JPH01258689A - シラン官能化化合物 - Google Patents

シラン官能化化合物

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JPH01258689A
JPH01258689A JP1042036A JP4203689A JPH01258689A JP H01258689 A JPH01258689 A JP H01258689A JP 1042036 A JP1042036 A JP 1042036A JP 4203689 A JP4203689 A JP 4203689A JP H01258689 A JPH01258689 A JP H01258689A
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silane
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JP1042036A
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Rack Han Chung
ラック・ハン・チュング
William D Kray
ウィリアム・デビット・クライ
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General Electric Co
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    • B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/02—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は紫外線防止剤の前駆体に関するものである。さ
らに詳しくはシラン官能化フェニル安息香酸エステル及
びシラン官能化フェニルフェニルスルホン酸エステルに
関するものである。また、上記前駆体を含む輻射線硬化
性被覆用組成物、及び硬化した該組成物で被覆された基
体にも関する。
例えばレキサン（ＬＥＸＡＮ　、登録商標）ポリカーボ
ネートのような多くの熱可塑性樹脂は、建築物や鉄道車
両、航空機等における透明材料として用いられる際に、
通常の作用条件下で透明性を保つためには表面摩耗抵抗
性の表面被覆を必要とする。
そのような被覆で特に有用な種類には、加水分解媒体（
例えばアルコール、水）中のシリカ及び加水分解性シラ
ン混合物があり、例えばｍ１ｓｅｈ等の米国特許節３，
７０８，２２５号、ｃｌａｒｋの米国特許節３，９８６
．９９７号および第３．９７６゜４９７号、Ｕｂｅｒｓ
ａｘの米国特許節４．　１７７、　３１５号、及び１９
７８年１１月３０日出願の米国特許出願節９６４．９１
０号に記載されている。
これらの被覆は熱によって硬化し、種々の既知フェノー
ル系紫外線（ＵＶ）防止剤を添加することにより紫外線
抵抗性が付与される。しかしながら、これらは移行して
可塑化効果を生じやすいので、被覆用組成物中への反応
を確実にするためにＵＶ防止剤のシラン官能化、例えば
シリアルキルエーテル置換基の形成、が開発された。ｅ
ｈｉｎｇの１９８０年５月３０日出願米国特許出願第１
５４，６２５号の他、Ａｓｈｂｙと５ｃｈｒｏｅｔｅｒ
の１９８０年５月３０日出願米国特許出願第１５４．６
２１号及びＡｓｈｂｙの１９８０年５月３０日出願米国
特許出願第１５４．６２２号を参照。
表面被覆に関するより最近の開発技術はｅｈｌｎｇの１
９８０年３月１１日出願米国特許出願第１２９．２９７
号に記載されており、これには紫外線硬化性シリコーン
硬質被覆用組成物が開示されている。多くの既知のＵＶ
