JPH01261367A - フェニルピリジン類の製法 - Google Patents
フェニルピリジン類の製法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、フェニルピリジン類の製法に関する。
フェニルピリジン類は、医薬、農薬の製造の重要な中間
体である。
体である。
フェニルピリジン類の気相合成法については、従来より
多くの方法が提案されている。
多くの方法が提案されている。
例えば、ビニルアセチレン、アセトフェノン及びアンモ
ニアをリン酸カドミウム−アルミナ触媒存在下気相接触
反応させることにより、2−メチル−6−フェニルピリ
ジンを得る方法(CA、■。
ニアをリン酸カドミウム−アルミナ触媒存在下気相接触
反応させることにより、2−メチル−6−フェニルピリ
ジンを得る方法(CA、■。
9915)、メチルビニルケトン、アセトフェノン及び
アンモニアをリン酸カドミウム−アルミナ触媒存在下気
相接触反応させることにより、2−メチル−6−フェニ
ルピリジンを得る方法(CA。
アンモニアをリン酸カドミウム−アルミナ触媒存在下気
相接触反応させることにより、2−メチル−6−フェニ
ルピリジンを得る方法(CA。
55.8404’)、4′−メチルアセトフェノン又は
4′−エチルアセトフヱノン、メチルビニルケトン及び
アンモニアをリン酸水素カドミウム−リン酸水素カルシ
ウム触媒存在下気相接触反応することにより、2−メチ
ル−6−(p−)ルイル)ピリジン又は2−メチル−6
−(p−エチルフェニル)ピリジンを得る方法(CA、
55.8404)等65ある。
4′−エチルアセトフヱノン、メチルビニルケトン及び
アンモニアをリン酸水素カドミウム−リン酸水素カルシ
ウム触媒存在下気相接触反応することにより、2−メチ
ル−6−(p−)ルイル)ピリジン又は2−メチル−6
−(p−エチルフェニル)ピリジンを得る方法(CA、
55.8404)等65ある。
しかし、これらの公知の方法は、工業的規模での使用に
は好適ではない。すなわち、ビニルアセチレンは、重合
反応を起こし易く、加熱することにより急速に分解しや
すい。
は好適ではない。すなわち、ビニルアセチレンは、重合
反応を起こし易く、加熱することにより急速に分解しや
すい。
又メチルビニルケトンはきわめて毒性の高い物質であり
、重合反応を起こし易い欠点があるので、これらの公知
の方法はかかる原料を大量に取り扱い難い。
、重合反応を起こし易い欠点があるので、これらの公知
の方法はかかる原料を大量に取り扱い難い。
課題を解決するための手段
本発明者らは取り扱いが容易でしかも安価な出発物質か
ら1工程でしかも好収率でフェニルピリジン類が得られ
る製法を鋭意検討した結果、アセトフェノン類、対称性
ケトン類、ホルムアルデヒド及びアンモニアをシリカ−
アルミナ触媒又は金属、金属イオン又は金属化合物を配
合したシリカ−アルミナ触媒の存在下、気相接触反応さ
せることにより、1工程でしかも好収率でフェニルピリ
ジン類が得られることを見出し発明を完成するに至った
。
ら1工程でしかも好収率でフェニルピリジン類が得られ
る製法を鋭意検討した結果、アセトフェノン類、対称性
ケトン類、ホルムアルデヒド及びアンモニアをシリカ−
アルミナ触媒又は金属、金属イオン又は金属化合物を配
合したシリカ−アルミナ触媒の存在下、気相接触反応さ
せることにより、1工程でしかも好収率でフェニルピリ
ジン類が得られることを見出し発明を完成するに至った
。
すなわち、本発明は、一般式
(R1はH又はC1〜8のアルキル基を表わし R2は
H又はC8〜3のアルキル基を表わす)で示されるアセ
トフェノン類、 一般式 (R8はH又はC1〜8のアルキル基を表わす)で示さ
れる対称性ケトン類、ホルムアルデヒド及びアンモニア
をシリカ−アルミナ触媒又は、金属。
H又はC8〜3のアルキル基を表わす)で示されるアセ
トフェノン類、 一般式 (R8はH又はC1〜8のアルキル基を表わす)で示さ
れる対称性ケトン類、ホルムアルデヒド及びアンモニア
をシリカ−アルミナ触媒又は、金属。
金属イオン及び/又は金属化合物を配合したシリカ−ア
ル亙す触媒の存在下、気相接触反応させることを特徴と
する一般式 (R1、R2及びR8は前記に同じ) で示されるフェニルピリジン類の製法に関するものであ
る。
ル亙す触媒の存在下、気相接触反応させることを特徴と
する一般式 (R1、R2及びR8は前記に同じ) で示されるフェニルピリジン類の製法に関するものであ
る。
本発明を具体的に説明する。前記一般式(1)で示され
るアセトフェノン類としては、たとえばアセトフェノン
