JPH01259071A - 硬化性組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は硬化性組成物、より詳しくは被膜形成および成
形に使用し得る硬化性組成物に関する。
形に使用し得る硬化性組成物に関する。
(従来の技術およびその課M)
無水カルボン酸基を有する化合物と活性水素を有する化
合物、特にアミン類との反応は従来から数多く研究され
ている。しかしながら、無水カルボン酸基とアミノ基と
の反応は室温で速やかかつ効率的に反応するので、両者
を混合物として貯蔵しておくことができない。
合物、特にアミン類との反応は従来から数多く研究され
ている。しかしながら、無水カルボン酸基とアミノ基と
の反応は室温で速やかかつ効率的に反応するので、両者
を混合物として貯蔵しておくことができない。
この点を改良する方法としてアミノ基を他の化合物の反
応により別のものに変化させ、必要な時に熱等の作用に
よりアミノ基を再生させる試みがなされている。例えば
、特開昭51−116852号公報には酸無水物ポリマ
ーとポリオキサジンとからなる水硬化性組成物が開示さ
れている。また、ドイツ特許第2,853.477号お
よび米国特許第4,115.169号には酸無水物とケ
チミンを含む組成物の記載がある。これらはいずれも貯
蔵安定性が高く優れた組成物であるが、得られた成形物
または塗膜の耐水性が悪い欠点がある。
応により別のものに変化させ、必要な時に熱等の作用に
よりアミノ基を再生させる試みがなされている。例えば
、特開昭51−116852号公報には酸無水物ポリマ
ーとポリオキサジンとからなる水硬化性組成物が開示さ
れている。また、ドイツ特許第2,853.477号お
よび米国特許第4,115.169号には酸無水物とケ
チミンを含む組成物の記載がある。これらはいずれも貯
蔵安定性が高く優れた組成物であるが、得られた成形物
または塗膜の耐水性が悪い欠点がある。
(課題を解決しようとする手段)
本発明者等は耐水性の悪さがアミノ基と無水カルボン酸
基との反応により生じた遊離のカルボン酸基に基づくこ
とを見出し、この遊離カルボン酸盾の作用を防止する技
術を検討し本発明を成すに到った。
基との反応により生じた遊離のカルボン酸基に基づくこ
とを見出し、この遊離カルボン酸盾の作用を防止する技
術を検討し本発明を成すに到った。
即ち、本発明は(A)無水カルボン酸基を有する化合物
、(B)ブロックドアミン化合物、(C)多価金属キレ
ート化合物らしくは多価金属アルコレート化合物を含有
する硬化性組成物を提供する。
、(B)ブロックドアミン化合物、(C)多価金属キレ
ート化合物らしくは多価金属アルコレート化合物を含有
する硬化性組成物を提供する。
成分(A)
本発明に用いる無水カルボン酸基を有する化合物として
種々の公知のものが挙げられ、例えば無水マレイン酸、
無水フタル酸、水添無水フタル酸、4−メヂル水添無水
フタル酸、無水ピロメリット酸、無水ピロメリット酸ト
リグリセリド、無水トリメリット酸エチレングリコール
エステルまたはそれらの混合物等の低分子量酸無水物、
あるいは無水イタコン酸、無水マレイン酸等のエチレン
性酸無水物とα、βエチレン性単量体との共重合物等の
高分子量酸無水物等が挙げられる。高分子量酸無水物の
酸価は30〜500.好ましくは50〜350である。
種々の公知のものが挙げられ、例えば無水マレイン酸、
無水フタル酸、水添無水フタル酸、4−メヂル水添無水
フタル酸、無水ピロメリット酸、無水ピロメリット酸ト
リグリセリド、無水トリメリット酸エチレングリコール
エステルまたはそれらの混合物等の低分子量酸無水物、
あるいは無水イタコン酸、無水マレイン酸等のエチレン
性酸無水物とα、βエチレン性単量体との共重合物等の
高分子量酸無水物等が挙げられる。高分子量酸無水物の
酸価は30〜500.好ましくは50〜350である。
無水カルボン酸基を有する化合物(以下、酸無水物と略
す。)を無水酸基に関して一価、二価、三価という分類
をすれば、本発明では二価以上の多価の酸無水物が高い
硬化性が得られるので好ましい。好ましい酸無水物の例
としては無水トリメリット酸エチレングリコールエステ
ル、無水トリメリット酸トリグリセリドおよびそれらの
水添加物、または高分子量酸無水物である。
す。)を無水酸基に関して一価、二価、三価という分類
をすれば、本発明では二価以上の多価の酸無水物が高い
硬化性が得られるので好ましい。好ましい酸無水物の例
としては無水トリメリット酸エチレングリコールエステ
ル、無水トリメリット酸トリグリセリドおよびそれらの
水添加物、または高分子量酸無水物である。
成分(B)
本発明に用いるブロックドアミン化合物は種々のものが
挙げられる。典型的なブロックドアミン化合物の例とし
てはケチミン化合物、アルジミン化合物、エナミン化合
物、オキサゾリジン化合物等があげられる。
挙げられる。典型的なブロックドアミン化合物の例とし
