JPH01264230A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置、特に半導体ペレットをパッケー
ジ基板あるいはタブに対して樹脂系の接着材を介して実
装する際に有効な技術に関する。
ジ基板あるいはタブに対して樹脂系の接着材を介して実
装する際に有効な技術に関する。
この種の技術について記載されている例としては、昭和
60年6月1日、総併出版株式会社発行、rfflLs
IテクノロジーJP592〜P591がある。
60年6月1日、総併出版株式会社発行、rfflLs
IテクノロジーJP592〜P591がある。
上記文献においては、エポキシ樹脂あるいはポリイミド
樹脂に銀等を添加した、いわゆる銀ペーストを用いたペ
レットボンディング技術が説明されている。
樹脂に銀等を添加した、いわゆる銀ペーストを用いたペ
レットボンディング技術が説明されている。
また、上記の材料以外にもシリコーンゴム等を接着材と
して用いることが注目されている。
して用いることが注目されている。
このような、樹脂系の接着材は、半導体装置のプリント
基板実装後において、プリント基板の変形に伴い、パッ
ケージ基板に加わる変形力を吸収し、ペレットの損傷を
防ぐ効果が期待されている。
基板実装後において、プリント基板の変形に伴い、パッ
ケージ基板に加わる変形力を吸収し、ペレットの損傷を
防ぐ効果が期待されている。
また、ワイヤボンディング時等におけるボンディングツ
ールによる半導体ペレット主面への押圧力を吸収し、ペ
レット内の応力により集積回路が破壊されることを防止
する効果も期待されている。
ールによる半導体ペレット主面への押圧力を吸収し、ペ
レット内の応力により集積回路が破壊されることを防止
する効果も期待されている。
ところが、上記樹脂による応力吸収は、押圧力に対して
樹脂自体の体積は変化せずに樹脂の変形によってのみ実
現される。
樹脂自体の体積は変化せずに樹脂の変形によってのみ実
現される。
このことから、半導体ベレットのように、接着面積に対
して接石材の塗布厚が極めて小さい値となる条件下では
、樹脂内部の応力は実装部材面に対して水平方向に大き
くはたらくため、基板部材における半導体ベレットの周
端外方に対して基板部材を押し曲げる応力となり、半導
体ベレットの中央部分の樹脂には殆ど変形がみられず、
十分な応力の吸収が期待できないことが本発明者によっ
て貝い出された。このため、基板部材がリードフI7−
ムのタブ、あるいはプラスチックパッケージ基ヅ等の可
撓性部材の場合は、己れらの基板部材をyHさせてしま
う結果となり、またセラミック’9、y”+ 嘘π院材
である場合には半導体ベレットの応力Iil等の原因と
なることがさらに本発明者によ一1τ明らかにされた。
して接石材の塗布厚が極めて小さい値となる条件下では
、樹脂内部の応力は実装部材面に対して水平方向に大き
くはたらくため、基板部材における半導体ベレットの周
端外方に対して基板部材を押し曲げる応力となり、半導
体ベレットの中央部分の樹脂には殆ど変形がみられず、
十分な応力の吸収が期待できないことが本発明者によっ
て貝い出された。このため、基板部材がリードフI7−
ムのタブ、あるいはプラスチックパッケージ基ヅ等の可
撓性部材の場合は、己れらの基板部材をyHさせてしま
う結果となり、またセラミック’9、y”+ 嘘π院材
である場合には半導体ベレットの応力Iil等の原因と
なることがさらに本発明者によ一1τ明らかにされた。
木f明は、」1記課題に着目してなされたものでj、+
)i)、その目的は、接着材としての樹脂の応力吸収効
五を高め、信頼性の高い半導体装置を提供ずろ−と;ご
ある。
)i)、その目的は、接着材としての樹脂の応力吸収効
五を高め、信頼性の高い半導体装置を提供ずろ−と;ご
ある。
人[1間の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろ
う。
本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろ
う。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、概ね次の通りである。
を簡単に説明すれば、概ね次の通りである。
すなわち、半導体ベレットを基板部材に装着するための
接着材中に多数の微小空間を形成した構造とするもので
ある。
接着材中に多数の微小空間を形成した構造とするもので
ある。
」二記した手段によれば、接着材に加わる応力が接着材
中の微小空間を圧縮する方向に作用するため、半導体ベ
レットの中央部直下の樹脂部分においても応力による圧
縮変形が可能となり、半導体ベレットのように接着面積
に対して接着材の塗布7が小さい場合にも応力吸収が効
率的に行なわれ、基板部材の変形および半導体ベレット
の破損を防止して信頼性の高い半導体装置を提供する、
−とができる。
中の微小空間を圧縮する方向に作用するため、半導体ベ
レットの中央部直下の樹脂部分においても応力による圧
縮変形が可能となり、半導体ベレットのように接着面積