、フェニルエチル、ケトン、フェニルプロピルケトン、
フェニルイソプロピルケトン、フェニル基にメチル、エ
チル、プロピル基を有するフェニルメチルケトン、フェ
ニルエチルケトン、フェニルプロピルケトンなどを使用
することができる。
るアセトフェノン類としては、たとえばアセトフェノン
、フェニルエチル、ケトン、フェニルプロピルケトン、
フェニルイソプロピルケトン、フェニル基にメチル、エ
チル、プロピル基を有するフェニルメチルケトン、フェ
ニルエチルケトン、フェニルプロピルケトンなどを使用
することができる。
一般式(II)で示される対称性ケトン類としては、た
とえば・アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン
、ジイソプロピルケトンを使用することができる。
とえば・アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン
、ジイソプロピルケトンを使用することができる。
ホルムアルデヒド源としては、加熱することによりホル
ムアルデヒドを生成するものであればよく、たとえばホ
ルマリン、ホルマール類、メチラール、パラホルムアル
デヒド、トリオキサンなどを使用することができる。
ムアルデヒドを生成するものであればよく、たとえばホ
ルマリン、ホルマール類、メチラール、パラホルムアル
デヒド、トリオキサンなどを使用することができる。
反応様式は、固定末法、流動床法1.移動床法のいづれ
であってもよい。反応温度は約300〜550°Cで実
施されるが350〜500℃が好ましい。反応圧力は、
常圧が好ましいが、減圧又は2〜3気圧まで加圧しても
差しつかえない。原料混合ガスの空間速度(以下8秒と
いう)は100〜10000Hr 1殊に800〜3
000Hr が好ましい。
であってもよい。反応温度は約300〜550°Cで実
施されるが350〜500℃が好ましい。反応圧力は、
常圧が好ましいが、減圧又は2〜3気圧まで加圧しても
差しつかえない。原料混合ガスの空間速度(以下8秒と
いう)は100〜10000Hr 1殊に800〜3
000Hr が好ましい。
アセトフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒ
ドの量比は任意であるが、アセトフェノン類1モルに対
して対称性ケトン類0.5〜10モル及びホルムアルデ
ヒド0.5〜6モルで操作するのが好ましい。アンモニ
アとの混合割合は、ケトン類及びホルムアルデヒドの全
モル数に対して、0.5〜5倍モルが好ましい。原料ガ
スを不活性ガスで稀釈して使用することも可能である。
ドの量比は任意であるが、アセトフェノン類1モルに対
して対称性ケトン類0.5〜10モル及びホルムアルデ
ヒド0.5〜6モルで操作するのが好ましい。アンモニ
アとの混合割合は、ケトン類及びホルムアルデヒドの全
モル数に対して、0.5〜5倍モルが好ましい。原料ガ
スを不活性ガスで稀釈して使用することも可能である。
不活性ガスとしては、たとえば水蒸気、窒素を使用する
ことができる。
ことができる。
本発明のシリカ−アルミナ触媒としては、非晶質のシリ
カ−アルミナ又は結晶性シリカ−アルミナであるゼオラ
イトを用いることができる。非晶質のシリカ−アルミナ
は、2〜25重量%のアル又すを含むものが好適である
。ゼオライトとじては、X型、Y型2モルデナイト、シ
リカライト(UCC製)。
カ−アルミナ又は結晶性シリカ−アルミナであるゼオラ
イトを用いることができる。非晶質のシリカ−アルミナ
は、2〜25重量%のアル又すを含むものが好適である
。ゼオライトとじては、X型、Y型2モルデナイト、シ
リカライト(UCC製)。
ZSM−5,ZSM−11等が使用することができる。
本発明の金属、金属イオン及び/又は金属化合物を配合
したシリカ−アルミナ触媒としては、非晶質シリカ−ア
ルミナ好ましくは、2〜25重量%のアルミナを含む非
晶質シリカ−アルミナ、ゼオライトなどの結晶性シリカ
−アルミナ触媒に金属、金属イオン及び/又は金属化合
物を配合せしめたものを用いることができる。これらの
配合量はシリカ−アルミナ触媒に対して0.1〜80重
景%、好ましくは1〜25重量%である。金属としては
、亜鉛、カドミウム。
したシリカ−アルミナ触媒としては、非晶質シリカ−ア
ルミナ好ましくは、2〜25重量%のアルミナを含む非
晶質シリカ−アルミナ、ゼオライトなどの結晶性シリカ
−アルミナ触媒に金属、金属イオン及び/又は金属化合
物を配合せしめたものを用いることができる。これらの
配合量はシリカ−アルミナ触媒に対して0.1〜80重