てはケチミン化合物、アルジミン化合物、エナミン化合
物、オキサゾリジン化合物等があげられる。
ケチミン化合物は一分子中に2個以上の第一級アミノ基
を含有する多価アミン化合物のアミノ基がケトンとの反
応によって封鎖された化合物である。多価アミン化合物
の例としてはエチレンジアミン、トリメチレンジアミン
、テトラメチレンジアミン、ヘキザメチレンジアミン、
ノナメチレンジアミン、ジエチレントリアミン等の脂肪
族アミン:イソホロンジアミン、4.4′−ジアミノジ
シクロヘキシルメタン、4.4’−ジアミノジシクロヘ
キシルプロパン、水添キシリレンジアミン、ジペンテン
ジアミン、ジアミノメンセン等の脂環族アミン;α、α
、α′、α°−テトラメチルキシリレンジアミン、キシ
リレンジアミンのようなアミノ基か芳香環に直接結合し
ていないジアミンの如き多価アミン化合物が挙げられる
。ケトンの例としてはアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ンクロ
ヘキサノン、イソホロン等のケトン類が挙げられる。ま
た、アルジミン化合物は一分子中に2個以上の第一級ア
ミノ基を含有する多価アミン化合物のアミノ基がアルデ
ヒドとの反応によって封鎖された化合物であり、上記記
載の多価アミン類を、例えば、ベンズアルデヒド、イソ
ブチルアルデヒド、アセトアルデヒド、ホルムアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド等の
アルデヒド類と脱水反応することによって得ることがで
きる。
を含有する多価アミン化合物のアミノ基がケトンとの反
応によって封鎖された化合物である。多価アミン化合物
の例としてはエチレンジアミン、トリメチレンジアミン
、テトラメチレンジアミン、ヘキザメチレンジアミン、
ノナメチレンジアミン、ジエチレントリアミン等の脂肪
族アミン:イソホロンジアミン、4.4′−ジアミノジ
シクロヘキシルメタン、4.4’−ジアミノジシクロヘ
キシルプロパン、水添キシリレンジアミン、ジペンテン
ジアミン、ジアミノメンセン等の脂環族アミン;α、α
、α′、α°−テトラメチルキシリレンジアミン、キシ
リレンジアミンのようなアミノ基か芳香環に直接結合し
ていないジアミンの如き多価アミン化合物が挙げられる
。ケトンの例としてはアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、ンクロ
ヘキサノン、イソホロン等のケトン類が挙げられる。ま
た、アルジミン化合物は一分子中に2個以上の第一級ア
ミノ基を含有する多価アミン化合物のアミノ基がアルデ
ヒドとの反応によって封鎖された化合物であり、上記記
載の多価アミン類を、例えば、ベンズアルデヒド、イソ
ブチルアルデヒド、アセトアルデヒド、ホルムアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド等の
アルデヒド類と脱水反応することによって得ることがで
きる。
−分子中に2個以上のケチミン基またはアルジミン基を
もつポリマーはエタノールアミン、3〜アミノ−1−プ
ロパツールのようなアルカノールアミン類、ジエチレン
トリアミンのような1級と2級アミンを含有しているポ
リアミン類を、上記記載のケトン類、アルデヒド類と脱
水反応することによって得られたヒドロキンケチミン、
ヒドロキシアルジミン、アミノケチミン、アミノアルジ
ミンをポリイソシアネートと反応させることにより得る
ことができる。エナミン化合物は一分子中に2個以上の
第二級アミノ基を含有する多価アミン化合物とアルデヒ
ド又はケトンとの反応によって得られる化合物である。
もつポリマーはエタノールアミン、3〜アミノ−1−プ
ロパツールのようなアルカノールアミン類、ジエチレン
トリアミンのような1級と2級アミンを含有しているポ
リアミン類を、上記記載のケトン類、アルデヒド類と脱
水反応することによって得られたヒドロキンケチミン、
ヒドロキシアルジミン、アミノケチミン、アミノアルジ
ミンをポリイソシアネートと反応させることにより得る
ことができる。エナミン化合物は一分子中に2個以上の
第二級アミノ基を含有する多価アミン化合物とアルデヒ
ド又はケトンとの反応によって得られる化合物である。
この二級アミノ基を有する多価アミン化合物はN−非置
換ヒペラジン及び構造式 %式% R’−N−A−N−R” で示される第二級ジアミン
(但し、構造式中R′およびR2はメチル、エチル、n
−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、第ニブチル、
i−ブチル、ソクロペンチル、シクロヘキシル、シアン
エチル基等であり、又Aは二価のアルキル、シクロアル
キル、アリール、ポリエーテル基等である)及び構造式 で示される環状ジアミン(但し、構造式中Aは二価のア
ルキル、シクロアルキル、アリール、ポリエーテル基等
