシ
樹脂(CY−184、CY−192、日本チバガイギー
社製)などがある。
なお、上記のエポキシ樹脂は、1flもしくは2f!1
以上が用いられ、特に2a1以上を組合わせて用いると
、組成物の現像性や硬化皮膜の物性を調整するのに有効
である。また、上記のエポキシ樹脂Iこは、分子中にエ
ポキシ基を1個有するエポキシ樹脂が一部含有されてい
てもよく、平均としてエポキシ基を2個以上含有してい
ればよい。
以上が用いられ、特に2a1以上を組合わせて用いると
、組成物の現像性や硬化皮膜の物性を調整するのに有効
である。また、上記のエポキシ樹脂Iこは、分子中にエ
ポキシ基を1個有するエポキシ樹脂が一部含有されてい
てもよく、平均としてエポキシ基を2個以上含有してい
ればよい。
そして、これらのエポキシ樹脂は、組成物中1【好まし
くは1〜90重量%、より好ましくは5〜60重量%含
有される。
くは1〜90重量%、より好ましくは5〜60重量%含
有される。
また、本発明の硬化性組成物は、光増感剤(d)を必須
成分として含有する。
成分として含有する。
かかる光増感剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、2−エ
チルアントラキノンナトの芳香族カルボニル化合物+p
−ジメチルアミ7安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ
安息香酸エチルなどのジアルキルアミノ安息香酸エステ
ル;チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−
クロロチオキサントン、2.4−ジエチルチオキサント
ンなどのチオキサントン誘導体;9−フェニルアクリジ
ン、9−p−メトキシフェニルアクリジンなどのアクリ
ジン誘導体、9.10−ジメチルベンズフェナジンなど
のフェナジン誘導体;ベンゾイルパーオキサイド、ジ−
t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、
キニメンハイドロパーオキサイドなどの有機過酸化物;
コバルトアセチルアセトネート、ナフテン酸コバルト、
ナフテン酸亜鉛などの錯体化合物などが好適に用いられ
る◇な詔、上記の光増感剤は、I81もしくは2種以上
が用いられ、特1ζ2ali以上を組合わせて用いると
、組成物の重合開始効率の改善や露光時間の短縮を行な
うことができる。
トン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、2−エ
チルアントラキノンナトの芳香族カルボニル化合物+p
−ジメチルアミ7安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ
安息香酸エチルなどのジアルキルアミノ安息香酸エステ
ル;チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−
クロロチオキサントン、2.4−ジエチルチオキサント
ンなどのチオキサントン誘導体;9−フェニルアクリジ
ン、9−p−メトキシフェニルアクリジンなどのアクリ
ジン誘導体、9.10−ジメチルベンズフェナジンなど
のフェナジン誘導体;ベンゾイルパーオキサイド、ジ−
t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、
キニメンハイドロパーオキサイドなどの有機過酸化物;
コバルトアセチルアセトネート、ナフテン酸コバルト、
ナフテン酸亜鉛などの錯体化合物などが好適に用いられ
る◇な詔、上記の光増感剤は、I81もしくは2種以上
が用いられ、特1ζ2ali以上を組合わせて用いると
、組成物の重合開始効率の改善や露光時間の短縮を行な
うことができる。
そして、上記の光増感剤は、組成物中に好ま、しくは0
.01〜15重量%、より好ましくは0.1〜10重量
%含有される。
.01〜15重量%、より好ましくは0.1〜10重量
%含有される。
また、本発明の硬化性組成物は、層間1ζ熱硬化剤を含
有する層状鉱物(e)を必須成分として含有する。
有する層状鉱物(e)を必須成分として含有する。
かかる層状鉱物としては、タルク、カオリナイト、ベン
トナイト、ハロイサイト、パイロフィライト等の鉱物を
焼成して層間1こ結合した結合水を遊離拡散したもの、
モンモリロナイトサボナイト、バーミキュライト、雲母
等の鉱物の眉間にアルカリ土類金属等の交換性陽イオン
が供給されたもの等が好適に用いられる。層状鉱物の大
きさは平均粒径が0.1−100μmが好ましく、より