景%、好ましくは1〜25重量%である。金属としては
、亜鉛、カドミウム。
スズ、タリウム、鉛、ビスマス、セシウム、アンチモン
、コバルト、クロム、マンガン、銅、トリウム、カルシ
ウム、銀又はマグネシウムが適当であり、これらの1種
以上を使用することができる。
、コバルト、クロム、マンガン、銅、トリウム、カルシ
ウム、銀又はマグネシウムが適当であり、これらの1種
以上を使用することができる。
金属イオンとしては前記のごとき金属のイオンが適当で
あり1これらの1種以上を使用することができる。金属
化合物としては、前記のごとき金属の酸化物、ハロゲン
化物、硫酸塩又はリン酸塩が適当であり、これらの1種
以上を使用することができる。シリカ−アルミナ触媒に
金属、金属イオン及び/又は金属化合物を配合する方法
は、公知方法を適用でき、たとえば含浸法、浸漬法、混
線法、共沈法、イオン交換法等いかなる方法を用いても
よい。
あり1これらの1種以上を使用することができる。金属
化合物としては、前記のごとき金属の酸化物、ハロゲン
化物、硫酸塩又はリン酸塩が適当であり、これらの1種
以上を使用することができる。シリカ−アルミナ触媒に
金属、金属イオン及び/又は金属化合物を配合する方法
は、公知方法を適用でき、たとえば含浸法、浸漬法、混
線法、共沈法、イオン交換法等いかなる方法を用いても
よい。
発明の効果
本発明の方法により、出発物質として従来方法に比べて
取り扱いが容易でかつ安価なアセトフェノ゛ン類、対称
性ケトン類及びホルムアルデヒドが使える。また目的物
質であるフェニルピリジン類を1工程でしかも好収率で
得ることができる。
取り扱いが容易でかつ安価なアセトフェノ゛ン類、対称
性ケトン類及びホルムアルデヒドが使える。また目的物
質であるフェニルピリジン類を1工程でしかも好収率で
得ることができる。
実施例
本発明を更に詳細に説明するために以下に具体的な実施
例をあげるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
例をあげるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
実施例1
1O%硅酸ソーダ水溶液75fを硫酸にて中和し、析出
したシリカゲルに10%硝酸アルミニウム水溶液81y
及び10%硝酸タリウム水溶液18ノを加えて、水酸化
アルミニウムと水酸化タリウムを共沈殿せしめた。この
共沈殿物をアンモニア水でpH8に調製後、炉別、水洗
し100℃で15時間乾燥後、500°Cで5時間焼成
して触媒を得た。
したシリカゲルに10%硝酸アルミニウム水溶液81y
及び10%硝酸タリウム水溶液18ノを加えて、水酸化
アルミニウムと水酸化タリウムを共沈殿せしめた。この
共沈殿物をアンモニア水でpH8に調製後、炉別、水洗
し100℃で15時間乾燥後、500°Cで5時間焼成
して触媒を得た。
この触媒の組成は、5102 ニー’J’20s :’
r12o=l 00 :20:14であった。
r12o=l 00 :20:14であった。
この触媒3fを内径12.6jffφのガラス製反応管
に充填した。アセトフェノン4.3g、アセトン4.2
1及びホルマリン(40%ホルムアルデヒド水溶液)
4.1 fの混合物を1時間あたり6.3yを惰4+I
−1 気化せしめ、予熱したアンモニアガス160−/hrと
混合し、460℃に保った反応管に通じた。
に充填した。アセトフェノン4.3g、アセトン4.2
1及びホルマリン(40%ホルムアルデヒド水溶液)
4.1 fの混合物を1時間あたり6.3yを惰4+I
−1 気化せしめ、予熱したアンモニアガス160−/hrと
混合し、460℃に保った反応管に通じた。
反応生成物は、メタノールに吸収させた後F’IDガス
クロマトグラフにより分析を行なった。反応スタートか
ら2時間の結果は、アセトフェノンの転化率97%で、
2−メチル−6−フェニルピリジン2.8IC収率46
%)、2.6−ジフェニルピリジン1.19及び2.6
−シメチル、ピリジン1.1fが得られた。
クロマトグラフにより分析を行なった。反応スタートか
ら2時間の結果は、アセトフェノンの転化率97%で、
2−メチル−6−フェニルピリジン2.8IC収率46
%)、2.6−ジフェニルピリジン1.19及び2.6
−シメチル、ピリジン1.1fが得られた。
実施例2
27%の硫酸アルミニウム水溶液30yと3号水ガラス
75yを含む水溶液とを混合し、水酸化アルミニウムと
ケイ酸ゲルとの混合物スラリーを得た。このスラリーを
水洗後80°Cで10時間乾燥し、硫酸カドミウム1.