に対して接着材の塗布7が小さい場合にも応力吸収が効
率的に行なわれ、基板部材の変形および半導体ベレット
の破損を防止して信頼性の高い半導体装置を提供する、
−とができる。
1:実施例1〕
第1図は本発明の一実施例である半導体装置にJNける
半導体ベレットの実装部分を示す断面図、第2図は本実
施例の半導体装置を示す全体断面図である。
半導体ベレットの実装部分を示す断面図、第2図は本実
施例の半導体装置を示す全体断面図である。
本実施例の半導体装置1は、いわゆるビン・グ・17ド
・アレイ (PGA)形のパッケージ構造をqlでいろ
。
・アレイ (PGA)形のパッケージ構造をqlでいろ
。
)i″々体装置1は、その主面に半導体べ17)2、が
接着材3を介して装着された構造を有しているうかかる
yt造の半導体装81は、たとズば以下のよ、−+ j
: I、で得ることができる。
接着材3を介して装着された構造を有しているうかかる
yt造の半導体装81は、たとズば以下のよ、−+ j
: I、で得ることができる。
まず、プラスチックを金型等により成形して得、・r)
ね、たパッケージ基板4の主面上に銅等の導電金属で配
線層を形成した後、該パッケージ基板4を21、1山さ
せるようにしてリードビン9をIEi方向に”ぐ出I−
成する。このとき該リードビン9と上記配。
ね、たパッケージ基板4の主面上に銅等の導電金属で配
線層を形成した後、該パッケージ基板4を21、1山さ
せるようにしてリードビン9をIEi方向に”ぐ出I−
成する。このとき該リードビン9と上記配。
線層とはそれぞれ電気的に導通された状態となる。
欠jて、半導体ベレット2を、その葉慎で1路形成1i
i 25<主面上なるようにして上記パッケージ基板4
・ブー主面中央117接着材3を介して装着する。
i 25<主面上なるようにして上記パッケージ基板4
・ブー主面中央117接着材3を介して装着する。
ここで、本実施例に用いられる接着ヰ13は、たとえば
シリコーンゴムで形成されており、接着材3の内部には
多数の気泡5 (微小空間)が含有された構造となって
いる。このような接着材3を用いたベレットの装着とし
ては、予め単位体債あたりに均一な分散密度の気泡5を
含有した溶融状態のシリコーンゴムを滴下し、このシリ
コーンゴム上に上記半導体ベレット2を密着させた後、
所定温度で数時間加熱することによって半導体ベレット
2の接着を行なうものである。
シリコーンゴムで形成されており、接着材3の内部には
多数の気泡5 (微小空間)が含有された構造となって
いる。このような接着材3を用いたベレットの装着とし
ては、予め単位体債あたりに均一な分散密度の気泡5を
含有した溶融状態のシリコーンゴムを滴下し、このシリ
コーンゴム上に上記半導体ベレット2を密着させた後、
所定温度で数時間加熱することによって半導体ベレット
2の接着を行なうものである。
このような半導体ベレット2の接着断面状態を示すのが
第2図である。
第2図である。
ここで、一般に接着材3を構成するシリコーンゴム等の
粘性流体においで、該流体の粘度をη、密度をρ−1と
して、この粘性流体中における粘度η′、密度ρ゛、半
径aで示される気泡5に加わる抵抗力Wは次の式で示さ
れる。
粘性流体においで、該流体の粘度をη、密度をρ−1と
して、この粘性流体中における粘度η′、密度ρ゛、半
径aで示される気泡5に加わる抵抗力Wは次の式で示さ
れる。
W=6rtηav <2η+3η’/3η+3η”>L
式において、Vは気泡5の流体中にお1プる上昇速度で
ある1、この気泡5が空・篭の気泡である場合には、η
°ζ0、ρ°″=、0となるので、上式は、W工4πη
avとなる。
式において、Vは気泡5の流体中にお1プる上昇速度で
ある1、この気泡5が空・篭の気泡である場合には、η
°ζ0、ρ°″=、0となるので、上式は、W工4πη
avとなる。
この抵抗力Wが浮力とつり合うことにより粘性流体中に
気泡5が留置された状態となるから、次の式が成り立つ
。
気泡5が留置された状態となるから、次の式が成り立つ
。
4/3πa3 (ρ−ρ’ >g=4πηavこれを
Vについてまとめると、ρ°=0の状態では、 v == a 2 ρg/(3η) となる。ここで、シリコーンゴムの粘度をη=5ooo
cp、密度ρ=1とすると、aの値によってそれぞれ下
記のような上昇速度となる。すなわち、 a=10μmのとき v= 240 μm/HRa=
5μmのとき v= 60μm/HRa= 2p
mのとき v= 9.um/HR一般に半導体ペレ
ット2の装着後:二おけるシリコーンゴムの塗布厚は2
0μm前後であるため、ベレット装着後の゛シリコーン
ゴムの加熱時間を1時間以下で管理した場合、気泡50
半径はa=2μm以下とすることが望ましい。
Vについてまとめると、ρ°=0の状態では、 v == a 2 ρg/(3η) となる。ここで、シリコーンゴムの粘度をη=5ooo
cp、密度ρ=1とすると、aの値によってそれぞれ下
記のような上昇速度となる。すなわち、 a=10μmのとき v= 240 μm/HRa=
5μmのとき v= 60μm/HRa= 2p