好ましくは1−10μmである。
トナイト、ハロイサイト、パイロフィライト等の鉱物を
焼成して層間1こ結合した結合水を遊離拡散したもの、
モンモリロナイトサボナイト、バーミキュライト、雲母
等の鉱物の眉間にアルカリ土類金属等の交換性陽イオン
が供給されたもの等が好適に用いられる。層状鉱物の大
きさは平均粒径が0.1−100μmが好ましく、より
好ましくは1−10μmである。
又、かかる熱硬化剤としては、2−エチル−4−メチル
イミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、l−ベ
ンジル−2−メチルイミダソー/17,1−シアンエチ
ル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノ
エチル−2−ウンデシルイミダゾリウム会トリメリテー
ト、2−メチルイミダゾリウム。インシアヌレート、2
−フェニルイミダゾリウム・イソシアヌレート、2−フ
ェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾールなど
のイミダゾール系の熱硬化剤が好適に用いられる。
イミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、l−ベ
ンジル−2−メチルイミダソー/17,1−シアンエチ
ル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノ
エチル−2−ウンデシルイミダゾリウム会トリメリテー
ト、2−メチルイミダゾリウム。インシアヌレート、2
−フェニルイミダゾリウム・イソシアヌレート、2−フ
ェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾールなど
のイミダゾール系の熱硬化剤が好適に用いられる。
層状鉱物の層間に熱硬化剤を6有させるには任意の方法
が採用されてよく、たとえば、熱硬化剤をメチルエチル
ケトン、ジメチルケトン、テトラヒドロフラン、アセト
ン、ヘキサン等の有機溶剤に溶解し、得られた溶液1こ
層状鉱物を浸漬、撹拌した後乾燥する方法があげられる
。
が採用されてよく、たとえば、熱硬化剤をメチルエチル
ケトン、ジメチルケトン、テトラヒドロフラン、アセト
ン、ヘキサン等の有機溶剤に溶解し、得られた溶液1こ
層状鉱物を浸漬、撹拌した後乾燥する方法があげられる
。
上記層状鉱物は、組成物中1こ好ましくは5〜90重量
%、より好ましくは10〜50重量%含有される。
%、より好ましくは10〜50重量%含有される。
又、上記熱硬化剤は、1種又は2種以上が組成物中に好
ましくは0.01〜15重量%、より好ましくは0.1
〜10重量%含有される。
ましくは0.01〜15重量%、より好ましくは0.1
〜10重量%含有される。
従って両者の添加量を調整するためには熱硬化剤を層状
鉱物に含有させる際に熱硬化剤溶液の濃度を変化させれ
ばよい。
鉱物に含有させる際に熱硬化剤溶液の濃度を変化させれ
ばよい。
本発明の硬化性組成物は、以上の必須成分に加えて、必
要1ζ応じてハイドロキノンなどの重合禁止剤、含水珪
酸マグネシウム(タルク)などの充填剤、シリカなどの
増粘剤、フタロシアニングリーンなどの着色剤、その他
可塑剤、密着改良剤などの添加剤を副次的な成分として
含有していてもよ゛い。
要1ζ応じてハイドロキノンなどの重合禁止剤、含水珪
酸マグネシウム(タルク)などの充填剤、シリカなどの
増粘剤、フタロシアニングリーンなどの着色剤、その他
可塑剤、密着改良剤などの添加剤を副次的な成分として
含有していてもよ゛い。
本発明の硬化性組成物は、例えば次のように使用される
。
。
まず、線状高分子化合物(alと光重合性単量体(bl
とエポキシ樹脂(clと光増感剤(alと層状鉱物(e
)及び必要1こ応じてその他の添加剤とを、有機溶剤に
一般に10〜80重量%となるように溶解又は一部分数
した混合液を調製する。
とエポキシ樹脂(clと光増感剤(alと層状鉱物(e
)及び必要1こ応じてその他の添加剤とを、有機溶剤に
一般に10〜80重量%となるように溶解又は一部分数
した混合液を調製する。
上記の有機溶剤としては、ジエチレングリコール七ツメ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール
七ツメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール
モノブチルエーテルアセテートなどが用いられるO つぎに、これを保護すべき銅張り積層板のような基板上
