JPH0126539B2 - - Google Patents

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JPH0126539B2
JPH0126539B2 JP58140831A JP14083183A JPH0126539B2 JP H0126539 B2 JPH0126539 B2 JP H0126539B2 JP 58140831 A JP58140831 A JP 58140831A JP 14083183 A JP14083183 A JP 14083183A JP H0126539 B2 JPH0126539 B2 JP H0126539B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hole
heat sink
resin
semiconductor device
diameter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP58140831A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6031253A (ja
Inventor
Ryoichi Yokoyama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
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Publication of JPS6031253A publication Critical patent/JPS6031253A/ja
Publication of JPH0126539B2 publication Critical patent/JPH0126539B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/367Cooling facilitated by shape of device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

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  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電力用半導体装置用放熱の製造方法に
関するものである。
放熱板のペレツトが接着される主面と相対する
面を露出する様に、ペレツトを含む主要部分を樹
脂により封止してなる半導体装置がある。この半
導体装置では放熱板に段差を有する貫通孔をあ
け、その中に封止用樹脂の一部を充てんすること
によつて、放熱板と樹脂の固着強度を高めるよう
になされている。これを図により説明する。第1
a図は電力用半導体装置の平面図の一例で、その
A―A′断面図を第1図bに示す。第1図bで放
熱板2に、内壁に段差を有する貫通孔3を設け、
貫通孔3内に封止用樹脂の一部を充てんすること
により放熱板2と樹脂1の固着強度を高めてい
る。第2図a,bは従来の貫通孔の加工方法を示
し、まず第2図aに示すストレート状の貫通孔5
を放熱板にあけた後、第2図bに示すように直径
が貫通孔5よりも大きく、かつ先端が平らなポン
チ6によつて、つぶし加工を加え、貫通孔の内へ
きに段差をあたえる。
このとき、ポンチ6の先端が平らであるためつ
ぶされる素材が貫通孔の中心方向に移動しバリ7
となつて現われ、これが後に樹脂と放熱板との固
着強度を低下させてしまう原因になる。すなわ
ち、いま半導体装置に放熱板と樹脂を引きはがそ
うとする外力が作用したときに、放熱板の貫通孔
内に充てんされた樹脂には引張応力が加わる。貫
通孔内の樹脂は第2図bに示すバリ7によつてく
びれた形状になつているため、直径の最少になる
面の引張応力が最大となり、又この面においては
直径の急変により円周部に応力が集中する、いわ
ゆる応力集中を起こし、その最大の応力が樹脂の
破断限界応力を超え、貫通孔内の樹脂が破断して
しまい、放熱板と樹脂が剥離し、ペレツトクラツ
クを発生させてしまうこともあつた。
本発明の目的は、放熱板から樹脂をはがそうと
する外力に対して充分な強度を確保できるように
するための半導体装置用放熱板の製造方法を提供
することにある。
本発明の特徴は放熱板に所定直径の孔を形成
し、その直径よりも大きな径を有しかつ先端部が
円すい状に加工されたポンチを前記孔の片側から
その途中まで押圧して前記孔の内壁に段差を設
け、これによつて形成された孔を樹脂充填用の貫
通孔とすることにある。
以下、本発明を図面を用いて説明する。
第3図a,bは本発明における放熱板の貫通孔
の加工方法を示す一実施例の工程断面図である。
第3図aにおいて、従来と同様に放熱板にストレ
ート状の貫通孔5をあけた後、第3図bにおいて
直径が貫通孔5よりも大きく、かつ先端に円すい
状のテーパーをつけたポンチ8によつてつぶし加
工を行い、貫通孔内へきに段差を与える。このと
きポンチ8の先端に円すい状のテーパーがついて
いるため、放熱板素材のつぶされる部分は貫通孔
の外側に移動する。即ち、一部がテーパー状に加
工された貫通孔が得られる。このため従来の様な
第2図bに示すバリ7の発生は極めて微少で、貫
通孔内に充てんされる樹脂にはくびれる部分がな
く、応力集中の度合は従来よりもはるかに低減さ
れる。
この結果、貫通孔内樹脂の破断強度は従来より
もはるかに高められ、外力に対して極めて強い半
導体装置が得られる。
本発明によれば、貫通孔の直径を大きくするこ
となく、放熱板と樹脂との固着強度を高めること
が出来るため、特に小型の半導体装置で大きな効
果を得ることが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図aは電力用半導体装置の平面図、第1図
bはそのA―A′断面図、第2図a及びbは従来
の放熱板の貫通孔加工工程断面図、第3図a及び
bは本発明の放熱板の貫通孔の加工工程断面図で
ある。 1……樹脂、2……放熱板、3……貫通孔、4
……ペレツト、5……貫通孔、6……ポンチ、7
……バリ、8……ポンチ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 貫通孔を有し該貫通孔が半導体素子を覆う樹
    脂で充填される半導体装置用放熱板の製造方法に
    おいて、前記放熱板に所定の直径の孔を形成し、
    前記所定直径より大きな径を有しかつ先端部が円
    すい状に加工されたポンチを前記孔の片側からそ
    の途中まで押圧して前記孔の内壁に段差を設け、
    これによつて前記貫通孔を形成することを特徴と
    する半導体装置用放熱板の製造方法。
JP14083183A 1983-08-01 1983-08-01 半導体装置用放熱板の製造方法 Granted JPS6031253A (ja)

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JP14083183A JPS6031253A (ja) 1983-08-01 1983-08-01 半導体装置用放熱板の製造方法

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Publication Number Publication Date
JPS6031253A JPS6031253A (ja) 1985-02-18
JPH0126539B2 true JPH0126539B2 (ja) 1989-05-24

Family

ID=15277729

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02257643A (ja) * 1989-03-29 1990-10-18 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置及びその製造方法
US7012326B1 (en) 2003-08-25 2006-03-14 Xilinx, Inc. Lid and method of employing a lid on an integrated circuit
US7388284B1 (en) 2005-10-14 2008-06-17 Xilinx, Inc. Integrated circuit package and method of attaching a lid to a substrate of an integrated circuit

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51140061U (ja) * 1975-05-02 1976-11-11
JPS5272468U (ja) * 1975-11-26 1977-05-30
JPS57191056U (ja) * 1981-05-29 1982-12-03

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Publication number Publication date
JPS6031253A (ja) 1985-02-18

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