mのとき v= 9.um/HR一般に半導体ペレ
ット2の装着後:二おけるシリコーンゴムの塗布厚は2
0μm前後であるため、ベレット装着後の゛シリコーン
ゴムの加熱時間を1時間以下で管理した場合、気泡50
半径はa=2μm以下とすることが望ましい。
以上のようにしてパッケージ基板4上に半導体ペレット
2を接着した後、半導体ペレット2の主面上に形成され
たパッド6とパッケージ基板4上の配線層7とが銅(C
u)、アルミニウム(、Aff)または金(Au)等か
らなる導電性のワイヤ3によって電気的に結線される。
2を接着した後、半導体ペレット2の主面上に形成され
たパッド6とパッケージ基板4上の配線層7とが銅(C
u)、アルミニウム(、Aff)または金(Au)等か
らなる導電性のワイヤ3によって電気的に結線される。
このような結線は、公知のワイヤボンディング技術によ
り可能である。
り可能である。
すなわち、まずワイヤ8の先端が加熱されて球状のボン
ディングボール8aが形成されると、該ボール部分が加
熱環境下で半導体ペレット2のパッド6の表面に押圧さ
れた状態で超音波振動が印加される。これにより該ボン
ディングボール8aとパッド6とが接合状態となる。
ディングボール8aが形成されると、該ボール部分が加
熱環境下で半導体ペレット2のパッド6の表面に押圧さ
れた状態で超音波振動が印加される。これにより該ボン
ディングボール8aとパッド6とが接合状態となる。
以上のようにして、ワイヤ8の一端が半導体ペレット2
のパッド6に接合された後、当該ワイヤ8はループを描
くようにして張設され、他端側をパッケージ基板4上の
所定の配線層7上に超音波振動の印加によって接合され
る。これによって半導体ペレット2の表面に形成された
集積回路がパッド6、ワイヤ8、配線層7を介してリー
ドピン9と導通状態となり、電源電圧の印加および信号
人出力が可能な状態となる。
のパッド6に接合された後、当該ワイヤ8はループを描
くようにして張設され、他端側をパッケージ基板4上の
所定の配線層7上に超音波振動の印加によって接合され
る。これによって半導体ペレット2の表面に形成された
集積回路がパッド6、ワイヤ8、配線層7を介してリー
ドピン9と導通状態となり、電源電圧の印加および信号
人出力が可能な状態となる。
次に、半導体ペレット2の周囲に取付けられた枠状のダ
ム12の内方にポリイミド系のゲル状樹脂10がポツテ
ィングされ、半導体ペレット20回路形成面への水分の
侵入等が防止される。さらに、ポツティングされた樹脂
10の上方に板状のキャップ11が載置・接着された後
、当該パッケージ基板4、ダム12、およびキャップ1
1の各部材の接合部分を覆うようにしてシリコーンゴム
等の封止材13が塗布されて内部を気密状態とする。な
お、ここでは封止材13として用いられる封止用のシリ
コーンゴムには気泡5を混入させる必要はない。
ム12の内方にポリイミド系のゲル状樹脂10がポツテ
ィングされ、半導体ペレット20回路形成面への水分の
侵入等が防止される。さらに、ポツティングされた樹脂
10の上方に板状のキャップ11が載置・接着された後
、当該パッケージ基板4、ダム12、およびキャップ1
1の各部材の接合部分を覆うようにしてシリコーンゴム
等の封止材13が塗布されて内部を気密状態とする。な
お、ここでは封止材13として用いられる封止用のシリ
コーンゴムには気泡5を混入させる必要はない。
このようにして製作した上記半導体装置はプリント基板
に実装して使用するが、プリント基板に外力が加わり、
変形するとリードピン9を介して上記半導体装置に大き
な変形力が加わる。プリント基板からリードピン9を介
してパッケージ基板4に伝えられた変形力は接着材3に
達する。本実施例によれば、上記のようにパッケージ基
板4から接着材3に伝えられた変形力は、接着材3の内
部に配置された気泡5を圧縮するように作用する。
に実装して使用するが、プリント基板に外力が加わり、
変形するとリードピン9を介して上記半導体装置に大き
な変形力が加わる。プリント基板からリードピン9を介
してパッケージ基板4に伝えられた変形力は接着材3に
達する。本実施例によれば、上記のようにパッケージ基
板4から接着材3に伝えられた変形力は、接着材3の内
部に配置された気泡5を圧縮するように作用する。
このため、半導体ペレット中央直下位置における接着材
3においても、気泡5を圧縮して接着材3が塗布方向に
変形された状態となり、半導体ペレット2の直下位置に
おける内部応力も効率的に接着材3中に吸収される。
3においても、気泡5を圧縮して接着材3が塗布方向に
変形された状態となり、半導体ペレット2の直下位置に
おける内部応力も効率的に接着材3中に吸収される。
このため、プリント基板の変形に伴い、パッケージ基板
に加わる変形力による半導体ペレット2の損傷が効果的
に防止できる。
に加わる変形力による半導体ペレット2の損傷が効果的
に防止できる。
〔実施例2〕
・ 第3図は本発明の他の実施例である半導体装置にお
ける半導体ペレット2の実装部分を示す断面図である。
ける半導体ペレット2の実装部分を示す断面図である。