であり、XはCH又はNである。XがCHの場合にはA
を除くことができる)等の多価アミン類が挙げられる。
換ヒペラジン及び構造式 %式% R’−N−A−N−R” で示される第二級ジアミン
(但し、構造式中R′およびR2はメチル、エチル、n
−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、第ニブチル、
i−ブチル、ソクロペンチル、シクロヘキシル、シアン
エチル基等であり、又Aは二価のアルキル、シクロアル
キル、アリール、ポリエーテル基等である)及び構造式 で示される環状ジアミン(但し、構造式中Aは二価のア
ルキル、シクロアルキル、アリール、ポリエーテル基等
であり、XはCH又はNである。XがCHの場合にはA
を除くことができる)等の多価アミン類が挙げられる。
ケトンまたはアルデヒドは上記のものが用いられる。オ
キサゾリジン化合物は分子中に一級または二級アミンと
水酸基を含有するアルカノールアミン化合物とケトンま
たはアルデヒドとの反応により封鎖された化合物であり
、たとえば、ジェタノールアミン、ジイソプロパツール
アミン、N−メチルエタノールアミン等のアルカノール
アミン類、両末端−級アミン(たとえばエチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン)と
エポキシ化合物(たとえば、エチレンオキシド、ブチレ
ンオキシド等)の反応により生じた多官能アルカノール
アミン類をアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケト
ン類又はベンズアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ア
セトアルデヒド、ホルムアルデヒド、プロピオンアルデ
ヒド、n−ブチルアルデヒド等のアルデヒド等と脱水反
応することによって得ることができる。また、多官能オ
キサジン化合物はジェタノールアミン、ジイソプロパツ
ールアミン等のアルカノールアミン類を上記のケトン類
、アルデヒド類と脱水反応することで得られる水酸基を
もつオキサゾリジン化合物を多官能イソシアネート化合
物と反応させることにより得ることができる。成分(B
)の組成物中の配合量は無水カルボキシル基1当量に対
し、アミノ基0.2〜3当量、好ましくは0.6〜2当
量である。0.2当量より少ないと良好な架橋密度が得
られず、耐溶剤性が不足する。3当量を越えると耐候性
が低下する。
キサゾリジン化合物は分子中に一級または二級アミンと
水酸基を含有するアルカノールアミン化合物とケトンま
たはアルデヒドとの反応により封鎖された化合物であり
、たとえば、ジェタノールアミン、ジイソプロパツール
アミン、N−メチルエタノールアミン等のアルカノール
アミン類、両末端−級アミン(たとえばエチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン)と
エポキシ化合物(たとえば、エチレンオキシド、ブチレ
ンオキシド等)の反応により生じた多官能アルカノール
アミン類をアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケト
ン類又はベンズアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ア
セトアルデヒド、ホルムアルデヒド、プロピオンアルデ
ヒド、n−ブチルアルデヒド等のアルデヒド等と脱水反
応することによって得ることができる。また、多官能オ
キサジン化合物はジェタノールアミン、ジイソプロパツ
ールアミン等のアルカノールアミン類を上記のケトン類
、アルデヒド類と脱水反応することで得られる水酸基を
もつオキサゾリジン化合物を多官能イソシアネート化合
物と反応させることにより得ることができる。成分(B
)の組成物中の配合量は無水カルボキシル基1当量に対
し、アミノ基0.2〜3当量、好ましくは0.6〜2当
量である。0.2当量より少ないと良好な架橋密度が得
られず、耐溶剤性が不足する。3当量を越えると耐候性
が低下する。
成分(C)
本発明に用いる多価金属キレート化合物または多価金属
アルコレート化合物としては各種の化合物を挙げ得るが
、アルミニウム化合物[例えば、アルミニウムトリス(
エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセ
チルアセトネート)、アルミニウムージ−n−ブトキサ
イドモノエチルアセトアセテート、アルミニウムージ−
n−ブトキサイドモノメチルアセトアセテート、アルミ
ニウムージイソブトキサイドモノメチルアセトアセテー
ト等];チタニウム化合物[例えば、ジ−イソプロポキ
シ−ビス(アセチルアセトン)チタネート、ジ−n−ブ
トキシ−ビス(トリエタノールアミン)チタネート、ジ
ヒドロキシ−ビス(ラフティックアシド)チタネート、