防止剤は、これらの組成物には有効でなく、その理由と
してはそれらは硬質の表面を形成するのに必要な硬化を
遅らせるからである。
ここに、ＵＶ防止剤前駆体の官能化誘導体を提供できる
こと、及びこれはｃｈｕｎｇの出願に記載されたタイプ
のＵＶ−硬化性組成物の硬化を遅延させないことが見出
された。さらに、ＵＶ−硬化が完了した後、前駆体はフ
リース転位として知られている光化学反応によりその場
において官能化ＵＶ防止剤となることが認められる。例
えば次に示すように化合物１は転位してＵＶ−防止剤２
となる。
これと全く同様に、本発明で意図する前駆体は、例に記
載したように、フリース転位を受けてヒドロキシベンゾ
フェノン及びヒドロキシフェニルフェニルスルホンのＵ
Ｖ防止剤となり、例えばポリ（ビスフェノールＡカーボ
ネート）がＵＶ−硬化した硬質被膜下で黄変するのを効
果的に防止する。
本発明によって、式 ％式％（２） Ｒ１は０１〜Ｃ６アルキル基、Ｒ２は０１〜Ｃ６アルキ
ル基又はＣ２〜Ｃ５アルカノイル基、Ｒ３は水素又は０
１〜Ｃ６アルコキシル基、Ｘは０．１又は２、ｙは１．
２又は３、Ｘ＋ｙ−３）で表わされる化合物から選択さ
れたシラン官能化紫外線防止剤の前駆体が提供される。
好ましい具体的としては、化合物（１）はＲが０ＣＨ３
、ｘが１、ｙが２の場合であり、化合物ＣＲ２ＣＲ３、
Ｒ３がＨ，ｘが０、ｙが３の場Ｒ２がＣＨ３又は−ＣＨ
２ＣＨ３、Ｘが０、ｙが３の場合である。
本発明の化合物はプラスチック又は被覆等において紫外
線防止剤前駆体として用いることができる。しかし、好
ましい具体例としては、アルコキシ官能性シランの酸加
水分解生成物である成分（Ａ）及び、アクリロキシ官能
性シランの酸加水分解生成物又はグリシドキシ官能性シ
ランの酸加水分解生成物又はそれらの混合物である成分
（Ｂ）の混合物から成る被覆用組成物に用いる場合があ
る。この混合物において触媒量の陽イオン性光開始剤が
存在すると、加水分解生成物の紫外線による硬化反応促
進に効果的である。光開始剤の例には、輻射線感受性の
ハロニウム、ホスホニウム又はスルホニウム塩がある。
したがって、本発明を実際に用いたものとしては、 （Ａ）１００重量部のアルコキシ官能性シランの酸加水
分解生成物、 （Ｂ）１０〜１０００重量部の （１）アクリロキシ官能性シラン （ｉｔ　）グリシドキシ官能性シラン、又は（ｉｉ）（
１）と（ｉｉ　）の混合物、（Ｃ）触媒量の光開始剤、
及び （Ｄ）２〜１５重量部の前に定義されたシラン官能化紫
外線防止剤前駆体、から成る輻射硬化性被覆用組成物が
ある。
本発明はまた、上記組成物で被覆された基体をも意図し
ており、この被覆は紫外線で硬化されると硬質被膜とな
り、その場で生成したＵＶ防止剤を含むものである。
本発明の化合物は多くの方法により製造できる。
化合物（１）は以下に示す経路に従い、オイゲノール（
市販されている）を塩化ベンゾイル又は塩化ベンゼンス
ルホニルと反応させ、次いで白金触媒を用いて二重結合
にヒドロシランを付加することにより得られる。
（式中Ｒｓ　Ｒ’　、Ｒ２、ｘ及びｙは前記定義の通り
） 化合物（ｉｉ　）は以下に示す経路に従い、レゾルシノ
ールを臭化アリルと反応させ、次いで塩化ベンゾイル又
は塩化ベンゼンスルホニルと反応させ、最後に白金触媒
を用いて二重結合にヒドロシランを付加することにより
得られる。
ＯＨ ＯＨ ＯＲ （式中Ｒ％Ｒ１、Ｒ２、ｘ及びｙは前記定義の通り） 化合物（ｉｉ）は次に示す経路に従い、相当する置換フ
ェニルベンゾトリアゾールを臭化アリルと反応させ、次
いで塩化ベンゾイル又は塩化ベンゼンスルホニルと反応
させ、最後に白金触媒を用いて二重結合にヒドロシラン
を付加することにより得られる。
ＯＨ ＯＣＨ２ＣＨ−ＣＨ２ ＯＲ ０ＣＨ２ＣＨ−ＣＨ２ Ｏ（ＣＨ２）　Ｊ　Ｒ’　ＳしくＯＲ”　）　ｙ（式中
