JPH01261367A - フェニルピリジン類の製法 - Google Patents

フェニルピリジン類の製法

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JPH01261367A
JPH01261367A JP8882088A JP8882088A JPH01261367A JP H01261367 A JPH01261367 A JP H01261367A JP 8882088 A JP8882088 A JP 8882088A JP 8882088 A JP8882088 A JP 8882088A JP H01261367 A JPH01261367 A JP H01261367A
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JP
Japan
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formaldehyde
catalyst
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alkyl group
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JP8882088A
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English (en)
Inventor
Shinkichi Shimizu
信吉 清水
Nobuyuki Abe
阿部 伸幸
Nobuo Goto
後藤 信雄
Takakazu Niwa
丹羽 敬和
Akira Iguchi
晃 井口
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Koei Chemical Co Ltd
Original Assignee
Koei Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、フェニルピリジン類の製法に関する。
フェニルピリジン類は、医薬、農薬の製造の重要な中間
体である。
フェニルピリジン類の気相合成法については、従来より
多くの方法が提案されている。
例えば、ビニルアセチレン、アセトフェノン及びアンモ
ニアをリン酸カドミウム−アルミナ触媒存在下気相接触
反応させることにより、2−メチル−6−フェニルピリ
ジンを得る方法(CA、■。
9915)、メチルビニルケトン、アセトフェノン及び
アンモニアをリン酸カドミウム−アルミナ触媒存在下気
相接触反応させることにより、2−メチル−6−フェニ
ルピリジンを得る方法(CA。
55.8404’)、4′−メチルアセトフェノン又は
4′−エチルアセトフヱノン、メチルビニルケトン及び
アンモニアをリン酸水素カドミウム−リン酸水素カルシ
ウム触媒存在下気相接触反応することにより、2−メチ
ル−6−(p−)ルイル)ピリジン又は2−メチル−6
−(p−エチルフェニル)ピリジンを得る方法(CA、
55.8404)等65ある。
しかし、これらの公知の方法は、工業的規模での使用に
は好適ではない。すなわち、ビニルアセチレンは、重合
反応を起こし易く、加熱することにより急速に分解しや
すい。
又メチルビニルケトンはきわめて毒性の高い物質であり
、重合反応を起こし易い欠点があるので、これらの公知
の方法はかかる原料を大量に取り扱い難い。
課題を解決するための手段 本発明者らは取り扱いが容易でしかも安価な出発物質か
ら1工程でしかも好収率でフェニルピリジン類が得られ
る製法を鋭意検討した結果、アセトフェノン類、対称性
ケトン類、ホルムアルデヒド及びアンモニアをシリカ−
アルミナ触媒又は金属、金属イオン又は金属化合物を配
合したシリカ−アルミナ触媒の存在下、気相接触反応さ
せることにより、1工程でしかも好収率でフェニルピリ
ジン類が得られることを見出し発明を完成するに至った
すなわち、本発明は、一般式 (R1はH又はC1〜8のアルキル基を表わし R2は
H又はC8〜3のアルキル基を表わす)で示されるアセ
トフェノン類、 一般式 (R8はH又はC1〜8のアルキル基を表わす)で示さ
れる対称性ケトン類、ホルムアルデヒド及びアンモニア
をシリカ−アルミナ触媒又は、金属。
金属イオン及び/又は金属化合物を配合したシリカ−ア
ル亙す触媒の存在下、気相接触反応させることを特徴と
する一般式 (R1、R2及びR8は前記に同じ) で示されるフェニルピリジン類の製法に関するものであ
る。
本発明を具体的に説明する。前記一般式(1)で示され
るアセトフェノン類としては、たとえばアセトフェノン
、フェニルエチル、ケトン、フェニルプロピルケトン、
フェニルイソプロピルケトン、フェニル基にメチル、エ
チル、プロピル基を有するフェニルメチルケトン、フェ
ニルエチルケトン、フェニルプロピルケトンなどを使用
することができる。