テトラオクチレングリコールチタネート等];ジルコニ
ウム化合物[例えば、ジルコニウムテトラ(アセチルア
セトネート)、酢酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニ
ウム等]:コバルト化合物[例えば、コバルトビス(ア
セチルアセトネート)シュウ酸コバルト等];亜鉛化合
物[例えば、ジンクサリチレート、ジンクベンゾエート
、ジンクオレエート、ジンクステアレート等];ニッケ
ル化合物[例えば、ビスアセチルアセトネートニッケル
、ニッケルジメチルグリオキシム、シュウ酸ニッケル等
];およびこれらの混合物が挙げられる。好ましくは着
色の余りないアルミニウムまたはジルコニウム化合物で
ある。多価金属キレート化合物または多価金属アルコレ
ート化合物の添加量は無水カルボン酸基I当量に対し、
金属0゜3〜3.0当量、好ましくは0.5〜1.5当
量である。尚、金属の当量は金属の原子量を価数で割っ
たものを意味する。金属の当量が0.3より小さいと耐
候性が悪く、3当量を越えると未反応のキレート、アル
コレートが残存し逆に耐候性が悪くなる。
アルコレート化合物としては各種の化合物を挙げ得るが
、アルミニウム化合物[例えば、アルミニウムトリス(
エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(アセ
チルアセトネート)、アルミニウムージ−n−ブトキサ
イドモノエチルアセトアセテート、アルミニウムージ−
n−ブトキサイドモノメチルアセトアセテート、アルミ
ニウムージイソブトキサイドモノメチルアセトアセテー
ト等];チタニウム化合物[例えば、ジ−イソプロポキ
シ−ビス(アセチルアセトン)チタネート、ジ−n−ブ
トキシ−ビス(トリエタノールアミン)チタネート、ジ
ヒドロキシ−ビス(ラフティックアシド)チタネート、
テトラオクチレングリコールチタネート等];ジルコニ
ウム化合物[例えば、ジルコニウムテトラ(アセチルア
セトネート)、酢酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニ
ウム等]:コバルト化合物[例えば、コバルトビス(ア
セチルアセトネート)シュウ酸コバルト等];亜鉛化合
物[例えば、ジンクサリチレート、ジンクベンゾエート
、ジンクオレエート、ジンクステアレート等];ニッケ
ル化合物[例えば、ビスアセチルアセトネートニッケル
、ニッケルジメチルグリオキシム、シュウ酸ニッケル等
];およびこれらの混合物が挙げられる。好ましくは着
色の余りないアルミニウムまたはジルコニウム化合物で
ある。多価金属キレート化合物または多価金属アルコレ
ート化合物の添加量は無水カルボン酸基I当量に対し、
金属0゜3〜3.0当量、好ましくは0.5〜1.5当
量である。尚、金属の当量は金属の原子量を価数で割っ
たものを意味する。金属の当量が0.3より小さいと耐
候性が悪く、3当量を越えると未反応のキレート、アル
コレートが残存し逆に耐候性が悪くなる。
本発明の硬化性組成物は上記成分(A)、(B)および
(C)を含有するらのであり、種々の物品の成形および
被覆用途に好適である。特に被覆用途の場合、低温硬化
性でありより好ましい。
(C)を含有するらのであり、種々の物品の成形および
被覆用途に好適である。特に被覆用途の場合、低温硬化
性でありより好ましい。
被覆用途の場合、上記成分はクリアー被覆組成物として
調合してもよく、またそれらを顔料とともに配合し、ペ
イントを形成してらよい。顔料は常套のいかなるタイプ
のものを用いてもよいか、例えば酸化鉄、酸化鉛、スト
ロンチウムクロメート、カーホンブラック、コールダス
ト、二酸化チタン、タルク、硫酸バリウムまたは色顔料
、例えばカドミウムイエロー、カドミウムレッド、クロ
ミウムイエローおよび金属顔料、例えばアルミニウムフ
レーク等であってもよい。また、キナクリドン、銅フタ
ロシアニン、ベンズイミダシロン等の有機顔料も使用可
能である。
調合してもよく、またそれらを顔料とともに配合し、ペ
イントを形成してらよい。顔料は常套のいかなるタイプ
のものを用いてもよいか、例えば酸化鉄、酸化鉛、スト
ロンチウムクロメート、カーホンブラック、コールダス
ト、二酸化チタン、タルク、硫酸バリウムまたは色顔料
、例えばカドミウムイエロー、カドミウムレッド、クロ
ミウムイエローおよび金属顔料、例えばアルミニウムフ
レーク等であってもよい。また、キナクリドン、銅フタ
ロシアニン、ベンズイミダシロン等の有機顔料も使用可
能である。
ペイント中の顔料含有量は通常顔料対被覆組成物の不揮
発分重量比として表される。本発明の実施において、顔
料対被覆組成物の不揮発分重量比が2=1はど高くても
よく、多くの場合0.05〜1:lの範囲である。
発分重量比として表される。本発明の実施において、顔
料対被覆組成物の不揮発分重量比が2=1はど高くても
よく、多くの場合0.05〜1:lの範囲である。
