JP3487516B2 - フェノキシ置換ベンゾニトリルの製造法 - Google Patents
フェノキシ置換ベンゾニトリルの製造法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は触媒存在下にフェノキシ
置換トルエンをアンモニア及び分子状酸素と気相接触反
応（即ち、アンモ酸化）せしめて、フェノキシ置換ベン
ゾニトリルを製造する方法に関する。
置換トルエンをアンモニア及び分子状酸素と気相接触反
応（即ち、アンモ酸化）せしめて、フェノキシ置換ベン
ゾニトリルを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フェノキシ置換ベンゾニトリルは医薬、
農薬の中間体として有用な化合物である。フェノキシ置
換トルエンのアンモ酸化によるフェノキシ置換ベンゾニ
トリルの製造法としては、Ｎｅｆｔｅｋｈｉｍｉｙａ,
１９９０，３０（１），６３−６８に、バナジウム−ア
ンチモン−クロム−チタンの酸化物触媒を用いる方法が
開示されている。しかしながら触媒の組成比についての
記載は一切なく、目的とするフェノキシ置換ベンゾニト
リルの空時収率も１８ｇ／（ｌ・Ｈｒ）でしかない。
農薬の中間体として有用な化合物である。フェノキシ置
換トルエンのアンモ酸化によるフェノキシ置換ベンゾニ
トリルの製造法としては、Ｎｅｆｔｅｋｈｉｍｉｙａ,
１９９０，３０（１），６３−６８に、バナジウム−ア
ンチモン−クロム−チタンの酸化物触媒を用いる方法が
開示されている。しかしながら触媒の組成比についての
記載は一切なく、目的とするフェノキシ置換ベンゾニト
リルの空時収率も１８ｇ／（ｌ・Ｈｒ）でしかない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、フェ
ノキシ置換トルエンのアンモ酸化によって、高い空時収
率でフェノキシ置換ベンゾニトリルを製造することので
きる方法を提供することにある。
ノキシ置換トルエンのアンモ酸化によって、高い空時収
率でフェノキシ置換ベンゾニトリルを製造することので
きる方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討を
重ねた結果、特定の酸化物触媒を用い、且つ特定の分子
状酸素とフェノキシ置換トルエンのモル比で、フェノキ
シ置換トルエンをアンモニア及び分子状酸素と気相接触
反応せしめると、高い空時収率でフェノキシ置換ベンゾ
ニトリルを製造できることを見出し本発明に至った。
重ねた結果、特定の酸化物触媒を用い、且つ特定の分子
状酸素とフェノキシ置換トルエンのモル比で、フェノキ
シ置換トルエンをアンモニア及び分子状酸素と気相接触
反応せしめると、高い空時収率でフェノキシ置換ベンゾ
ニトリルを製造できることを見出し本発明に至った。
【０００５】即ち本発明は、式（１）：
で示されるフェノキシ置換トルエンをアンモニア及び分
子状酸素と、触媒の存在下気相接触反応せしめて、式
（２）： で示されるフェノキシ置換ベンゾニトリルを製造するに
あたり、触媒として式（３）： Ｖa Ｓｂb Ｃｒc Ｔｉd Ａe Ｏx （３） （式中、Ａはアルカリ金属、アルカリ土類金属、ホウ素
及びリンからなる群より選ばれる少なくとも一種以上の
元素であり、Ｏは酸素原子を表わす。添字ａ、ｂ、ｃ、
ｄ、ｅ及びｘはそれぞれバナジウム、アンチモン、クロ
ム、チタン、Ａ及び酸素原子の原子比を表わす実数であ
り、ａを１としたとき、ｂは０．５〜１０、ｃは０．１
〜１０、ｄは０〜５０、ｅは０〜５であり、ｘは酸素原
子の原子価、他の元素の原子価及び原子比から決まる任
意の値である。）で示される酸化物を使用し、分子状酸
素／フェノキシ置換トルエンのモル比を１．５〜７とす
ることを特徴とするフェノキシ置換ベンゾニトリルの製
造法に関する。
子状酸素と、触媒の存在下気相接触反応せしめて、式
（２）： で示されるフェノキシ置換ベンゾニトリルを製造するに
