JPS638999B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS638999B2 JPS638999B2 JP56117907A JP11790781A JPS638999B2 JP S638999 B2 JPS638999 B2 JP S638999B2 JP 56117907 A JP56117907 A JP 56117907A JP 11790781 A JP11790781 A JP 11790781A JP S638999 B2 JPS638999 B2 JP S638999B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- coating
- mixture
- silane
- integer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 19
- 239000000047 product Substances 0.000 description 19
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 18
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- -1 poly(bisphenol A) Polymers 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 14
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 14
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 13
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 11
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 11
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 9
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 8
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005903 acid hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 6
- 239000012952 cationic photoinitiator Substances 0.000 description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- RRAFCDWBNXTKKO-UHFFFAOYSA-N eugenol Chemical compound COC1=CC(CC=C)=CC=C1O RRAFCDWBNXTKKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonyl chloride Chemical compound ClS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 CSKNSYBAZOQPLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920004142 LEXAN™ Polymers 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920000379 polypropylene carbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPBVQXIMTZKSBA-UHFFFAOYSA-N Chavibetol Natural products COC1=CC=C(CC=C)C=C1O NPBVQXIMTZKSBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005770 Eugenol Substances 0.000 description 2
- 238000005618 Fries rearrangement reaction Methods 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UVMRYBDEERADNV-UHFFFAOYSA-N Pseudoeugenol Natural products COC1=CC(C(C)=C)=CC=C1O UVMRYBDEERADNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DIUCUWGLNHILNI-UHFFFAOYSA-N [3-(3-dimethoxysilylpropyl)-2-methoxy-4-methylphenyl] benzoate Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)(=O)OC1=C(C(=C(C=C1)C)CCC[SiH](OC)OC)OC DIUCUWGLNHILNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229960002217 eugenol Drugs 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229920005613 synthetic organic polymer Polymers 0.000 description 2
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 2
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical class OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVSASAQBLQHNPL-UHFFFAOYSA-N 2-(benzenesulfonyl)phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 RVSASAQBLQHNPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIOSJKSGNLGONI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbenzenesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 RIOSJKSGNLGONI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILYSAKHOYBPSPC-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbenzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ILYSAKHOYBPSPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSZUMUMZENQVMD-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethyl 2-methylprop-2-enoate 2-triethoxysilylethyl prop-2-enoate 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCC[Si](OCC)(OCC)OCC.C(C(=C)C)(=O)OCC[Si](OCC)(OCC)OCC.C(C=C)(=O)OCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VSZUMUMZENQVMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVNWQSXXRMNYKH-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-benzotriazole Chemical class C1=CC=CC=C1C1=CC=CC2=C1NN=N2 BVNWQSXXRMNYKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004418 Lexan Substances 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- DGGQHFVSFIFYNB-UHFFFAOYSA-N [3-(3-trimethoxysilylpropoxy)phenyl] benzoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC1=CC=CC(OC(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 DGGQHFVSFIFYNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYEMSRDJNPLYJH-UHFFFAOYSA-N [4-(3-dimethoxysilylpropyl)-2-hydroxy-3-methoxy-5-methylphenyl]-phenylmethanone