被覆組成物の場合、液体希釈剤が通常組成物中に存在す
る。液体希釈剤とは、溶媒または非溶媒であって、揮発
性で、塗装後に除去され、かつ簡単な塗装方法、すなわ
ち、スプレーにより所望の均一なコントロールし得る厚
さに皮膜を塗布しうるように粘度を減少することを要す
る。また、液体希釈剤は基材漏れ、重合体成分適合性、
パッケージ安定性および合一性またはフィルム形成性を
助長する。適当な希釈剤の例として芳香族炭化水素、例
えばトルエンおよびキシレン、ケトン類、例えばメチル
エチルケトンおよびメチルイソブチルエチルケトン、モ
ノエーテルグリコールアセテート類、例えば、2−エト
キシエチルアセテート、またはそれらの適合性混合物が
挙げられる。希釈剤は希釈剤および被覆組成物の不揮発
分の総重量に基づいて60重量%まで、通常20〜55
重量%存在する。
る。液体希釈剤とは、溶媒または非溶媒であって、揮発
性で、塗装後に除去され、かつ簡単な塗装方法、すなわ
ち、スプレーにより所望の均一なコントロールし得る厚
さに皮膜を塗布しうるように粘度を減少することを要す
る。また、液体希釈剤は基材漏れ、重合体成分適合性、
パッケージ安定性および合一性またはフィルム形成性を
助長する。適当な希釈剤の例として芳香族炭化水素、例
えばトルエンおよびキシレン、ケトン類、例えばメチル
エチルケトンおよびメチルイソブチルエチルケトン、モ
ノエーテルグリコールアセテート類、例えば、2−エト
キシエチルアセテート、またはそれらの適合性混合物が
挙げられる。希釈剤は希釈剤および被覆組成物の不揮発
分の総重量に基づいて60重量%まで、通常20〜55
重量%存在する。
上記成分の他に種々のフィラー、可塑剤、酸化防止剤、
紫外線吸収剤、流れコントロール剤、界面活性剤、およ
び他の配合添加剤を所望により用いてもよい。これらの
物質は任意に存在させてもよく、通常、組成物の不揮発
分に基づいて約10重量%まで配合してもよい。
紫外線吸収剤、流れコントロール剤、界面活性剤、およ
び他の配合添加剤を所望により用いてもよい。これらの
物質は任意に存在させてもよく、通常、組成物の不揮発
分に基づいて約10重量%まで配合してもよい。
本発明の組成物は、被覆用の場合、スプレー塗装、刷毛
塗り塗装、浸漬塗装、ロール塗装、流し塗装等により塗
装してもよい。この被覆組成物は本質的にいかなる基材
、例えば木、金属、ガラス、布、プラスチック、発泡体
等、または種々のプライマー面に用いてもよい。特に塗
料はプラスチックおよび金属表面、例えばスチールおよ
びアルミニウムに有利である。一般に、膜厚は所望の用
途により変化する。多くの場合、0.5〜3ミルが有用
である。基材への塗装後、塗膜を硬化する。
塗り塗装、浸漬塗装、ロール塗装、流し塗装等により塗
装してもよい。この被覆組成物は本質的にいかなる基材
、例えば木、金属、ガラス、布、プラスチック、発泡体
等、または種々のプライマー面に用いてもよい。特に塗
料はプラスチックおよび金属表面、例えばスチールおよ
びアルミニウムに有利である。一般に、膜厚は所望の用
途により変化する。多くの場合、0.5〜3ミルが有用
である。基材への塗装後、塗膜を硬化する。
硬化は常温を含む種々の温度で行ない得るが、低温、特
に50〜150℃、好ましくは60〜100℃で高い架
橋度の硬化塗膜を得る。硬化時間は硬化温度等により変
化するが、60〜100℃で10〜30分が硬化に適当
である。
に50〜150℃、好ましくは60〜100℃で高い架
橋度の硬化塗膜を得る。硬化時間は硬化温度等により変
化するが、60〜100℃で10〜30分が硬化に適当
である。
本発明の組成物は水分の存在により硬化するものであり
、実質的に水分、特に湿気から遠ざけるようにすれば貯
蔵が容易である。
、実質的に水分、特に湿気から遠ざけるようにすれば貯
蔵が容易である。
(発明の効果)
本発明の組成物は特に低温、即ち常温〜120℃の温度
で容易に硬化し得る組成物である。また、得られた硬化
物は遊離カルボン酸基が成分(C)のキレートまたはア
ルコレート化合物で封止されているので耐候性および耐
水性が高い。本発明の組成物により被膜を形成した場合
、耐溶剤性、高い膜凝集力を有し高硬度の被膜が得られ
る。
で容易に硬化し得る組成物である。また、得られた硬化
物は遊離カルボン酸基が成分(C)のキレートまたはア
ルコレート化合物で封止されているので耐候性および耐
水性が高い。本発明の組成物により被膜を形成した場合
、耐溶剤性、高い膜凝集力を有し高硬度の被膜が得られ
る。
(実施例)
本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は
これら実施例に限定されない。
これら実施例に限定されない。
製造例1
無水カルボン酸基を含むポリマー■の合成温度計、撹拌
機、冷却管、窒素導入管を備えた112の反応容器に酢
酸ブチル120重量部を仕込み、100℃に昇温しn−