1こ塗布し一般に50〜80℃の温度で乾燥し、基板上
に硬化性組成物の皮膜を形成し、これに配線パターンの
ような陰画を通して紫外線などの活性光線を照射し、露
光部分の皮膜を光重合により硬化させる。活性光線の光
量は一般に500〜10QOmJ/cdとされる。
チルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコール
七ツメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール
モノブチルエーテルアセテートなどが用いられるO つぎに、これを保護すべき銅張り積層板のような基板上
1こ塗布し一般に50〜80℃の温度で乾燥し、基板上
に硬化性組成物の皮膜を形成し、これに配線パターンの
ような陰画を通して紫外線などの活性光線を照射し、露
光部分の皮膜を光重合により硬化させる。活性光線の光
量は一般に500〜10QOmJ/cdとされる。
ついで、IM量%程度の炭酸ナトリウム水溶液などのア
ルカリ水溶液を用いて、未露光部分の皮膜を溶出させ、
陰画1ζ相応する画像を基板上に現像する。しかる後、
一般lζ100〜200℃の温度で、lO〜60分間程
度加熱し、硬化皮膜を熱重合と架橋によりさらに硬化さ
せる。
ルカリ水溶液を用いて、未露光部分の皮膜を溶出させ、
陰画1ζ相応する画像を基板上に現像する。しかる後、
一般lζ100〜200℃の温度で、lO〜60分間程
度加熱し、硬化皮膜を熱重合と架橋によりさらに硬化さ
せる。
かくして、基板上に永久保護皮膜が形成される1、なお
、前記の硬化性組成物は、ポリエステルフィルムなどの
支持フィルムに塗布乾燥して硬化性組成物の皮膜を形成
し、これを保護すべき基板上に適用するようにしてもよ
い。
、前記の硬化性組成物は、ポリエステルフィルムなどの
支持フィルムに塗布乾燥して硬化性組成物の皮膜を形成
し、これを保護すべき基板上に適用するようにしてもよ
い。
(作用)
本発明の硬化性組成物は、上記のように、保護すべき基
板上に皮膜状番ζ形成され、これに陰画を通じて活性光
線が照射されると、露光部の硬化性皮膜中の光重合性単
量体(b)が光増感剤TdlIこより活性化され、光重
合して硬化する。また、線状高分子化合物(a)は、側
鎖にエチレン性不飽和結合を有するので、それにより線
状高分子化合物同志が架橋し、基板との良好な密着性が
発現する。
板上に皮膜状番ζ形成され、これに陰画を通じて活性光
線が照射されると、露光部の硬化性皮膜中の光重合性単
量体(b)が光増感剤TdlIこより活性化され、光重
合して硬化する。また、線状高分子化合物(a)は、側
鎖にエチレン性不飽和結合を有するので、それにより線
状高分子化合物同志が架橋し、基板との良好な密着性が
発現する。
次いで、未露光部をアルカリ水溶液を用いて溶出して現
像すると、線状高分子化合物(alは、側jfi1ζカ
ルボキシル基を有するので、それにより線状高分子化合
物がアルカリ水溶液Iζ容易1こ溶出され、未露光部の
皮膜が全体として良好に除去される。また、この良好な
未硬化皮膜の溶出性と良好な硬化皮膜の密着性とにより
解像度が向上する。
像すると、線状高分子化合物(alは、側jfi1ζカ
ルボキシル基を有するので、それにより線状高分子化合
物がアルカリ水溶液Iζ容易1こ溶出され、未露光部の
皮膜が全体として良好に除去される。また、この良好な
未硬化皮膜の溶出性と良好な硬化皮膜の密着性とにより
解像度が向上する。
しかる後、これを加熱処理すると、上記露光部の硬化皮
膜中のエポキシ樹脂(c)が、層状鉱物telの眉間か
ら遊離した熱硬化剤により活性化され、熱重合して硬化
する。
膜中のエポキシ樹脂(c)が、層状鉱物telの眉間か
ら遊離した熱硬化剤により活性化され、熱重合して硬化
する。
また、線状高分子化合物(atのカルボキシル基とエポ
キシm BF? (clのエポキシ基とが反応し、さら
に高度な架橋構造が生じる。また反応が層状鉱物の層間
からも開始するので層状鉱物を合せたより高度な架橋構
造が生じ、それにより半田耐熱性、接着性、耐酸性、耐
アルカリ性、耐溶剤性、皮膜強度及び表面硬度等が向上
する。
キシm BF? (clのエポキシ基とが反応し、さら
に高度な架橋構造が生じる。また反応が層状鉱物の層間
からも開始するので層状鉱物を合せたより高度な架橋構
造が生じ、それにより半田耐熱性、接着性、耐酸性、耐
アルカリ性、耐溶剤性、皮膜強度及び表面硬度等が向上
する。
また、光増感剤lこよる光硬化と熱硬化剤による熱硬化
とを併用することIこより、硬化時間が短縮される。