あたり、触媒として式（３）： Ｖa Ｓｂb Ｃｒc Ｔｉd Ａe Ｏx （３） （式中、Ａはアルカリ金属、アルカリ土類金属、ホウ素
及びリンからなる群より選ばれる少なくとも一種以上の
元素であり、Ｏは酸素原子を表わす。添字ａ、ｂ、ｃ、
ｄ、ｅ及びｘはそれぞれバナジウム、アンチモン、クロ
ム、チタン、Ａ及び酸素原子の原子比を表わす実数であ
り、ａを１としたとき、ｂは０．５〜１０、ｃは０．１
〜１０、ｄは０〜５０、ｅは０〜５であり、ｘは酸素原
子の原子価、他の元素の原子価及び原子比から決まる任
意の値である。）で示される酸化物を使用し、分子状酸
素／フェノキシ置換トルエンのモル比を１．５〜７とす
ることを特徴とするフェノキシ置換ベンゾニトリルの製
造法に関する。
【０００６】本発明に用いる式（３）：
Ｖa Ｓｂb Ｃｒc Ｔｉd Ａe Ｏx （３）
で示される酸化物触媒において、Ａはアルカリ金属、ア
ルカリ土類金属、ホウ素及びリンからなる群から選ばれ
る少なくとも一種以上の元素であり、Ｏは酸素原子を表
わす。添字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｘはそれぞれバナジ
ウム、アンチモン、クロム、チタン、Ａ及び酸素原子の
原子比を表わす実数であり、ａを１としたとき、ｂは
０．５〜１０、ｃは０．１〜１０、ｄは０〜５０、ｅは
０〜５であり、ｘは酸素原子の原子価、他の元素の原子
価及び原子比から決まる任意の値である。
ルカリ土類金属、ホウ素及びリンからなる群から選ばれ
る少なくとも一種以上の元素であり、Ｏは酸素原子を表
わす。添字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｘはそれぞれバナジ
ウム、アンチモン、クロム、チタン、Ａ及び酸素原子の
原子比を表わす実数であり、ａを１としたとき、ｂは
０．５〜１０、ｃは０．１〜１０、ｄは０〜５０、ｅは
０〜５であり、ｘは酸素原子の原子価、他の元素の原子
価及び原子比から決まる任意の値である。
【０００７】上記式（３）で示される酸化物触媒の調製
に使用する各元素の原料化合物としては特に限定はな
く、通常用いられる化合物であればいずれも使用でき
る。
に使用する各元素の原料化合物としては特に限定はな
く、通常用いられる化合物であればいずれも使用でき
る。
【０００８】例えば、バナジウム化合物としてはメタバ
ナジン酸アンモニウム、五酸化バナジウム、リン酸バナ
ジウム等が、アンチモン化合物としては金属アンチモ
ン、三二酸化アンチモン、五二酸化アンチモン、三塩化
アンチモン等が、またクロム化合物としては硝酸第二ク
ロム、無水クロム酸等が、またチタン化合物としては酸
化チタン、四塩化チタン等が使用できる。
ナジン酸アンモニウム、五酸化バナジウム、リン酸バナ
ジウム等が、アンチモン化合物としては金属アンチモ
ン、三二酸化アンチモン、五二酸化アンチモン、三塩化
アンチモン等が、またクロム化合物としては硝酸第二ク
ロム、無水クロム酸等が、またチタン化合物としては酸
化チタン、四塩化チタン等が使用できる。
【０００９】また、アルカリ金属又はアルカリ土類金属
化合物としてはリチウム、ナトリウム、カリウム、セシ
ウム、ルビジウム、マグネシウム、カルシウム等の塩化
物、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩等が、ホウ素化合物とし
てはホウ酸、酸化ホウ素等が、またリン化合物としては
リン酸、ポリリン酸、五酸化リン、リン酸アンモニウム
等が使用できる。
化合物としてはリチウム、ナトリウム、カリウム、セシ
ウム、ルビジウム、マグネシウム、カルシウム等の塩化
物、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩等が、ホウ素化合物とし
てはホウ酸、酸化ホウ素等が、またリン化合物としては
リン酸、ポリリン酸、五酸化リン、リン酸アンモニウム
等が使用できる。
【００１０】本発明に用いる触媒は単独で使用すること