Ｒ，Ｒ’　、Ｒ２、ｘ及びｙは前記定義の通り） これらの具体例の製造に関しては後に示す実施例で説明
する。
本発明で使用される被覆用組成物については、主成分の
１つは官能性シランの加水分解生成物の成分（Ａ）であ
る。このシランは通常衣の一般式％式％） （式中Ｒ４及びＲ６は同じ又は異なる１価の炭化水素基
で、そのハロゲン化物も含む） 好ましくはＲ４及びＲ６は例えばＣ１〜Ｃａ　　（メチ
ル、エチル、プロピル等）の低級アルキル基であるが、
ビニル、アリール等のその他の飽和又は不飽和基でもよ
い。ａはθ〜３の整数であり、シラン分子中には４−ａ
個のアルコキシル基がある。
テトラアルコキシシランが特に効果的でａはしばしば０
となる。
これらのシランの加水分解生成物は酸の触媒量の存在下
でシランを過剰の水に接触させることにより得られる。
水を化学量論量より少なくすると、部分加水分解生成物
が得られる。これらの部分加水分解生成物も本発明の硬
質被膜を得るために用いることができる。特に有用なア
ルコキシ官能性シランには次のものがある。テトラエト
キシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジエチルジェ
トキシシラン、トリエチルエトキシシラン、テトラメト
キシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメ
トキシシラン及びトリメチルメトキシシラン。
第２の成分はアクリロキシ官能性シランの酸加水分解生
成物又はグリシドキシ官能性シランの酸加水分解生成物
又はそれらの混合物の成分（Ｂ）である。アクリロキシ
官能性シランは（ＩＩ）によって示される一般式を有す
る。
式中Ｒ６及びＲ７は、前記Ｒ４及びＲ５で定義されたと
同じ１価の炭化水素基であり、互いに同じでも異なって
もよい。Ｒ６は２〜８個の炭素原子を有する２価の炭化
水素基、Ｒ９は水素、又は１価の炭化水素基、ｂは１〜
３の整数、Ｃはθ〜２の整数、ｄは４−ｂ−ｃの整数で
ある。本発明の場合具体的にはｂが３、Ｃが０、ｄが１
であることが多い。アクリロキシ官能性シランの具体例
としては次のものがある。
３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ３−アク
リロキシプロピルトリメトキシシラン２−メタクリロキ
シエチルトリメトキシシラン２−アクリロキシエチルト
リメトキシシラン３−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン ３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン２−メタ
クリロキシエチルトリエトキシシラン２−アクリロキシ
エチルトリエトキシシランこれらのアクリロキシ官能性
シランは市販のものを利用できる。例えば３−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシランはユニオンカーバイ
ド社から市販されている。被覆用組成物の第２の主成分
（成分Ｂ）は、上記のアクリロキシ官能性シランの代わ
りにグリシドキシ官能性シランでもよく、両方の型のシ
ランの組み合わせ、即ち混合物でもよい。グリシドキシ
官能性シランは（ＩＩＩ）によって示される一般式を有
する。
（ｍ）　　（Ｒ’　Ｏ）　、　Ｒ”　ｒ　−５ｈ　［Ｒ
′２−〇−ＣＨ２−Ｈξ−εＨ２〕８式中Ｒ１６及びＲ
１＋は前に定義されたＲ４及びＲ５と同じ１価の炭化水
素基であり、互いに同じ又は異なる。ＲＩ２は２〜８個
の炭素原子を有する２価の炭化水素基であり、ｅは１〜
３の整数、ｆはθ〜２の整数、ｇは４−ｅ−ｆの整数で
ある。有用なグリシドキシ官能性シランの具体例には次