ブチルアクリレート21重量部、n−ブチルメタクリレ
ート95重信部、2−エチルへキシルメタクリレート3
4重量部、イタコン酸無水物45重量部、ジオキサン6
0重量部およびt−プチルパーオキンヘキサノエート1
0重量部からなるモノマー、開始剤溶液を3時間で滴下
し、更に2時間撹拌を継続し、不運発句53%、数平均
分子fi5,500のアクリル樹脂を得た。
機、冷却管、窒素導入管を備えた112の反応容器に酢
酸ブチル120重量部を仕込み、100℃に昇温しn−
ブチルアクリレート21重量部、n−ブチルメタクリレ
ート95重信部、2−エチルへキシルメタクリレート3
4重量部、イタコン酸無水物45重量部、ジオキサン6
0重量部およびt−プチルパーオキンヘキサノエート1
0重量部からなるモノマー、開始剤溶液を3時間で滴下
し、更に2時間撹拌を継続し、不運発句53%、数平均
分子fi5,500のアクリル樹脂を得た。
製造例2〜5
無水カルボン酸機を含むポリマー■−■の合成製造例1
と同様に表−1に示す成分を用いて無水カルボン酸基を
含むポリマーを得た。
と同様に表−1に示す成分を用いて無水カルボン酸基を
含むポリマーを得た。
表−1
*カヤー0;t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサ
ノエート ** AIBN;アゾビスイソブチロニトリル製造例
6 ケチミン基を含む化合物Iの合成 撹拌機、水分分離装置つきコンデンサー、温度計を備え
た反応器に、エチレンジアミン609、シクロへキサノ
ン309、トルエン150gを仕込み、加熱還流下、発
生する水を分離除去し、8時間反応を行なった。反応液
を減圧にて濃縮し、50%溶液となるように調整した。
ノエート ** AIBN;アゾビスイソブチロニトリル製造例
6 ケチミン基を含む化合物Iの合成 撹拌機、水分分離装置つきコンデンサー、温度計を備え
た反応器に、エチレンジアミン609、シクロへキサノ
ン309、トルエン150gを仕込み、加熱還流下、発
生する水を分離除去し、8時間反応を行なった。反応液
を減圧にて濃縮し、50%溶液となるように調整した。
製造例7〜IO
ケチミン基を含む化合物■−■の合成
製造例6と同様にして、表−2に示す原料を用いて反応
液をろ退役、50%溶液としたケチミン基を含む化合物
■−■を得た。
液をろ退役、50%溶液としたケチミン基を含む化合物
■−■を得た。
表−2
製造例11
ポリケチミン基を含む化合物■の合成
製造例6と同様の反応装置にジエチレントリアミンl0
3g、メチルイソブチルケトン21o9、p−トルエン
スルホン酸1.09、ベンゼン4009を仕込み、加熱
還流不発生する水を分離除去し、5時間反応を行なった
。この溶液にイソシアネートエチルメタクリレート15
5g、ベンゼン200gを20°Cにて滴下し、さらに
3時間反応さ仕、減圧にて濃縮し、ケチミン基を含むモ
ノマーの50%溶液となるよう調整した。
3g、メチルイソブチルケトン21o9、p−トルエン
スルホン酸1.09、ベンゼン4009を仕込み、加熱
還流不発生する水を分離除去し、5時間反応を行なった
。この溶液にイソシアネートエチルメタクリレート15
5g、ベンゼン200gを20°Cにて滴下し、さらに
3時間反応さ仕、減圧にて濃縮し、ケチミン基を含むモ
ノマーの50%溶液となるよう調整した。
温度計、撹拌機、冷却管、窒素導入管を備えた反応容器
に酢酸ブチル1209を仕込み、120’C+こ昇ン品
し、n−ブチルアクリレート409、スチレン20y、
2−エチルへキシルメタクリレート301?、ケチミン
基を含むモノマー(50%溶液)309、およびパーオ
キソ−2−エチルヘキザネート4.09からなるモノマ
ー、開始剤溶液を3時間かけて滴下し、さらに2時間撹
拌し、不揮発分45%のケチミン基を含む化合物■を得
た。
に酢酸ブチル1209を仕込み、120’C+こ昇ン品
し、n−ブチルアクリレート409、スチレン20y、
2−エチルへキシルメタクリレート301?、ケチミン
基を含むモノマー(50%溶液)309、およびパーオ
キソ−2−エチルヘキザネート4.09からなるモノマ
ー、開始剤溶液を3時間かけて滴下し、さらに2時間撹
拌し、不揮発分45%のケチミン基を含む化合物■を得
た。
製造例6と同様の反応装置を用い、表−3に示した原料
を仕込み、加熱還流下、発生する水を分離除去し、5時
間反応を行ない、減圧濃縮し50%溶液となるよう調整
した。
を仕込み、加熱還流下、発生する水を分離除去し、5時
間反応を行ない、減圧濃縮し50%溶液となるよう調整
した。
表−3
製造例6と同様の反応装置を用い、表−4に示した原料
を仕込み、加熱還流下、発生する水を分離除去し、8時
間反応を行ない、減圧濃縮し、50%溶液となるよう調
整した。
を仕込み、加熱還流下、発生する水を分離除去し、8時
間反応を行ない、減圧濃縮し、50%溶液となるよう調
整した。
表−4
製造例6と同様の反応装置を用い、表−5に示した原料