とを併用することIこより、硬化時間が短縮される。
また、熱硬化剤は層状鉱物の層間に含浸されているから
、本発明の熱硬化性組成物にした際Iこエポキシ基を活
性化させにり<、反応が起こり曝こくいので貯蔵安定性
、乾燥ホールド性等がすぐれている。
、本発明の熱硬化性組成物にした際Iこエポキシ基を活
性化させにり<、反応が起こり曝こくいので貯蔵安定性
、乾燥ホールド性等がすぐれている。
(実施例)
以下、本発明の実施例及び比較例を説明する。
なお、実施例及び比較例において、部とあるのは全て重
量部を示す。
量部を示す。
層状鉱物の合成
無水珪酸マグネシウム(CTH−125,日本タルク社
製) 100部1−シアンエチ
ル−2−エチル−4−メチルイミダゾール
10部メチルエチルケトン
200部上記配合物をデイシルバーに供給して10
時間撹拌した後ろ過し、過剰のメチルエチルケトンで無
水珪酸マグネシウムの表面を洗浄し、次いで真空乾燥し
て眉間に熱硬化剤を含有する層状鉱物(以下「層状鉱物
A」という)を得た。尚珪酸マグネシウム100部中に
熱硬化剤が3部含浸されていた。
製) 100部1−シアンエチ
ル−2−エチル−4−メチルイミダゾール
10部メチルエチルケトン
200部上記配合物をデイシルバーに供給して10
時間撹拌した後ろ過し、過剰のメチルエチルケトンで無
水珪酸マグネシウムの表面を洗浄し、次いで真空乾燥し
て眉間に熱硬化剤を含有する層状鉱物(以下「層状鉱物
A」という)を得た。尚珪酸マグネシウム100部中に
熱硬化剤が3部含浸されていた。
モンモリロナイト(クニピアーF% IWAMOTOM
INELAL 社製) 100部l−シ
アノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール
10部ジメチルケトン
200部上記配合物をデイシルバーに供
給して10時間撹拌した後ろ過し、過剰のジメチルケト
ンでモンモリロナイトの表面を洗浄し、次いで真空乾燥
して層間に熱硬化剤を含有する層状鉱物(以下「層状鉱
物B」という)を得た。尚、モンモIJ ロチイト10
0部中に熱硬化剤が3部含浸されていた。
INELAL 社製) 100部l−シ
アノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール
10部ジメチルケトン
200部上記配合物をデイシルバーに供
給して10時間撹拌した後ろ過し、過剰のジメチルケト
ンでモンモリロナイトの表面を洗浄し、次いで真空乾燥
して層間に熱硬化剤を含有する層状鉱物(以下「層状鉱
物B」という)を得た。尚、モンモIJ ロチイト10
0部中に熱硬化剤が3部含浸されていた。
(以下余白)
ル/メタクリル1%!2−ヒドロキシエチル/アクリル
11122−エチルヘキシル/アクリル酸(成分重量比
30/10/20/40 )の共重合体100部にアク
リル酸グリシジル40部を反応させたもの、Mw=11
800、MW/Mn=21、酸価115.2重合結合/
1分子=12個) 100部ビスフェノールA
型エポキシ樹ill (エビ 33部コート828、
油化シェルエポキシ社製)クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂 36部(YDCN704、東部化成社製) 2.4−ジエチルチオキサントン 8部p−ジメ
チルアミン安息香酸エチル 16部微粒子状シリカ
(アエロジル300、 2i部日本アエロジル社製) テトラエチレングリフールジアクリレート 25部ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート 25部層
状鉱物A 50部′含水
−珪酸マグネシクム(ミクロエース 50部P−4、日
本タルク社製) ハイドロキノン 8部フタロ
ンアニングリーン 2部ジエチレングリ
コールモツプチルエーテル 120部上記配合物を
三本ロールミルで混練して本発明の光及び熱硬化性組成
物を調製し、これをプリント配線板用の銅張り積層板(
銅厚50μm)の表面に塗布し、70℃で30分間乾燥
して厚さ30711mの皮膜を形成した。これに、真空
枠中で解像度テストパターンを有する陰画を密着させ、
高圧水銀灯により700 ml/14の紫外線を照、射
した。
11122−エチルヘキシル/アクリル酸(成分重量比
30/10/20/40 )の共重合体100部にアク
リル酸グリシジル40部を反応させたもの、Mw=11
800、MW/Mn=21、酸価115.2重合結合/
1分子=12個) 100部ビスフェノールA
型エポキシ樹ill (エビ 33部コート828、