のものがある。
３−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン３−グリ
シドキシエチルトリメトキシシラン３−グリシドキシプ
ロビルトリエトキシシラン３−グリシドキシエチルトリ
エトキシシランこれらのグリシドキシ官能性シランは市
販のものを利用してもよい。例えばペトラーチシステム
ズ（Ｐｅｔｒａｒｃｈ　Ｓｙｓｔｅｍｓ）社より入手で
きる。本発明の輻射線硬化性被覆用組成物は、アルコキ
シ官能性シラン（式Ｉで示される）の酸加水分解物１０
０重量部と、アクリロキシ官能性シラン（式■で示され
る）又はグリシドキシ官能性シラン（式■で示される）
又はそれらの混合物の酸加水分解生成物のいずれかを約
１０〜１０００重量部混合したものから成る。この混合
物に陽イオン性光開始剤の触媒量及び紫外線防止剤前駆
体を２〜１５重量部添加する。効果的な光開始剤は文献
に記載されている輻射線感受性芳香族ハロニウム、スル
ホニウム又はホスニウム塩である。
陽イオン性光開始剤は多くの米国特許及び特許出願中に
Ｃｒ１ｖｅｌｌｏにより記載されており、例えば米国特
許第４，１３６，１０２号（１９７９年１月２３日発行
）、米国特許第３．９８１，８９７号（１９７６年９月
２１日発行）がある。これらの陽イオン性光開始剤は（
ＩＶ）で示される一般式％式％ 上記式においてＸは！、Ｐ及びＳから選ばれた基である
。Ｍは金属又はメタロイド、ＱはＣＩ、ＦｌＢ「及び■
から選ばれたハロゲンである。ＲＩ３は水素又は１〜１
２個の炭素原子を有する１価の炭化水素基である。ｈは
４〜６の整数、ｎは２又は３の整数である。
［ＭＱｈ］−は任意のイオンであるが好ましくはＳｂＦ
６−　、Ａ６Ｆ６−　、Ｂ　Ｆａ−及びＰＦ６−から選
ばれる。
陽イオン性光開始剤は、前記成分Ａ及びＢの混合物１０
０重量部に対して約０．２０重量部用いるのが通常好ま
しい。しかしながら硬化速度や最大摩耗抵抗のようなそ
れぞれ望ましいプロセスパラメーターによって、開始剤
の量は成分Ａ及びＢの混合物１００重量部につき約０．
０１〜５重量部の範囲で変化し得る。
陽イオン性光開始剤は、紫外線に暴露された場合に、式
１１■及び■で示される組成物中の加水分解アルコキシ
基の間の架橋反応を開始するのに特に有効である。この
ようにして、被覆用組成物を基体に塗付しＵＶランプな
どで照射するとすぐれた接着性を存する良質の硬質被膜
が得られる。
本発明のＵＶ硬化性被覆用組成物は普通、固体基体の少
なくとも１面に被覆される。固体の基体は合成有機重合
体、金属又はガラスから成る。また金属化面を有する合
成有機重合体の基体も含まれる。
組成物を基体に塗付する前に、下塗り工程を任意に行な
うことができ、それは熱硬化性アクリルエマルジョンの
ようなブライマーを最初に塗付するものである。被覆用
組成物を、基体又は下塗りした基体に塗付した後、例え
ばハノビア（Ｈａｎｏｖｉａ　）の５５０ワツトランプ
又はＰＰＧプロセッサー〇Ｃ１２０２型を用いて紫外線
の有効量に暴露されると被覆層は硬化し、その場にＵＶ
防止剤を生じる。
本発明の被覆用組成物は、流し塗、吹付け、浸せき等の
慣用の方法で種々の固体基体に塗付することができ、連
続表面皮膜を形成する。浸せき塗装を低速で行なった場
合に最適の被膜厚が得られる。基体については、ここで
特に意図しているのは透明及び不透明なプラスチック及
び金属である。
より詳しくはこれらのプラスチックはポリ（メチルメタ
クリレート）のようなアクリル重合体、ポリ（エチレン
テレフタレート）、ポリ（プチレンテ−レフタレート）
等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、アクリロ
ニトリル−スチレン共重合体、スチレン−アクリロニト