本実施例においては、接着材3中における気泡の形成構
造が異なる。すなわち本実施例2によれば、接着材3中
に外皮体20により気体21を封入密閉した中空粒状の
フィラー22を混入することにより構成されている。こ
のようなフィラー22は、たとえば軟性の合成樹脂で外
皮体20を構成し、この内部に気体21として空気を封
入密閉したものである。接着材3中に混入するフィラー
22の数を増減させることにより、接着材3中の総気泡
量の調整が容易となり、接着材3の材質に対応して必要
な応力吸収率を得ることができる。
造が異なる。すなわち本実施例2によれば、接着材3中
に外皮体20により気体21を封入密閉した中空粒状の
フィラー22を混入することにより構成されている。こ
のようなフィラー22は、たとえば軟性の合成樹脂で外
皮体20を構成し、この内部に気体21として空気を封
入密閉したものである。接着材3中に混入するフィラー
22の数を増減させることにより、接着材3中の総気泡
量の調整が容易となり、接着材3の材質に対応して必要
な応力吸収率を得ることができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、接着材3としてはシリコーンゴムを用いた場
合について説明したが、他の樹脂系の接着材3であって
もよい。さらに当該接着材3中には、熱電導効率を高め
るために金属等のフィラーを混入したものであってもよ
い。
合について説明したが、他の樹脂系の接着材3であって
もよい。さらに当該接着材3中には、熱電導効率を高め
るために金属等のフィラーを混入したものであってもよ
い。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、いわゆるビン・グリッド・アレ
イ形のパッケージ形式を有する半導体装置に適用した場
合について説明したが、これに限定されるものではなく
、たとえばリードフレーム形式で製造される半導体装置
にも適用できる。このようにリードフレーム上のタブに
半導体ペレットを装着する際に気泡を混入した接着材を
用いることにより、接着材内部の応力吸収効率が高まり
、リードフレームの変形等を有効に防止できる。
をその利用分野である、いわゆるビン・グリッド・アレ
イ形のパッケージ形式を有する半導体装置に適用した場
合について説明したが、これに限定されるものではなく
、たとえばリードフレーム形式で製造される半導体装置
にも適用できる。このようにリードフレーム上のタブに
半導体ペレットを装着する際に気泡を混入した接着材を
用いることにより、接着材内部の応力吸収効率が高まり
、リードフレームの変形等を有効に防止できる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
すなわち、半導体ペレットを基板部材に装着するための
接着材中に気泡を混入した構造とすることにより、接着
材に加わる応力が接着材中の気泡を圧縮する方向に作用
するため、接着材の塗布厚が小さい場合にも応力吸収が
効率的に行なわれ、基板部材の変形および半導体ペレッ
トの破損を防止して信頼性の高い半導体装置を提供する
ことができる。
接着材中に気泡を混入した構造とすることにより、接着
材に加わる応力が接着材中の気泡を圧縮する方向に作用
するため、接着材の塗布厚が小さい場合にも応力吸収が
効率的に行なわれ、基板部材の変形および半導体ペレッ
トの破損を防止して信頼性の高い半導体装置を提供する
ことができる。
第1図は本発明の一実施例である半導体装置における半
導体ペレットの実装部分を示す断面図、第2図は本実施
例の半導体装置を示す全体断面図、 第3図は本発明の他の実施例である半導体装置における
半導体ペレットの実装部分を示す断面図である。 1・・・半導体装置、2・・・半導体ペレット、3・・
・接着材、4・・・パッケージ基板、5・・・気泡、6
・・・パッド、7・・・配線層、8・・・ワイヤ、8a
・・・ボンディングボール、9・・・リードピン、10
・・・樹脂(ポツティング樹脂)、11・・・キャップ
、12・・・ダム、13・・・封止材、20・・・外皮
体、21・・・気体(封止気体)、22・・・フィラー
。 第1図
導体ペレットの実装部分を示す断面図、第2図は本実施
例の半導体装置を示す全体断面図、 第3図は本発明の他の実施例である半導体装置における
半導体ペレットの実装部分を示す断面図である。 1・・・半導体装置、2・・・半導体ペレット、3・・
・接着材、4・・・パッケージ基板、5・・・気泡、6
・・・パッド、7・・・配線層、8・・・ワイヤ、8a
・・・ボンディングボール、9・・・リードピン、10
・・・樹脂(ポツティング樹脂)、11・・・キャップ
、12・・・ダム、13・・・封止材、20・・・外皮
体、21・・・気体(封止気体)、22・・・フィラー
。 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、主面に集積回路の形成された半導体ペレットがその
裏面側において接着材を介して実装部材に装着された半
導体装置であって、当該接着材中に多数の微小空間を形