も、担体に担持して用いることもできる。担体としては
シリカ、アルミナ、シリカアルミナ、炭化ケイ素、ケイ
ソウ土及びゼオライト等が挙げられる。
も、担体に担持して用いることもできる。担体としては
シリカ、アルミナ、シリカアルミナ、炭化ケイ素、ケイ
ソウ土及びゼオライト等が挙げられる。
【００１１】触媒の調製法としては、一般に知られてい
る酸化物触媒の調製法が適用できる。例えば、水に上記
バナジウム化合物、アンチモン化合物及びクロム化合物
等を加えた液を濃縮した後、乾燥、焼成する方法や、ま
た、担体に担持した触媒を得るには、上記触媒活性成分
を含む液に担体粉末をさらに加えて濃縮し、乾燥、焼成
する方法や、活性成分を含む液中に担体を浸して含浸担
持し、乾燥、焼成する方法等が採用できる。
る酸化物触媒の調製法が適用できる。例えば、水に上記
バナジウム化合物、アンチモン化合物及びクロム化合物
等を加えた液を濃縮した後、乾燥、焼成する方法や、ま
た、担体に担持した触媒を得るには、上記触媒活性成分
を含む液に担体粉末をさらに加えて濃縮し、乾燥、焼成
する方法や、活性成分を含む液中に担体を浸して含浸担
持し、乾燥、焼成する方法等が採用できる。
【００１２】本発明におけるフェノキシ置換トルエンと
しては、オルトフェノキシトルエン、メタフェノキシト
ルエン及びパラフェノキシトルエンが挙げられる。
しては、オルトフェノキシトルエン、メタフェノキシト
ルエン及びパラフェノキシトルエンが挙げられる。
【００１３】本発明において触媒存在下、フェノキシ置
換トルエンをアンモニア及び分子状酸素と気相接触反応
せしめてフェノキシ置換ベンゾニトリルを製造するにあ
たり、反応供給ガス中の分子状酸素／フェノキシ置換ト
ルエンのモル比は１．５〜７モルである。
換トルエンをアンモニア及び分子状酸素と気相接触反応
せしめてフェノキシ置換ベンゾニトリルを製造するにあ
たり、反応供給ガス中の分子状酸素／フェノキシ置換ト
ルエンのモル比は１．５〜７モルである。
【００１４】本発明における分子状酸素としては通常空
気を用いるが、純酸素又はこれと空気との混合物を用い
ることもできる。
気を用いるが、純酸素又はこれと空気との混合物を用い
ることもできる。
【００１５】原料供給ガス中のフェノキシ置換トルエン
とアンモニアのモル比は特に限定されないが、通常１：
１〜１：１００である。
とアンモニアのモル比は特に限定されないが、通常１：
１〜１：１００である。
【００１６】フェノキシ置換トルエン、分子状酸素及び
アンモニアを含む原料ガスとしては、不活性気体、例え
ば水蒸気あるいは窒素等で希釈したものを用いることも
できる。原料ガス中のフェノキシ置換トルエンの濃度は
通常０．１５〜１０モル％の範囲である。
アンモニアを含む原料ガスとしては、不活性気体、例え
ば水蒸気あるいは窒素等で希釈したものを用いることも
できる。原料ガス中のフェノキシ置換トルエンの濃度は
通常０．１５〜１０モル％の範囲である。
【００１７】本発明において原料フェノキシ置換トルエ
ンの供給速度（以下、ＬＨＳＶという。）は、通常０．
０１〜１．０ｇ／（ｍｌ・Ｈｒ）であり、好ましくは
０．０３〜０．５ｇ／（ｍｌ・Ｈｒ）である。原料ガス
の空間速度は通常２００〜１００００Ｈｒ-1であり、好
ましくは３００〜５０００Ｈｒ-1である。反応温度は通
常３００〜６５０℃であり、好ましくは３３０〜６００
℃である。また、反応は通常常圧で行われるが、減圧又
は加圧下においても実施することができる。反応器は固
定床形式のものや流動床形式のものを用いることができ
る。
ンの供給速度（以下、ＬＨＳＶという。）は、通常０．
０１〜１．０ｇ／（ｍｌ・Ｈｒ）であり、好ましくは
０．０３〜０．５ｇ／（ｍｌ・Ｈｒ）である。原料ガス
の空間速度は通常２００〜１００００Ｈｒ-1であり、好
ましくは３００〜５０００Ｈｒ-1である。反応温度は通
常３００〜６５０℃であり、好ましくは３３０〜６００
℃である。また、反応は通常常圧で行われるが、減圧又
は加圧下においても実施することができる。反応器は固