リル−ブタジェン共重合体、ポリ塩化ビニル、ブチル化
樹脂、ポリエチレン等の合成有機重合体の基体である。
本発明の被覆用組成物はポリ（ビスフェノール−Ａカー
ボネート）や、ゼネラルエレクトリック社から市販され
ているレキサン（Ｌｅｘａｎ登録商標）として知られる
ポリ（ビスフェノール−へカーボネート）用の被覆とし
て、また射出成形や押出し成形されたポリメチルメタク
リレートのようなアクリル樹脂の被覆として特に有用で
ある。本発明の保護波膜が施こされると効果的な金属基
体には、光沢のある金属、アルミニウム等の曇った金属
、スパッタークローム合金のような光沢のある金属蒸着
表面がある。ここで意図されているその他の固体基体に
は木材、塗装表面、皮、ガラス、陶磁器及び織物がある
。
配合、塗付条件、及びブライマー使用を含む基体の予備
処理を適宜選択することにより、被膜はほとんどすべて
の固体基体に接着する。前記性質及び利点をすべて有す
る被膜は、残留溶剤及び加水分解反応の副生物であるメ
タノールやエタノールのような揮発性物質を除去すると
得られる。これらの残留成分を別にすれば本発明は実質
的に無溶剤の被覆用組成物を提供する。
被膜厚はさまざまであるが、耐摩耗性の改良のためには
３〜１０ミクロン、好ましくは５ミクロンの被膜厚が利
用される。
当分野の技術者にとって本発明の実施をよりよく理解で
きるように、次の実施例を説明のために示すが、これは
限定するためではない。
実施例１ （ａ）安息香酸２−メトキシ−４−アリルフェニル； １−アリル−３−メトキシ−４−ヒドロキシベンゼン（
オイゲノール）１モル、水酸化カリウム１モル及び塩化
ベンゾイル１モルの水における混合物を窒素の下で１８
〜２０℃で１２時間かく拌する。生成する固体をろ過し
、水で洗浄する。インプロパツールからの再結晶により
、ｍ、ｐ、１５４〜６５℃の安息香酸２−メトキシ−４
−アリルフェニルが生成する。
（ｂ）安息香酸２−メトキシ−４−メチルジメトキシシ
リルプロビルフェニル；安息香酸２−メトキシ−４−ア
リルフェニル１モルのトルエン溶液に、１８〜２０℃に
おいて白金ヒドロシリル化錯体（ＧＥ社の５ＰＢＤ−８
８０３４）の触媒量の存在下でメチルジメトキシシラン
２モルを添加する。反応混合物は溶剤がなくなるまで蒸
発させると、薄黄色の油状物質生成物が残る。
工程（ａ）において塩化ベンゾイルの代わりに塩化ベン
ゼンスルホニルを用いて操作をくり返すと２−メトキシ
−４−（３−メチルジメトキシシリル−プロピル）−フ
ェニル−ベンゼンスルホネートが得られる。
実施例２ （ａ）安息香酸３−アリルオキシフェニル；温度計、還
流冷却器、滴下漏斗、加熱マントル及びかく拌機を備え
た１１三ロフラスコに、レゾルシノールモノ安息香酸エ
ステル１０７ｇ（０，５モル）、ドライアセトン５００
ｍ１．及び炭酸カリウム６９ｇ（０，５モル）を入れる
。次に約２０℃で窒素の下でかく拌しながら臭化アリル
７５ｇ（０，６２モル）をゆっくり添加する。臭化アリ
ルの添加が完了した後混合物を１６時間還流する。
反応混合物を約２０℃に冷却し、減圧下で濃縮する。塩
化メチレンを添加し、希釈炭酸水素ナトリウム溶酸で洗
浄する。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、有
機溶媒を除去すると薄黄色の液体が得られる。粗物質を
１４５℃、０．０３ｍｍ１１ｇで蒸留し、生成物９８ｇ
を得る。
（ｂ）３−　（３−トリメトキシシリル−プロポキシ）
−フェニル−ベンゾエート；安息香酸３−アリルオキシ
フェニル２５．　４ｇ　（０，１モル）、ドライトルエ
ン５０ｍ１．）リメトキシシラン２０ｇ（０，１５モル
）及び白金ヒドロシリル化触媒２滴の混合物を窒素の下