油化シェルエポキシ社製)クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂 36部(YDCN704、東部化成社製) 2.4−ジエチルチオキサントン 8部p−ジメ
チルアミン安息香酸エチル 16部微粒子状シリカ
(アエロジル300、 2i部日本アエロジル社製) テトラエチレングリフールジアクリレート 25部ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート 25部層
状鉱物A 50部′含水
−珪酸マグネシクム(ミクロエース 50部P−4、日
本タルク社製) ハイドロキノン 8部フタロ
ンアニングリーン 2部ジエチレングリ
コールモツプチルエーテル 120部上記配合物を
三本ロールミルで混練して本発明の光及び熱硬化性組成
物を調製し、これをプリント配線板用の銅張り積層板(
銅厚50μm)の表面に塗布し、70℃で30分間乾燥
して厚さ30711mの皮膜を形成した。これに、真空
枠中で解像度テストパターンを有する陰画を密着させ、
高圧水銀灯により700 ml/14の紫外線を照、射
した。
次いで、陰画を剥がし、30℃、1重量%の炭酸ナトリ
クム水溶液を30秒向スプレーして未露光部の皮膜を溶
出し現像を行った。しかる後、180℃で30分間熱処
理を行ない、Vk画に相応する硬化した永久保護皮膜を
得た。解像度は、解像度テストパターンの30fimの
画線まで正確に画像が再現された。
クム水溶液を30秒向スプレーして未露光部の皮膜を溶
出し現像を行った。しかる後、180℃で30分間熱処
理を行ない、Vk画に相応する硬化した永久保護皮膜を
得た。解像度は、解像度テストパターンの30fimの
画線まで正確に画像が再現された。
上記の永久保護皮膜は、メチルエチルグトン、アセトン
、クロロホルム、トリクレン、メタノール、イソプロパ
ツール、トルエン、ベンゼン、キシレン及び20重量%
硫酸水溶液に、それぞれ10時間浸漬しても何の変化も
なく、さらにP)112の水酸化ナトリクム水溶液に1
IlO向浸漬しても、クラック、白化、銅箔からの剥離
などの異常は認められなかった。
、クロロホルム、トリクレン、メタノール、イソプロパ
ツール、トルエン、ベンゼン、キシレン及び20重量%
硫酸水溶液に、それぞれ10時間浸漬しても何の変化も
なく、さらにP)112の水酸化ナトリクム水溶液に1
IlO向浸漬しても、クラック、白化、銅箔からの剥離
などの異常は認められなかった。
また、60分向隔で一65℃と125℃の冷却加熱を5
0回繰り返しく冷熱衝撃テスト、MIL−8TD−20
2F107G、条件B)、さらに260℃の半田浴に2
分局浸漬しても何の変化もなく、そのときの鉛筆硬度F
14H〜5Hであった。
0回繰り返しく冷熱衝撃テスト、MIL−8TD−20
2F107G、条件B)、さらに260℃の半田浴に2
分局浸漬しても何の変化もなく、そのときの鉛筆硬度F
14H〜5Hであった。
又、組成物を積層板の表面に塗布、乾燥後、30℃で2
4時間放置後現像及び熱処理を行っても上記と同じ結果
がえられた。
4時間放置後現像及び熱処理を行っても上記と同じ結果
がえられた。
さらに、上記組成物を30℃で30日間保存しても諸物
性に差はなかった。
性に差はなかった。
実施例2
線状高分子化合物〔メタクリル酸メチ 100部ル/メ
タクリル酸2−ヒドロキシエチ ル/アクリル酸2−エチルヘキシル/ メタクリル酸(成分重量比30/20/20/30)の
共重合体100部にメタクリル酸を20部を反応させた
もの、Mw=9600、Mw/Mn=18、酸価171
.2重合結合/1分子=6個〕 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エビ 333部ツ
ー1828、油化シェルエポキシ社IIりクレゾールノ
ボラック型エポキシ樹脂 36部(YDCN704、東
部化成社製) 2.4−ジエチルチオキサントン 8部p−ジメ
チルアミノ安息香酸エチル 16部テトラエチレン
グリコールジアクリレ 25部−ト ペンタエリスリトールトリアクリレ−25部ト 層状鉱物B 70部ンリ
カ(アエロジル300、日本アエロ 25部ジル社製
) ハイドロキノン 8部フタ
ロシアニングリーン 2部ジエチレン
グリコールモノフチルx−120部チル 上記配合物を三木ロールミルで混練し、本発明の光及び
熱硬化性組成物を#!製し、以後実施例1と全く同じ条
件で永久保護皮膜を得た。解像度は、解像テストパター
ンの60部1mの両線まで正確に画像が再現された。