0gを含む水溶液に浸して、100℃で15時間乾燥後
400°Cで3時間この触媒を用いて実施例1の反応方
法で、表1に示すアセトフェノン類、対称性ケトン類及
びホルムアルデヒド源ならびにアンモニアを反応せしめ
た。反応条件、生成物及び生成物の収量を表1に示した
。
75yを含む水溶液とを混合し、水酸化アルミニウムと
ケイ酸ゲルとの混合物スラリーを得た。このスラリーを
水洗後80°Cで10時間乾燥し、硫酸カドミウム1.
0gを含む水溶液に浸して、100℃で15時間乾燥後
400°Cで3時間この触媒を用いて実施例1の反応方
法で、表1に示すアセトフェノン類、対称性ケトン類及
びホルムアルデヒド源ならびにアンモニアを反応せしめ
た。反応条件、生成物及び生成物の収量を表1に示した
。
ムとケイ酸ゲルとの混合物スラリーを水洗後、修酸スズ
1.6gを含む水溶液に投入しよく撹拌しながら第2リ
ン酸アンモニウム0.6Fを加えた。このスラリーを炉
別し100℃で10時間乾燥後、500°Cで3時間焼
成して触媒を得た。この触媒の組成は、5102 :
A&03: Sn3 (PO,)2 =100 :11
:18であった。
1.6gを含む水溶液に投入しよく撹拌しながら第2リ
ン酸アンモニウム0.6Fを加えた。このスラリーを炉
別し100℃で10時間乾燥後、500°Cで3時間焼
成して触媒を得た。この触媒の組成は、5102 :
A&03: Sn3 (PO,)2 =100 :11
:18であった。
この触媒を用いて実施例1の反応方法で表1に示すアセ
トフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド源
ならびにアンモニアを反応せしめた。反応条件、生成物
及び生成物の収量を表1に示した。
トフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド源
ならびにアンモニアを反応せしめた。反応条件、生成物
及び生成物の収量を表1に示した。
実施例4
959の3号水ガラスを含む水溶液と18yの硝酸アル
ミニウムを含む水溶液を混合し、水酸化アルミニウムと
ケイ酸ゲル混合物スラリーを得た。
ミニウムを含む水溶液を混合し、水酸化アルミニウムと
ケイ酸ゲル混合物スラリーを得た。
このスラリーを水洗後、これに水を加えて撹拌しながら
10%の酢酸カドミウム水溶液60f及び10%の弗化
カリ水溶液289を夫々側に加え弗化カドミウムを沈殿
せしめ、炉別、水洗後10゜100:16:12であっ
た。
10%の酢酸カドミウム水溶液60f及び10%の弗化
カリ水溶液289を夫々側に加え弗化カドミウムを沈殿
せしめ、炉別、水洗後10゜100:16:12であっ
た。
この触媒を用いて実施例1の反応方法で、表1に示すア
セトフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド
源ならびにアンモニアを反応せしめた。反応条件、生成
物及び生成物の収量を表1に示した。
セトフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド
源ならびにアンモニアを反応せしめた。反応条件、生成
物及び生成物の収量を表1に示した。
実施例5
実施例4と同じ方法で得られる水酸化アルミニウムとケ
イ酸ゲル混合物スラリーを水洗し、水を加え更に5gの
硝酸鉛を含む水溶液を加えアンモニア水でpH8に調製
し、水酸化鉛を沈殿せしめ、炉別、水洗後120°Cで
15時間乾燥後500°Cで5時間焼成して触媒を得た
。この触媒の組成はS 1C)2 :A 40s :P
b 0二100二16:12であった。
イ酸ゲル混合物スラリーを水洗し、水を加え更に5gの
硝酸鉛を含む水溶液を加えアンモニア水でpH8に調製
し、水酸化鉛を沈殿せしめ、炉別、水洗後120°Cで
15時間乾燥後500°Cで5時間焼成して触媒を得た
。この触媒の組成はS 1C)2 :A 40s :P
b 0二100二16:12であった。
この触媒を用いて実施例1の反応方法で表1に示すアセ
トフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド源
ならびにアンモニアを反応せしめた。反応条件、生成物
及び生成物の収量を表1に示した。
トフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド源
ならびにアンモニアを反応せしめた。反応条件、生成物
及び生成物の収量を表1に示した。
実施例6
実施例4と同じ方法で得られる水酸化アルミニウムとケ
イ酸ゲル混合物スラリーを水洗し、水を加えて撹拌しな
がら10%の酢酸鉛水溶液40ダ及び10%の弗化カリ
水溶液259を夫々側に加え、弗化鉛を沈殿せしめ、P
別、水洗後、100°Cで10時間乾燥後、550 ’
Cで2時間焼成して触媒を得た。この触媒の組成は、S
i02 :A/203 :PbF2=100:16:
9であった。
イ酸ゲル混合物スラリーを水洗し、水を加えて撹拌しな
がら10%の酢酸鉛水溶液40ダ及び10%の弗化カリ
水溶液259を夫々側に加え、弗化鉛を沈殿せしめ、P
別、水洗後、100°Cで10時間乾燥後、550 ’
Cで2時間焼成して触媒を得た。この触媒の組成は、S
i02 :A/203 :PbF2=100:16:
9であった。
この触媒を用いて実施例1の反応方法で表1に示すアセ
トフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド源
ならびにアンモニアを反応せしめた。反応条件、生成物
及び生成物の収量を表1に示す。
トフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド源
ならびにアンモニアを反応せしめた。反応条件、生成物
及び生成物の収量を表1に示す。
実施例7
モルデナイト型ゼオライト(東ソー株式会社製TSZ−
600)100 fに対して5yの硝酸銀を含む水溶液
でイオン交換を行ない、水洗後120°Cで15時間乾
燥後550°Cで4時間焼成して触媒を得た。この触媒
を用いて実施例1の反応方法で表1に示すアセトフェノ
ン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド源ならびに
アンモ、ニアを反応せしめた。反応条件、生成物及び生
成物の収量を表1に示す。
600)100 fに対して5yの硝酸銀を含む水溶液
でイオン交換を行ない、水洗後120°Cで15時間乾
燥後550°Cで4時間焼成して触媒を得た。この触媒
を用いて実施例1の反応方法で表1に示すアセトフェノ
ン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド源ならびに
アンモ、ニアを反応せしめた。反応条件、生成物及び生
成物の収量を表1に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (R^1はH又はC_1_〜_3のアルキル基を表わし
、R^2ははH又はC_1_〜_3のアルキル基を表わ
す)で示されるアセトフェノン類 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (R^3はH又はC_1_〜_3のアルキル基を表わす
)で示される対称性ケトン類、ホルムアルデヒド及びア
ンモニアをシリカ−アルミナ触媒、又は金属、金属イオ
ン及び/又は金属化合物を配合したシリカ−アルミナ触
媒の存在下、気相接触反応させることを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (R^1はH又はC_1_〜_3のアルキル基を表わし
、R^2はH又はC_1_〜_3のアルキル基を表わし
、R^3はH又はC_1_〜_3のアルキル基を表わす
)で示されるフェニルピリジン類の製法。 2、式中の化合物が、アセトフェノン(R^1及びR^
2がH)、式(II)の化合物が、アセトン(R^3がH
)、及び式(III)の化合物が、2−メチル−6−フェ
ニルピリジン(R^1、R^2及びR^3がH)である
請求項1記載の製法。 3、式( I )の化合物、式(II)の化合物及びホルム
アルデヒドの比率が、1:0.5〜10:0.5〜6で
ある請求項1又は2記載の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8882088A JPH01261367A (ja) | 1988-04-11 | 1988-04-11 | フェニルピリジン類の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8882088A JPH01261367A (ja) | 1988-04-11 | 1988-04-11 | フェニルピリジン類の製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01261367A true JPH01261367A (ja) | 1989-10-18 |
Family
ID=13953559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8882088A Pending JPH01261367A (ja) | 1988-04-11 | 1988-04-11 | フェニルピリジン類の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01261367A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5447982A (en) * | 1988-05-13 | 1995-09-05 | Asahi Glass Company Ltd. | Process for preparing an aqueous dispersion, aqueous dispersion and aqueous coating composition |
-
1988
- 1988-04-11 JP JP8882088A patent/JPH01261367A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5447982A (en) * | 1988-05-13 | 1995-09-05 | Asahi Glass Company Ltd. | Process for preparing an aqueous dispersion, aqueous dispersion and aqueous coating composition |
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