で９０℃で１７時間加熱する。反応混合物を約２０℃に
冷却した後、減圧下で濃縮するとＵＶ防止剤前廁体の生
成物が得られる。精製のために生成物を、溶離剤として
ジクロメタンを使い短いシリカカラムを通す。
実施例３ ４−（３−トリメトキシシリル−プロポキシ）−２−（
２−Ｎ−ベンゾトリアゾリル）−フェニル−ベンゾエー
ト−実施例２の（ｂ）工程と同じ方法により、安息香酸
４−アリルオキシ−２−（１−Ｎ−ベンゾトリアゾリル
）フェニル３７゜１ｇ（０，１モル）、トリメトキシシ
ラン２５ｇ（０，２モル）、ドライトルエン１００ｍ１
及び白金ヒドロシリル化触媒の触媒量を反応させること
により表題の化合物が得られる。
実施例４ テトラエトキシシラン（ＴＥＳ）５２ｇ　（０゜２５モ
ル）及び水９ｇ（０，５モル）の混合物を約θ″〜３℃
に冷却し、過塩素酸０．４ｇを添加する。氷が溶けてか
ら混合液をかく拌する。ろ過により不溶性粒子を除去す
ると、５．６センチストークスの粘度を有するＴＥＳ−
加水分解生成物の透明溶液が得られる。次に、３−メタ
クリルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＭＰＴＭＳ
）２４．８ｇ　（０，１モル）及び水２．７ｇ＜０゜１
５モル）を混合して室温において過塩素酸２滴を加える
と第２の乳化溶液が得られる。室温で一晩かく拌すると
、８．６センチストークスの粘度を存するＭＰＴＭＳ−
加水分解生成物の薄縁色の溶液が得られる。ＴＥＳ−加
水分解生成物５ｇ及びＭＰＴＭＳ−加水分解生成物４ｇ
の混合物に陽イオン性触媒であるヘキサフルオロヒ酸ジ
フェニルヨードニウム６０ｍｇを添加する。次に、安息
香酸２−メトキシ−４−メチルジメトキシシリルプロビ
ルフェニル１．０ｇを添加する。透明な溶液が得られる
から、それをポリ（ビスフェノールＡカーボネート）で
あるレキサンの透明シートに流し塗りし、被覆パネルを
室温で３０分乾燥する。
次にハノビア（Ｈａｎｏｖｉａ　）　　５５０ワツトの
単ランプで照射する。良好な接着性を有する硬質被膜が
１２〜６０秒で得られる。ＵＶに暴露されるとその場に
２−ヒドロキシ−３−メトキシ−５−メチルジメトキシ
シリルプロビルベンゾフェノン化合物を生ずるため、こ
のパネルは黄変に対してすぐれた抵抗性を有する。
実施例２及び３のＵＶ防止前駆体をそれぞれ代わりに用
いて実施例４の操作をくり返す。再び、硬い被膜を存し
、黄変に対する抵抗性のすぐれたポリ　（ビスフェノー
ルＡカーボネート）シートが得られる。
これまでの詳細な記載に照らして多くの変形が当分野の
技術者にとって想起されるのは当然である。このような
変更はすべて本願特許請求の範囲の意図する範囲内に含
まれるものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは▲数式、化学式、表等があります▼又は▲
    数式、化学式、表等があります▼、 Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキル基、Ｒ＾２はＣ＿１〜
    Ｃ＿６アルキル基又はＣ＿２〜Ｃ＿５アルカノイル基、
    ｘは０、１又は２、ｙは１、２又は３、ｘ＋ｙ＝３）で
    表わされるシラン官能化化合物。 ２、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾２は−ＣＨ＿３又は−ＣＨ＿２ＣＨ＿３）を
    有する特許請求の範囲第１項に記載の化合物。
JP1042036A 1980-08-01 1989-02-23 シラン官能化化合物 Pending JPH01258689A (ja)

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