タクリル酸2−ヒドロキシエチ ル/アクリル酸2−エチルヘキシル/ メタクリル酸(成分重量比30/20/20/30)の
共重合体100部にメタクリル酸を20部を反応させた
もの、Mw=9600、Mw/Mn=18、酸価171
.2重合結合/1分子=6個〕 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エビ 333部ツ
ー1828、油化シェルエポキシ社IIりクレゾールノ
ボラック型エポキシ樹脂 36部(YDCN704、東
部化成社製) 2.4−ジエチルチオキサントン 8部p−ジメ
チルアミノ安息香酸エチル 16部テトラエチレン
グリコールジアクリレ 25部−ト ペンタエリスリトールトリアクリレ−25部ト 層状鉱物B 70部ンリ
カ(アエロジル300、日本アエロ 25部ジル社製
) ハイドロキノン 8部フタ
ロシアニングリーン 2部ジエチレン
グリコールモノフチルx−120部チル 上記配合物を三木ロールミルで混練し、本発明の光及び
熱硬化性組成物を#!製し、以後実施例1と全く同じ条
件で永久保護皮膜を得た。解像度は、解像テストパター
ンの60部1mの両線まで正確に画像が再現された。
上記の永久保護皮膜について、実施例1と全く同じ条件
で、耐薬品浸漬テストを行なったが、実施例1と同様な
結果が得られ、何の変化も異常も認められなかった。ま
た、実施例1と全く同じ条件で、冷S!1r11撃テス
トと半田浴浸@テストを行ったが、実施例1と同様な結
果が得られ、何の変化もなく、そのときの鉛筆硬度11
7HであったO 比較例1 メタクリル酸メチル/アクリル酸エチ 60部ル/ス
チレン/メタクリル酸/トリグ ロモフェニルアクリレートの共重合体 (成分重量比35 : 20 : 10 :25 :1
0、Mw=多官能性アクリレート(アローニック 1
5部スM−6100、東亜合成化学社製) 単官能性アクリレート(MECHPP、大阪 5部有
機化学社製) 多官能性アクリレート(A−7MM3L、新 20部
中村化学社製) ベンゾフェノン 4部ミヒラー
ケトン Q2部2−アミノチア
ゾール a1部3−クロロ−2−アシ
ッドフォスフオ α1部キシプロピルメタクリレート
(ホスマ ーCL、油脂製品社1り ビクトリアビニアブルー 0.01部二酸
化アンチモン 1部エチルセロソ
ルグ 80部メチルエチルクトン
40部上記組成物の溶液をプリント
配線板用の銅張り積層板(銅厚50声m)の表面に塗布
し、70℃、で30分間乾燥して厚さ60fimの皮膜
を形成し。
で、耐薬品浸漬テストを行なったが、実施例1と同様な
結果が得られ、何の変化も異常も認められなかった。ま
た、実施例1と全く同じ条件で、冷S!1r11撃テス
トと半田浴浸@テストを行ったが、実施例1と同様な結
果が得られ、何の変化もなく、そのときの鉛筆硬度11
7HであったO 比較例1 メタクリル酸メチル/アクリル酸エチ 60部ル/ス
チレン/メタクリル酸/トリグ ロモフェニルアクリレートの共重合体 (成分重量比35 : 20 : 10 :25 :1
0、Mw=多官能性アクリレート(アローニック 1
5部スM−6100、東亜合成化学社製) 単官能性アクリレート(MECHPP、大阪 5部有
機化学社製) 多官能性アクリレート(A−7MM3L、新 20部
中村化学社製) ベンゾフェノン 4部ミヒラー
ケトン Q2部2−アミノチア
ゾール a1部3−クロロ−2−アシ
ッドフォスフオ α1部キシプロピルメタクリレート
(ホスマ ーCL、油脂製品社1り ビクトリアビニアブルー 0.01部二酸
化アンチモン 1部エチルセロソ
ルグ 80部メチルエチルクトン
40部上記組成物の溶液をプリント
配線板用の銅張り積層板(銅厚50声m)の表面に塗布
し、70℃、で30分間乾燥して厚さ60fimの皮膜
を形成し。
た。ξれに真空枠中で解像度テストパターンを有する陰
画を密着させ、高圧水銀灯により200mJ/cdの紫
外線を照射した。
画を密着させ、高圧水銀灯により200mJ/cdの紫
外線を照射した。
次いで、陰画を剥がし、30℃、1重量%の炭酸ナトリ
クム水溶液を30秒問スプレーして未露光部の皮膜を溶
出し現像を行った。しかる後、80℃で20分間熱処理
した後、31/ctAの紫外線を照射し160℃で40
分間熱処理を行ない、陰画に相応する硬化した永久保護
皮膜を得た。解像度は、解像テストパターンの1007
11mの画像までしか再現できなかった。
クム水溶液を30秒問スプレーして未露光部の皮膜を溶
出し現像を行った。しかる後、80℃で20分間熱処理
した後、31/ctAの紫外線を照射し160℃で40