定床形式のものや流動床形式のものを用いることができ
る。
【００１８】
【発明の効果】本発明の方法によれば、フェノキシ置換
トルエンから高い空時収率でフェノキシ置換ベンゾニト
リルを製造することができる。
トルエンから高い空時収率でフェノキシ置換ベンゾニト
リルを製造することができる。
【００１９】
【実施例】次に実施例により本発明を説明するが、本発
明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、転
化率、収率、選択率及び空時収率はそれぞれ次の計算式
に従って計算した。
明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、転
化率、収率、選択率及び空時収率はそれぞれ次の計算式
に従って計算した。
【００２０】転化率：％＝（反応したフェノキシ置換ト
ルエン：モル）／（供給したフェノキシ置換トルエン：
モル）×１００
ルエン：モル）／（供給したフェノキシ置換トルエン：
モル）×１００
【００２１】収率：％＝（生成したフェノキシ置換ベン
ゾニトリル：モル）／（供給したフェノキシ置換トルエ
ン：モル）×１００
ゾニトリル：モル）／（供給したフェノキシ置換トルエ
ン：モル）×１００
【００２２】選択率：％＝（生成したフェノキシ置換ベ
ンゾニトリル：モル）／（反応したフェノキシ置換トル
エン：モル）×１００
ンゾニトリル：モル）／（反応したフェノキシ置換トル
エン：モル）×１００
【００２３】空時収率：g/(l・Hr)
＝｛（LHSV：g/ (ml・Hr))×１０００／（フェノキシ置
換トルエンの分子量）｝×｛（収率：％）／１００｝×
（フェノキシ置換ベンゾニトリルの分子量）
換トルエンの分子量）｝×｛（収率：％）／１００｝×
（フェノキシ置換ベンゾニトリルの分子量）
【００２４】実施例１
蒸留水３００ｃｃに４０％メチルアミン水溶液１６．６
ｇを加えた溶液中に、メタバナジン酸アンモニウム５．
０ｇを加えて溶解した溶液を９０℃に加熱した。これに
三酸化アンチモン２４．９３ｇ、硝酸第二クロム１７．
１１ｇ及び二酸化チタン５４．６５ｇを加えた後、１時
間混合し濃縮した。得られた残渣を１２０℃で８時間乾
燥し、空気中３００℃で２時間、更に５００℃で３時間
焼成して、バナジウム等の原子比がＶ1 Ｓｂ4 Ｃｒ1 Ｔ
ｉ16の酸化物触媒を得た。この触媒の粒径を１０〜１６
メッシュに揃え、内径２２．０ｍｍφのパイレックス製
反応管に２０ｍｌ充填した。触媒充填部を４２０℃に保
持し、メタフェノキシトルエンのＬＨＳＶを０．１ｇ／
（ｍｌ・Ｈｒ）で、メタフェノキシトルエン：アンモニ
ア：空気中の分子状酸素：水蒸気のモル比が１：１５：
３：１５の混合ガスを通した( 空間速度：５６０Ｈ
ｒ-1) 。反応生成ガスをメタノールに１５分間吸収して
捕集し、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、メ
タフェノキシトルエン転化率８５％、メタフェノキシベ
ンゾニトリル収率４９％（選択率５８％）であり、メタ
フェノキシベンゾニトリルの空時収率は５２ｇ／（ｌ・
Ｈｒ）であった。
ｇを加えた溶液中に、メタバナジン酸アンモニウム５．
０ｇを加えて溶解した溶液を９０℃に加熱した。これに
三酸化アンチモン２４．９３ｇ、硝酸第二クロム１７．
１１ｇ及び二酸化チタン５４．６５ｇを加えた後、１時
間混合し濃縮した。得られた残渣を１２０℃で８時間乾
燥し、空気中３００℃で２時間、更に５００℃で３時間
焼成して、バナジウム等の原子比がＶ1 Ｓｂ4 Ｃｒ1 Ｔ
ｉ16の酸化物触媒を得た。この触媒の粒径を１０〜１６
メッシュに揃え、内径２２．０ｍｍφのパイレックス製
反応管に２０ｍｌ充填した。触媒充填部を４２０℃に保
持し、メタフェノキシトルエンのＬＨＳＶを０．１ｇ／
（ｍｌ・Ｈｒ）で、メタフェノキシトルエン：アンモニ
ア：空気中の分子状酸素：水蒸気のモル比が１：１５：
３：１５の混合ガスを通した( 空間速度：５６０Ｈ