を仕込み、加熱還流下、発生する水を分離除去し、5時
間反応を行ない、減圧濃縮し、50%溶液となるよう調
整した。
を仕込み、加熱還流下、発生する水を分離除去し、5時
間反応を行ない、減圧濃縮し、50%溶液となるよう調
整した。
表−5
製造例20
ポリオキサゾリジン基を含む化合物■の合成製造例6と
同様の反応装置に、ヘキサメチレンジアミン1169、
ベンゼン3009を加え、30℃にて、l、2−エポキ
シアミン150gを滴下し、さらに30℃で3時間反応
を行なう。シクロへキサノン115g、ベンゼン200
9を加え、加熱還流下、発生する水を分離除去し、8時
間反応を行ない、減圧濃縮し、50%溶液になるよう調
整した。
同様の反応装置に、ヘキサメチレンジアミン1169、
ベンゼン3009を加え、30℃にて、l、2−エポキ
シアミン150gを滴下し、さらに30℃で3時間反応
を行なう。シクロへキサノン115g、ベンゼン200
9を加え、加熱還流下、発生する水を分離除去し、8時
間反応を行ない、減圧濃縮し、50%溶液になるよう調
整した。
製造例21
オキサゾリジン基を含むポリマー■の合成製造例6と同
様の反応装置に、ジエタノールアミン105g、ンクロ
ヘキサノン1009、ベンゼン300gを仕込み、加熱
還流下、発生する水を分離除去し、5時間反応を行なっ
た。この反応溶液にイソシアネートエチルメタクリレー
ト1559、ベンゼン2009.4−メトキシフェノー
ル0゜5gを30℃にて滴下し、さらに3時間反応させ
、減圧濃縮し、オキサゾリジン基を含むモノマーの50
%溶液となるよう調整した。
様の反応装置に、ジエタノールアミン105g、ンクロ
ヘキサノン1009、ベンゼン300gを仕込み、加熱
還流下、発生する水を分離除去し、5時間反応を行なっ
た。この反応溶液にイソシアネートエチルメタクリレー
ト1559、ベンゼン2009.4−メトキシフェノー
ル0゜5gを30℃にて滴下し、さらに3時間反応させ
、減圧濃縮し、オキサゾリジン基を含むモノマーの50
%溶液となるよう調整した。
温度計、撹拌機、冷却管、窒素導入管を備えた反応容器
に酢酸ブチル120gを仕込み、120℃に界l益し、
n−ブチルメタクリレート36g、2−エチルヘキシル
メタクリレート34g、スチレン30g、オキサゾリジ
ン基を含むモノマー(50%溶液)40g、およびバー
オキソ−2−エチルヘキサネート4,09からなるモノ
マー、開始剤溶液を3時間で滴下し、さらに2時間撹拌
し、不揮発分47%のオキサゾリジン基を含む化合物■
を得た。
に酢酸ブチル120gを仕込み、120℃に界l益し、
n−ブチルメタクリレート36g、2−エチルヘキシル
メタクリレート34g、スチレン30g、オキサゾリジ
ン基を含むモノマー(50%溶液)40g、およびバー
オキソ−2−エチルヘキサネート4,09からなるモノ
マー、開始剤溶液を3時間で滴下し、さらに2時間撹拌
し、不揮発分47%のオキサゾリジン基を含む化合物■
を得た。
実施例1〜20
製造例1で得られた無水カルボン酸を含むポリマーlを
1289、製造例6で得られたケチミン基を含む化合物
130g、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテー
ト)の50%トルエン溶液37gおよびメチルイソブチ
ルケトン25gを混合してクリヤー塗料を得た。同様に
表−6に示す配合を用いて塗料を作成した。
1289、製造例6で得られたケチミン基を含む化合物
130g、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテー
ト)の50%トルエン溶液37gおよびメチルイソブチ
ルケトン25gを混合してクリヤー塗料を得た。同様に
表−6に示す配合を用いて塗料を作成した。
得られた塗料を酢酸ブチル/キシレン−1/1の混合液
で希釈し、ドクターブレードでリン酸処理鋼板に塗装し
、80℃で30分焼き付けた。得られた塗膜の性能を表
−7に示す。
で希釈し、ドクターブレードでリン酸処理鋼板に塗装し
、80℃で30分焼き付けた。得られた塗膜の性能を表
−7に示す。
比較例1
実施例1に於いて、アルミニウムトリス(エチルアセト
アセテート)を除いた他は、同様にして塗料を得た。
アセテート)を除いた他は、同様にして塗料を得た。
比較例!で得られた塗料を実施例1〜20と同様にして
塗装し、得られた塗膜性能を表−7に示す。
塗装し、得られた塗膜性能を表−7に示す。
表−7
*1三菱エンピッのユニを用いて塗膜をこすった場合に
、塗膜剥離か生じた鉛筆硬度。
、塗膜剥離か生じた鉛筆硬度。
*2キシレンに浸漬した布で往復拭きを8回行なったと
きの塗膜の状態を示す。
きの塗膜の状態を示す。
*3塗膜をガソリンに24時間浸漬した時の塗膜の状態
を示す。
を示す。
*4耐水性は塗膜を50°C温水にIO日間浸漬後の塗
膜の状態を示す。
膜の状態を示す。