分間熱処理を行ない、陰画に相応する硬化した永久保護
皮膜を得た。解像度は、解像テストパターンの1007
11mの画像までしか再現できなかった。
上記の永久保護皮膜は、メチルエチルクトン、アセトン
、クロロホルム、トリクレン、メタノール、インプロパ
ツール、トルエン、ベンゼン、キシレン及び2096硫
酸水溶液に、それぞれ30分間浸漬すると白化及び銅箔
からの剥離が生じ、さらにPH12の水酸化ナトリクム
水溶液に1ρ分聞浸浦すると、クラック、白化及び銅箔
からの剥離が生じた。
、クロロホルム、トリクレン、メタノール、インプロパ
ツール、トルエン、ベンゼン、キシレン及び2096硫
酸水溶液に、それぞれ30分間浸漬すると白化及び銅箔
からの剥離が生じ、さらにPH12の水酸化ナトリクム
水溶液に1ρ分聞浸浦すると、クラック、白化及び銅箔
からの剥離が生じた。
また、60分間隔て一65℃と125℃の冷却加熱を3
0回繰り返すと、クラックが発生し、又、260℃の半
田浴にlθ秒向浸漬すると、皮膜のふくれ及び利がれが
発生し、そのときの鉛筆硬度は2 Hであった。
0回繰り返すと、クラックが発生し、又、260℃の半
田浴にlθ秒向浸漬すると、皮膜のふくれ及び利がれが
発生し、そのときの鉛筆硬度は2 Hであった。
又、組成物を積層板の表面に塗布、乾燥後、30℃で1
2時間放置すると現像不可能になった。又、組成物を3
0℃で保存すると増粘し、30日後には塗布できなくな
った。
2時間放置すると現像不可能になった。又、組成物を3
0℃で保存すると増粘し、30日後には塗布できなくな
った。
比較例2
ノボラック型エポキシ樹脂のエポキシ基の一部がアクリ
レート化されたハーフエステル(フェノールノボラック
ハーフエステル、昭和高分子社製)
2L2部トリメチロールプロパントリアクリレ
ート1α6部 ポリエステルジアクリレー) (MANDA、日本上薬
社製) 14.7部ヒドロキ
シエチルアクリレート 18.4 部ビスメタクリル
オキシエチルホスフェートとメタクリルオキシエチルホ
スフェートの混合物(KAYAMERPM−2、日本上
薬社製)7.1神フタロシアニングリーン
α2部珪酸マグネシウム(ファインタルクP−3、日本
タルク社製) 30.7部上記組成
物の溶液をプリント配線板用の銅張り積層板(銅厚50
μrn)の表面に塗布し、70℃で30分間乾燥して厚
さ60μmの皮膜を形成した。これに真空枠中で解像度
テストパターンを有する陰画を密着させ、高圧水銀灯に
より45亀J/cotの紫外線を照射した。
レート化されたハーフエステル(フェノールノボラック
ハーフエステル、昭和高分子社製)
2L2部トリメチロールプロパントリアクリレ
ート1α6部 ポリエステルジアクリレー) (MANDA、日本上薬
社製) 14.7部ヒドロキ
シエチルアクリレート 18.4 部ビスメタクリル
オキシエチルホスフェートとメタクリルオキシエチルホ
スフェートの混合物(KAYAMERPM−2、日本上
薬社製)7.1神フタロシアニングリーン
α2部珪酸マグネシウム(ファインタルクP−3、日本
タルク社製) 30.7部上記組成
物の溶液をプリント配線板用の銅張り積層板(銅厚50
μrn)の表面に塗布し、70℃で30分間乾燥して厚
さ60μmの皮膜を形成した。これに真空枠中で解像度
テストパターンを有する陰画を密着させ、高圧水銀灯に
より45亀J/cotの紫外線を照射した。
次いで、陰画を剥がし、30℃、1!ifk%の炭酸ナ
トリウム水溶液を60秒間スプレーして未露光部の皮膜
を溶出し現像を行った。しかる後、100W/amのメ
タルハライドランプが3本設置された下15cmのとこ
ろを6m/分の速度で通過させて紫外線硬化を行い、1
70℃で20分間熱処理を行ない、陰画に相応する硬化
した永久保護皮膜を得た。解像度は、解像テストパター
ンの110 #lF+の画像までしか再現できなかった
。
トリウム水溶液を60秒間スプレーして未露光部の皮膜
を溶出し現像を行った。しかる後、100W/amのメ
タルハライドランプが3本設置された下15cmのとこ
ろを6m/分の速度で通過させて紫外線硬化を行い、1
70℃で20分間熱処理を行ない、陰画に相応する硬化
した永久保護皮膜を得た。解像度は、解像テストパター
ンの110 #lF+の画像までしか再現できなかった
。
上記の永久保護皮膜は、メチルエチルケトン、アセトン
、クロロホルム、トリクレン、メタノール、イソプロパ
ツール、トルエン、ベンゼン、キシレン及び20%硫酸
水溶液に、それぞれ30分間浸漬すると白化及び銅箔か
らの剥離が生じ、さらにPH12の水酸化ナトリウム水