ｒ-1) 。反応生成ガスをメタノールに１５分間吸収して
捕集し、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、メ
タフェノキシトルエン転化率８５％、メタフェノキシベ
ンゾニトリル収率４９％（選択率５８％）であり、メタ
フェノキシベンゾニトリルの空時収率は５２ｇ／（ｌ・
Ｈｒ）であった。
【００２５】実施例２
三酸化アンチモンの量を１８．７ｇに、二酸化チタンの
量を１５０．３ｇに変えた以外は実施例１と同様な方法
で触媒の調製を行い、バナジウム等の原子比がＶ1 Ｓｂ
3 Ｃｒ1 Ｔｉ44の酸化物触媒を得た。この触媒を用い実
施例１と同様にして反応を行い反応生成ガスを分析し
た。メタフェノキシトルエン転化率７４％、メタフェノ
キシベンゾニトリル収率５８％（選択率７９％）であっ
た。メタフェノキシベンゾニトリルの空時収率は６１ｇ
／（ｌ・Ｈｒ）であった。
量を１５０．３ｇに変えた以外は実施例１と同様な方法
で触媒の調製を行い、バナジウム等の原子比がＶ1 Ｓｂ
3 Ｃｒ1 Ｔｉ44の酸化物触媒を得た。この触媒を用い実
施例１と同様にして反応を行い反応生成ガスを分析し
た。メタフェノキシトルエン転化率７４％、メタフェノ
キシベンゾニトリル収率５８％（選択率７９％）であっ
た。メタフェノキシベンゾニトリルの空時収率は６１ｇ
／（ｌ・Ｈｒ）であった。
【００２６】実施例３
ホウ酸を２．６４ｇ加えた以外は、実施例１と同様にし
て表１に示すバナジウム等の原子比を有する酸化物触媒
を調製し、実施例１と同様にして反応を行った。結果を
表１に示す。
て表１に示すバナジウム等の原子比を有する酸化物触媒
を調製し、実施例１と同様にして反応を行った。結果を
表１に示す。
【００２７】実施例４
硝酸第二クロムの量を８．５６ｇに変えた以外は、実施
例３と同様にして表１に示すバナジウム等の原子比を有
する酸化物触媒を調製し、実施例１と同様にして反応を
行った。結果を表１に示す。
例３と同様にして表１に示すバナジウム等の原子比を有
する酸化物触媒を調製し、実施例１と同様にして反応を
行った。結果を表１に示す。
【００２８】実施例５
硝酸カリウム０．８６ｇをさらに加えた以外は、実施例
１と同様にして表１に示すバナジウム等の原子比を有す
る酸化物触媒を調製し、実施例１と同様にして反応を行
った。結果を表１に示す。
１と同様にして表１に示すバナジウム等の原子比を有す
る酸化物触媒を調製し、実施例１と同様にして反応を行
った。結果を表１に示す。
【００２９】 表１
実施例 触媒中のバナジウム等 転化 メタフェノキシヘ゛ンソ゛ニトリル 番号
の原子比 率 収率 選択率 空時収率
３ Ｖ1 Ｓｂ4 Ｃｒ1 Ｔｉ16Ｂ1 ７３ ５２ ７１ ５５
４ Ｖ1 Ｓｂ4 Ｃｒ0.5 Ｔｉ16Ｂ1 ７７ ５８ ７５ ６１
５ Ｖ1 Ｓｂ4 Ｃｒ1 Ｔｉ16Ｋ0.2 ７６ ５１ ６７ ５４
【００３０】実施例６
酒石酸水溶液中に三酸化アンチモン３．０ｇを添加し溶
解した。１０％シュウ酸水溶液２０ｇ中に五酸化バナジ
ウム０．４７ｇを加え均一な溶液を得た。また、１０％
シュウ酸水溶液３５ｇ中に無水クロム酸１．０３ｇを加
え均一な溶液を得た。これらの溶液を混合し３５ｍｌま
で濃縮し、これにアルミナ球（住友化学工業株式会社製
ＮＫＨＯ−２４）２５．５ｇを浸し、含浸担持した。
その後時々撹拌しながら１２０℃で乾燥し、空気中３０
０℃で２時間、更に５００℃で３時間焼成し、アルミナ
にバナジウム等の原子比がＶ1 Ｓｂ4 Ｃｒ2 の酸化物１
５重量％を担持した触媒を得た。得られた触媒を内径２
２．０ｍｍφのパイレックス製反応管に２０ｍｌ充填
し、触媒充填部を３５０℃に保持した。メタフェノキシ
トルエンのＬＨＳＶが０．１ｇ／（ｍｌ・Ｈｒ）で、メ
タフェノキシトルエン：アンモニア：空気中の分子状酸
素：水蒸気のモル比が１：１５：３：１５の混合ガスを
上記反応管に通した（空間速度：５６０Ｈｒ-1) 。反応
生成ガスをメタノールに１５分間吸収して捕集し、ガス