特許出願人 日本ペイント株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(A)無水カルボン酸基を有する化合物、 (B)ブロックドアミン化合物、 (C)多価金属キレート化合物もしくは多価金属アルコ
レート化合物 を含有する硬化性組成物。 2、ブロックドアミン化合物(B)がケチミン基または
アルジミン基でブロックされた請求項1記載の組成物。 3、ブロックドアミン化合物(B)がエナミン基でブロ
ックされた請求項1記載の組成物。 4、ブロックドアミン化合物(B)がオキサゾリジン基
でブロックされた請求項1記載の組成物。 5、多価金属キレート化合物または多価金属アルコレー
ト化合物(C)がTi、Al、Zr、Co、Feまたは
Niのキレートまたはアルコレート化合物である請求項
1記載の組成物。 6、組成物が被覆組成物である請求項1記載の組成物。 7、請求項1記載の硬化性組成物より得られた硬化物品
。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8755788A JPH01259071A (ja) | 1988-04-08 | 1988-04-08 | 硬化性組成物 |
US07/334,549 US4983715A (en) | 1988-04-08 | 1989-04-07 | Curable composition |
AU32584/89A AU616744B2 (en) | 1988-04-08 | 1989-04-07 | Curable composition |
EP89106141A EP0336428B1 (en) | 1988-04-08 | 1989-04-07 | Curable composition |
DE8989106141T DE68901293D1 (de) | 1988-04-08 | 1989-04-07 | Haertbare zusammensetzung. |
CA000596138A CA1338814C (en) | 1988-04-08 | 1989-04-07 | Curable composition |
KR1019890004667A KR890016126A (ko) | 1988-04-07 | 1989-04-08 | 경화성 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8755788A JPH01259071A (ja) | 1988-04-08 | 1988-04-08 | 硬化性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01259071A true JPH01259071A (ja) | 1989-10-16 |
Family
ID=13918291
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8755788A Pending JPH01259071A (ja) | 1988-04-07 | 1988-04-08 | 硬化性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01259071A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8007878B2 (en) | 2005-08-03 | 2011-08-30 | Fujifilm Corporation | Antireflection film, polarizing plate, and image display device |
US8017242B2 (en) | 2005-09-28 | 2011-09-13 | Fujifilm Corporation | Antireflection film, polarizing plate and image display |
-
1988
- 1988-04-08 JP JP8755788A patent/JPH01259071A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8007878B2 (en) | 2005-08-03 | 2011-08-30 | Fujifilm Corporation | Antireflection film, polarizing plate, and image display device |
US8017242B2 (en) | 2005-09-28 | 2011-09-13 | Fujifilm Corporation | Antireflection film, polarizing plate and image display |
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