一般式(II)で示される対称性ケトン類としては、た
とえば・アセトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン
、ジイソプロピルケトンを使用することができる。
ホルムアルデヒド源としては、加熱することによりホル
ムアルデヒドを生成するものであればよく、たとえばホ
ルマリン、ホルマール類、メチラール、パラホルムアル
デヒド、トリオキサンなどを使用することができる。
反応様式は、固定末法、流動床法1.移動床法のいづれ
であってもよい。反応温度は約300〜550°Cで実
施されるが350〜500℃が好ましい。反応圧力は、
常圧が好ましいが、減圧又は2〜3気圧まで加圧しても
差しつかえない。原料混合ガスの空間速度(以下8秒と
いう)は100〜10000Hr  1殊に800〜3
000Hr が好ましい。
アセトフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒ
ドの量比は任意であるが、アセトフェノン類1モルに対
して対称性ケトン類0.5〜10モル及びホルムアルデ
ヒド0.5〜6モルで操作するのが好ましい。アンモニ
アとの混合割合は、ケトン類及びホルムアルデヒドの全
モル数に対して、0.5〜5倍モルが好ましい。原料ガ
スを不活性ガスで稀釈して使用することも可能である。
不活性ガスとしては、たとえば水蒸気、窒素を使用する
ことができる。
本発明のシリカ−アルミナ触媒としては、非晶質のシリ
カ−アルミナ又は結晶性シリカ−アルミナであるゼオラ
イトを用いることができる。非晶質のシリカ−アルミナ
は、2〜25重量%のアル又すを含むものが好適である
。ゼオライトとじては、X型、Y型2モルデナイト、シ
リカライト(UCC製)。
ZSM−5,ZSM−11等が使用することができる。
本発明の金属、金属イオン及び/又は金属化合物を配合
したシリカ−アルミナ触媒としては、非晶質シリカ−ア
ルミナ好ましくは、2〜25重量%のアルミナを含む非
晶質シリカ−アルミナ、ゼオライトなどの結晶性シリカ
−アルミナ触媒に金属、金属イオン及び/又は金属化合
物を配合せしめたものを用いることができる。これらの
配合量はシリカ−アルミナ触媒に対して0.1〜80重
景%、好ましくは1〜25重量%である。金属としては
、亜鉛、カドミウム。
スズ、タリウム、鉛、ビスマス、セシウム、アンチモン
、コバルト、クロム、マンガン、銅、トリウム、カルシ
ウム、銀又はマグネシウムが適当であり、これらの1種
以上を使用することができる。
金属イオンとしては前記のごとき金属のイオンが適当で
あり1これらの1種以上を使用することができる。金属
化合物としては、前記のごとき金属の酸化物、ハロゲン
化物、硫酸塩又はリン酸塩が適当であり、これらの1種
以上を使用することができる。シリカ−アルミナ触媒に
金属、金属イオン及び/又は金属化合物を配合する方法
は、公知方法を適用でき、たとえば含浸法、浸漬法、混
線法、共沈法、イオン交換法等いかなる方法を用いても
よい。
発明の効果 本発明の方法により、出発物質として従来方法に比べて
取り扱いが容易でかつ安価なアセトフェノ゛ン類、対称
性ケトン類及びホルムアルデヒドが使える。また目的物
質であるフェニルピリジン類を1工程でしかも好収率で
得ることができる。
実施例 本発明を更に詳細に説明するために以下に具体的な実施
例をあげるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
実施例1 1O%硅酸ソーダ水溶液75fを硫酸にて中和し、析出
したシリカゲルに10%硝酸アルミニウム水溶液81y
及び10%硝酸タリウム水溶液18ノを加えて、水酸化
アルミニウムと水酸化タリウムを共沈殿せしめた。この
共沈殿物をアンモニア水でpH8に調製後、炉別、水洗
し100℃で15時間乾燥後、500°Cで5時間焼成
して触媒を得た。
この触媒の組成は、5102 ニー’J’20s :’
r12o=l 00 :20:14であった。
この触媒3fを内径12.6jffφのガラス製反応管
に充填した。アセトフェノン4.3g、アセトン4.2
1及びホルマリン(40%ホルムアルデヒド水溶液) 
4.1 fの混合物を1時間あたり6.3yを惰4+I
−1 気化せしめ、予熱したアンモニアガス160−/hrと
混合し、460℃に保った反応管に通じた。
反応生成物は、メタノールに吸収させた後F’IDガス
クロマトグラフにより分析を行なった。反応スタートか
ら2時間の結果は、アセトフェノンの転化率97%で、
2−メチル−6−フェニルピリジン2.8IC収率46
%)、2.6−ジフェニルピリジン1.19及び2.6
−シメチル、ピリジン1.1fが得られた。
実施例2 27%の硫酸アルミニウム水溶液30yと3号水ガラス
75yを含む水溶液とを混合し、水酸化アルミニウムと
ケイ酸ゲルとの混合物スラリーを得た。このスラリーを
水洗後80°Cで10時間乾燥し、硫酸カドミウム1.