クロマトグラフィーで分析したところ、メタフェノキシ
トルエン転化率６７％、メタフェノキシベンゾニトリル
収率５８％（選択率８７％）で、メタフェノキシベンゾ
ニトリルの空時収率は６１ｇ／（ｌ・Ｈｒ）であった。
解した。１０％シュウ酸水溶液２０ｇ中に五酸化バナジ
ウム０．４７ｇを加え均一な溶液を得た。また、１０％
シュウ酸水溶液３５ｇ中に無水クロム酸１．０３ｇを加
え均一な溶液を得た。これらの溶液を混合し３５ｍｌま
で濃縮し、これにアルミナ球（住友化学工業株式会社製
ＮＫＨＯ−２４）２５．５ｇを浸し、含浸担持した。
その後時々撹拌しながら１２０℃で乾燥し、空気中３０
０℃で２時間、更に５００℃で３時間焼成し、アルミナ
にバナジウム等の原子比がＶ1 Ｓｂ4 Ｃｒ2 の酸化物１
５重量％を担持した触媒を得た。得られた触媒を内径２
２．０ｍｍφのパイレックス製反応管に２０ｍｌ充填
し、触媒充填部を３５０℃に保持した。メタフェノキシ
トルエンのＬＨＳＶが０．１ｇ／（ｍｌ・Ｈｒ）で、メ
タフェノキシトルエン：アンモニア：空気中の分子状酸
素：水蒸気のモル比が１：１５：３：１５の混合ガスを
上記反応管に通した（空間速度：５６０Ｈｒ-1) 。反応
生成ガスをメタノールに１５分間吸収して捕集し、ガス
クロマトグラフィーで分析したところ、メタフェノキシ
トルエン転化率６７％、メタフェノキシベンゾニトリル
収率５８％（選択率８７％）で、メタフェノキシベンゾ
ニトリルの空時収率は６１ｇ／（ｌ・Ｈｒ）であった。
【００３１】比較例１
メタフェノキシトルエン：アンモニア：空気中の分子状
酸素：水蒸気のモル比を１：１５：１：１５（空間速
度：４４０Ｈｒ-1) にした以外は、実施例２と同様にし
て反応を行った。メタフェノキシトルエン転化率４２
％、メタフェノキシベンゾニトリル収率３４％（選択率
８１％）であった。メタフェノキシベンゾニトリルの空
時収率は３６ｇ／（ｌ・Ｈｒ）であった。
酸素：水蒸気のモル比を１：１５：１：１５（空間速
度：４４０Ｈｒ-1) にした以外は、実施例２と同様にし
て反応を行った。メタフェノキシトルエン転化率４２
％、メタフェノキシベンゾニトリル収率３４％（選択率
８１％）であった。メタフェノキシベンゾニトリルの空
時収率は３６ｇ／（ｌ・Ｈｒ）であった。
【００３２】比較例２
メタフェノキシトルエン：アンモニア：空気中の分子状
酸素：水蒸気のモル比を１：１５：３０：１５（空間速
度：２２００Ｈｒ-1) にした以外は、実施例２と同様に
して反応を行った。メタフェノキシトルエン転化率５６
％、メタフェノキシベンゾニトリル収率３３％（選択率
５９％）であった。メタフェノキシベンゾニトリルの空
時収率は３５ｇ／（ｌ・Ｈｒ）であった。
酸素：水蒸気のモル比を１：１５：３０：１５（空間速
度：２２００Ｈｒ-1) にした以外は、実施例２と同様に
して反応を行った。メタフェノキシトルエン転化率５６
％、メタフェノキシベンゾニトリル収率３３％（選択率
５９％）であった。メタフェノキシベンゾニトリルの空
時収率は３５ｇ／（ｌ・Ｈｒ）であった。
【００３３】実施例７
メタフェノキシトルエンの代わりにパラフェノキシトル
エンを用いた以外は、実施例１と同様にして反応を行っ
た。パラフェノキシトルエン転化率７５％、パラフェノ
キシベンゾニトリル収率６１％（選択率８１％）であっ
た。パラフェノキシベンゾニトリルの空時収率は６５ｇ
／（ｌ・Ｈｒ）であった。
エンを用いた以外は、実施例１と同様にして反応を行っ
た。パラフェノキシトルエン転化率７５％、パラフェノ
キシベンゾニトリル収率６１％（選択率８１％）であっ
た。パラフェノキシベンゾニトリルの空時収率は６５ｇ
／（ｌ・Ｈｒ）であった。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 中石 徹
大阪府大阪市城東区放出西２丁目12番13
号 広栄化学工業株式会社内
(56)参考文献 特開 平７−145133（ＪＰ，Ａ)
Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔ
ｓ，（1990）， Ｖｏｌ．113，ａｂｓ
ｔｒａｃｔ Ｎｏ．58636
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07C 253/28
C07C 255/54
ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】 式（１）： で示されるフェノキシ置換トルエンをアンモニア及び分
子状酸素と、触媒の存在下気相接触反応せしめて、式
（２）： で示されるフェノキシ置換ベンゾニトリルを製造するに
あたり、触媒として式（３）： Ｖa Ｓｂb Ｃｒc Ｔｉd Ａe Ｏx （３） （式中、Ａはアルカリ金属、アルカリ土類金属、ホウ素
及びリンからなる群より選ばれる少なくとも一種以上の
元素であり、Ｏは酸素原子を表わす。添字ａ、ｂ、ｃ、
ｄ、ｅ及びｘはそれぞれバナジウム、アンチモン、クロ
ム、チタン、Ａ及び酸素原子の原子比を表わす実数であ
り、ａを１としたとき、ｂは０．５〜１０、ｃは０．１
〜１０、ｄは０〜５０、ｅは０〜５であり、ｘは酸素原
子の原子価、他の元素の原子価及び原子比から決まる任
意の値である。）で示される酸化物を使用し、分子状酸
素／フェノキシ置換トルエンのモル比を１．５〜７とす
ることを特徴とするフェノキシ置換ベンゾニトリルの製
造法。 - 【請求項２】 式（３）の酸化物がシリカ、アルミナ、
シリカアルミナ、炭化ケイ素、ケイソウ土又はゼオライ
トに担持されていることを特徴とする請求項１記載の方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29552193A JP3487516B2 (ja) | 1993-11-25 | 1993-11-25 | フェノキシ置換ベンゾニトリルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29552193A JP3487516B2 (ja) | 1993-11-25 | 1993-11-25 | フェノキシ置換ベンゾニトリルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07145132A JPH07145132A (ja) | 1995-06-06 |
| JP3487516B2 true JP3487516B2 (ja) | 2004-01-19 |
Family
ID=17821704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29552193A Expired - Fee Related JP3487516B2 (ja) | 1993-11-25 | 1993-11-25 | フェノキシ置換ベンゾニトリルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3487516B2 (ja) |
-
1993
- 1993-11-25 JP JP29552193A patent/JP3487516B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ，（１９９０）， Ｖｏｌ．１１３，ａｂｓｔｒａｃｔ Ｎｏ．５８６３６ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07145132A (ja) | 1995-06-06 |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
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| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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