溶液に10分間浸漬すると、クラック、白化及び銅箔か
らの剥離が生じた。
、クロロホルム、トリクレン、メタノール、イソプロパ
ツール、トルエン、ベンゼン、キシレン及び20%硫酸
水溶液に、それぞれ30分間浸漬すると白化及び銅箔か
らの剥離が生じ、さらにPH12の水酸化ナトリウム水
溶液に10分間浸漬すると、クラック、白化及び銅箔か
らの剥離が生じた。
また、60分間隔で一65℃と125℃の冷却加熱を3
0回繰り返すと、クラックが発生し、又、260℃の半
田浴に10秒間浸漬すると、皮膜の五くれ及び利がれが
発生し、そのときの鉛筆硬度は3Hであっナニ。
0回繰り返すと、クラックが発生し、又、260℃の半
田浴に10秒間浸漬すると、皮膜の五くれ及び利がれが
発生し、そのときの鉛筆硬度は3Hであっナニ。
(発明の効果)
本発明の光及び熱硬化性組成物は、上述の如き構成であ
るので、例えば、プリント配線板の製造における半田マ
スク形成用等のソルダーレジストとして使用すると、半
田耐熱性、接着性、解像度、耐酸性、耐アルカリ性、耐
溶剤性、皮膜強度及び表面硬度の優れた永久保護皮膜を
形成することができる。
るので、例えば、プリント配線板の製造における半田マ
スク形成用等のソルダーレジストとして使用すると、半
田耐熱性、接着性、解像度、耐酸性、耐アルカリ性、耐
溶剤性、皮膜強度及び表面硬度の優れた永久保護皮膜を
形成することができる。
又、乾燥ホールド性、貯蔵安定性等がすぐれており、作
業性が良い。
業性が良い。
また、溶剤を使用せず番こアルカリ水溶液での現像が可
能で、作業環境が改善される。また、組成物の硬化時間
の短縮が可能で、生産性の向上や消費エネルギーの節減
がなし得る。
能で、作業環境が改善される。また、組成物の硬化時間
の短縮が可能で、生産性の向上や消費エネルギーの節減
がなし得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)側鎖にエチレン性不飽和基とカルボキシル基
を有する線状高分子化合物、 (b)末端にエチレン性不飽和基を少なくとも二個有す
る光重合性単量体、 (c)分子中にエポキシ基を少なくとも二個有するエポ
キシ樹脂、 (d)光増感剤及び (e)層間に熱硬化剤を含有する層状鉱物 からなる光及び熱硬化性組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9505588A JPH01266533A (ja) | 1988-04-18 | 1988-04-18 | 光及び熱硬化性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9505588A JPH01266533A (ja) | 1988-04-18 | 1988-04-18 | 光及び熱硬化性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01266533A true JPH01266533A (ja) | 1989-10-24 |
Family
ID=14127363
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9505588A Pending JPH01266533A (ja) | 1988-04-18 | 1988-04-18 | 光及び熱硬化性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01266533A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1273619A1 (en) * | 2001-07-04 | 2003-01-08 | Ucb S.A. | Composite compositions |
-
1988
- 1988-04-18 JP JP9505588A patent/JPH01266533A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1273619A1 (en) * | 2001-07-04 | 2003-01-08 | Ucb S.A. | Composite compositions |
WO2003014216A1 (en) * | 2001-07-04 | 2003-02-20 | Ucb, S.A. | Composite compositions |
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