成したことを特徴とする半導体装置。 2、上記微小空間が、気体を充填した粒状のフィラーを
混入することにより形成されていることを特徴とする請
求項1記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63091481A JPH01264230A (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63091481A JPH01264230A (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01264230A true JPH01264230A (ja) | 1989-10-20 |
Family
ID=14027597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63091481A Pending JPH01264230A (ja) | 1988-04-15 | 1988-04-15 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01264230A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10350239A1 (de) * | 2003-10-27 | 2005-06-16 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauteil mit Gehäusekunststoffmasse, Halbleiterchip und Schaltungsträger sowie Verfahren zur Herstellung desselben |
US6940180B1 (en) | 1996-09-05 | 2005-09-06 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device connecting structure, liquid crystal display unit based on the same connecting structure, and electronic apparatus using the same display unit |
JP2010267671A (ja) * | 2009-05-12 | 2010-11-25 | Fujitsu Ltd | 電子部品内蔵基板の製造方法 |
-
1988
- 1988-04-15 JP JP63091481A patent/JPH01264230A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6940180B1 (en) | 1996-09-05 | 2005-09-06 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device connecting structure, liquid crystal display unit based on the same connecting structure, and electronic apparatus using the same display unit |
US7084517B2 (en) | 1996-09-05 | 2006-08-01 | Seiko Epson Corporation | Semiconductor device connecting structure, liquid crystal display unit based on the same connecting structure, and electronic apparatus using the same display unit |
DE10350239A1 (de) * | 2003-10-27 | 2005-06-16 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauteil mit Gehäusekunststoffmasse, Halbleiterchip und Schaltungsträger sowie Verfahren zur Herstellung desselben |
US8072085B2 (en) | 2003-10-27 | 2011-12-06 | Qimonda Ag | Semiconductor device with plastic package molding compound, semiconductor chip and leadframe and method for producing the same |
JP2010267671A (ja) * | 2009-05-12 | 2010-11-25 | Fujitsu Ltd | 電子部品内蔵基板の製造方法 |
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