0gを含む水溶液に浸して、100℃で15時間乾燥後
400°Cで3時間この触媒を用いて実施例1の反応方
法で、表1に示すアセトフェノン類、対称性ケトン類及
びホルムアルデヒド源ならびにアンモニアを反応せしめ
た。反応条件、生成物及び生成物の収量を表1に示した
ムとケイ酸ゲルとの混合物スラリーを水洗後、修酸スズ
1.6gを含む水溶液に投入しよく撹拌しながら第2リ
ン酸アンモニウム0.6Fを加えた。このスラリーを炉
別し100℃で10時間乾燥後、500°Cで3時間焼
成して触媒を得た。この触媒の組成は、5102 : 
A&03: Sn3 (PO,)2 =100 :11
:18であった。
この触媒を用いて実施例1の反応方法で表1に示すアセ
トフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド源
ならびにアンモニアを反応せしめた。反応条件、生成物
及び生成物の収量を表1に示した。
実施例4 959の3号水ガラスを含む水溶液と18yの硝酸アル
ミニウムを含む水溶液を混合し、水酸化アルミニウムと
ケイ酸ゲル混合物スラリーを得た。
このスラリーを水洗後、これに水を加えて撹拌しながら
10%の酢酸カドミウム水溶液60f及び10%の弗化
カリ水溶液289を夫々側に加え弗化カドミウムを沈殿
せしめ、炉別、水洗後10゜100:16:12であっ
た。
この触媒を用いて実施例1の反応方法で、表1に示すア
セトフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド
源ならびにアンモニアを反応せしめた。反応条件、生成
物及び生成物の収量を表1に示した。
実施例5 実施例4と同じ方法で得られる水酸化アルミニウムとケ
イ酸ゲル混合物スラリーを水洗し、水を加え更に5gの
硝酸鉛を含む水溶液を加えアンモニア水でpH8に調製
し、水酸化鉛を沈殿せしめ、炉別、水洗後120°Cで
15時間乾燥後500°Cで5時間焼成して触媒を得た
。この触媒の組成はS 1C)2 :A 40s :P
 b 0二100二16:12であった。
この触媒を用いて実施例1の反応方法で表1に示すアセ
トフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド源
ならびにアンモニアを反応せしめた。反応条件、生成物
及び生成物の収量を表1に示した。
実施例6 実施例4と同じ方法で得られる水酸化アルミニウムとケ
イ酸ゲル混合物スラリーを水洗し、水を加えて撹拌しな
がら10%の酢酸鉛水溶液40ダ及び10%の弗化カリ
水溶液259を夫々側に加え、弗化鉛を沈殿せしめ、P
別、水洗後、100°Cで10時間乾燥後、550 ’
Cで2時間焼成して触媒を得た。この触媒の組成は、S
 i02 :A/203 :PbF2=100:16:
9であった。
この触媒を用いて実施例1の反応方法で表1に示すアセ
トフェノン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド源
ならびにアンモニアを反応せしめた。反応条件、生成物
及び生成物の収量を表1に示す。
実施例7 モルデナイト型ゼオライト(東ソー株式会社製TSZ−
600)100 fに対して5yの硝酸銀を含む水溶液
でイオン交換を行ない、水洗後120°Cで15時間乾
燥後550°Cで4時間焼成して触媒を得た。この触媒
を用いて実施例1の反応方法で表1に示すアセトフェノ
ン類、対称性ケトン類及びホルムアルデヒド源ならびに
アンモ、ニアを反応せしめた。反応条件、生成物及び生
成物の収量を表1に示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (R^1はH又はC_1_〜_3のアルキル基を表わし
    、R^2ははH又はC_1_〜_3のアルキル基を表わ
    す)で示されるアセトフェノン類 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (R^3はH又はC_1_〜_3のアルキル基を表わす
    )で示される対称性ケトン類、ホルムアルデヒド及びア
    ンモニアをシリカ−アルミナ触媒、又は金属、金属イオ
    ン及び/又は金属化合物を配合したシリカ−アルミナ触
    媒の存在下、気相接触反応させることを特徴とする 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (R^1はH又はC_1_〜_3のアルキル基を表わし
    、R^2はH又はC_1_〜_3のアルキル基を表わし
    、R^3はH又はC_1_〜_3のアルキル基を表わす
    )で示されるフェニルピリジン類の製法。 2、式中の化合物が、アセトフェノン(R^1及びR^
    2がH)、式(II)の化合物が、アセトン(R^3がH
    )、及び式(III)の化合物が、2−メチル−6−フェ
    ニルピリジン(R^1、R^2及びR^3がH)である
    請求項1記載の製法。 3、式( I )の化合物、式(II)の化合物及びホルム
    アルデヒドの比率が、1:0.5〜10:0.5〜6で
    ある請求項1又は2記載の製法。
JP8882088A 1988-04-11 1988-04-11 フェニルピリジン類の製法 Pending JPH01261367A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5447982A (en) * 1988-05-13 1995-09-05 Asahi Glass Company Ltd. Process for preparing an aqueous dispersion, aqueous dispersion and aqueous coating composition

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5447982A (en) * 1988-05-13 1995-09-05 Asahi Glass Company Ltd. Process for preparing an aqueous dispersion, aqueous dispersion and aqueous coating composition

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