Chemical class OC1=C(C(=O)C2=CC=CC=C2)C=C(C(=C1OC)CCC[SiH](OC)OC)C KYEMSRDJNPLYJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- MAYCNCJAIFGQIH-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene 5-phenylpenta-2,4-dienenitrile Chemical compound C=CC=C.N#CC=CC=CC1=CC=CC=C1 MAYCNCJAIFGQIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000011951 cationic catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013058 crude material Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N diethoxy(diethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)OCC ZMAPKOCENOWQRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- DFJDZTPFNSXNAX-UHFFFAOYSA-N ethoxy(triethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)CC DFJDZTPFNSXNAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000037452 priming Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/02—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials to macromolecular substances, e.g. rubber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2483/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S522/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S522/907—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series involving precursor of an ultraviolet absorber, e.g. monobenzoate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
本発明は紫外線防止剤の前駆体に関するもので
ある。さらに詳しくはシラン官能化フエニル安息
香酸エスチテル及びシラン官能化フエニルフエニ
ルスルホン酸エステルに関するものである。ま
た、上記前駆体を含む輻射線硬化性被覆用組成
物、及び硬化した該組成物で被覆された基体にも
関する。 例えばレキサン(LEXAN、登録商標)ポリカ
ーボネートのような多くの熱可塑性樹脂は、建築
物や鉄道車両、航空機等における透明材料として
用いられる際に、通常の作用条件下で透明性を保
つためには表面摩耗抵抗性の表面被覆を必要とす
る。そのような被覆で特に有用な種類には、加水
分解媒体(例えばアルコール、水)中のシリカ及
び加水分解性シラン混合物があり、例えばmisch
等の米国特許第3708225号、clarkの米国特許第
3986997号及び第3976497号、Ubersaxの米国特許
第4177315号、及び1978年11月30日出願の米国特
許出願第964910号に記載されている。これらの被
覆は熱によつて硬化し、種々の既知フエノール系
紫外線(UV)防止剤を添加することにより紫外
線抵抗性が付与される。しかしながら、これらは
移行して可塑化効果を生じやすいので、被覆用組
成物中への反応を確実にするためにUV防止剤の
シラン官能化、例えばシリルアルキルエーテル置
換基の形成、が開発された。chingの1980年5月
30日出願米国特許出願第154625号の他、Ashbyと
Schroeterの1980年5月30日出願米国特許出願第
154621号及びAshbyの1980年5月30日出願米国特
許出願第154622号を参照。 表面被覆に関するより最近の開発技術はching
の1980年3月11日出願米国特許出願第129297号に
記載されており、これには紫外線硬化性シリコー
ン硬質被覆用組成物が開示されている。多くの既
知のUV防止剤は、これらの組成物には有効でな
く、その理由としてはそれらは硬質の表面を形成
するのに必要な硬化を遅らせるからである。 ここに、UV防止剤前駆体の官能化誘導体を提
供できること、及びこれはchungの出願に記載さ
れたタイプのUV―硬化性組成物の硬化を遅延さ
せないことが見出された。さらに、UV―硬化が
完了した後、前駆体はフリース転位として知られ
ている光化学反応によりその場において官能化
UV防止剤となることが認められる。例えば次に
示すように化合物1は転位してUV―防止剤2と
なる。 これと全く同様に、本発明で意図する前駆体
は、例に記載したように、フリース転位を受けて
ヒドロキシベンゾフエノン及びヒドロキシフエニ
ルフエニルスルホンのUV防止剤となり、例えば
ポリ(ビスフエノールAカーボネート)がUV―
硬化した硬質被膜下で黄変するのを効果的に防止
する。 本発明によつて、式 又は (式中Rは
ある。さらに詳しくはシラン官能化フエニル安息
香酸エスチテル及びシラン官能化フエニルフエニ
ルスルホン酸エステルに関するものである。ま
た、上記前駆体を含む輻射線硬化性被覆用組成
物、及び硬化した該組成物で被覆された基体にも
関する。 例えばレキサン(LEXAN、登録商標)ポリカ
ーボネートのような多くの熱可塑性樹脂は、建築
物や鉄道車両、航空機等における透明材料として
用いられる際に、通常の作用条件下で透明性を保
つためには表面摩耗抵抗性の表面被覆を必要とす
る。そのような被覆で特に有用な種類には、加水
分解媒体(例えばアルコール、水)中のシリカ及
び加水分解性シラン混合物があり、例えばmisch
等の米国特許第3708225号、clarkの米国特許第
3986997号及び第3976497号、Ubersaxの米国特許
第4177315号、及び1978年11月30日出願の米国特
許出願第964910号に記載されている。これらの被
覆は熱によつて硬化し、種々の既知フエノール系
紫外線(UV)防止剤を添加することにより紫外
線抵抗性が付与される。しかしながら、これらは
移行して可塑化効果を生じやすいので、被覆用組
成物中への反応を確実にするためにUV防止剤の
シラン官能化、例えばシリルアルキルエーテル置
換基の形成、が開発された。chingの1980年5月
30日出願米国特許出願第154625号の他、Ashbyと
Schroeterの1980年5月30日出願米国特許出願第
154621号及びAshbyの1980年5月30日出願米国特
許出願第154622号を参照。 表面被覆に関するより最近の開発技術はching
の1980年3月11日出願米国特許出願第129297号に
記載されており、これには紫外線硬化性シリコー
ン硬質被覆用組成物が開示されている。多くの既
知のUV防止剤は、これらの組成物には有効でな
く、その理由としてはそれらは硬質の表面を形成
するのに必要な硬化を遅らせるからである。 ここに、UV防止剤前駆体の官能化誘導体を提
供できること、及びこれはchungの出願に記載さ
れたタイプのUV―硬化性組成物の硬化を遅延さ
せないことが見出された。さらに、UV―硬化が
完了した後、前駆体はフリース転位として知られ
ている光化学反応によりその場において官能化
UV防止剤となることが認められる。例えば次に
示すように化合物1は転位してUV―防止剤2と
なる。 これと全く同様に、本発明で意図する前駆体
は、例に記載したように、フリース転位を受けて
ヒドロキシベンゾフエノン及びヒドロキシフエニ
ルフエニルスルホンのUV防止剤となり、例えば
ポリ(ビスフエノールAカーボネート)がUV―
硬化した硬質被膜下で黄変するのを効果的に防止
する。 本発明によつて、式 又は (式中Rは
【式】又は
【式】R1はC1〜C6アルキル基、R2
はC1〜C6アルキル基又はC2〜C5アルカノイル基、
R3は水素又はC1〜C6アルコキシル基、xは0、
1又は2、Yは1,2又は3、x+y=3) で表わされる化合物から選択されたシラン官能化
紫外線防止剤の前駆体が提供される。 好ましい具体例としては、化合物(i)はRが
R3は水素又はC1〜C6アルコキシル基、xは0、
1又は2、Yは1,2又は3、x+y=3) で表わされる化合物から選択されたシラン官能化
紫外線防止剤の前駆体が提供される。 好ましい具体例としては、化合物(i)はRが
【式】R1及びR2がCH3、R3が
OCH3、xが1、yが2の場合であり、化合物(ii)
はRが
はRが
【式】R2が―CH3又は―
CH2CH3、R3がH、xが0、yが3の場合であ
り、化合物(iii)はRが
り、化合物(iii)はRが
【式】R2がCH3
又は―CH2CH3、xが0、yが3の場合である。
本発明の化合物はプラスチツク又は被覆等にお
いて紫外線防止剤前駆体として用いることができ
る。しかし、好ましい具体例としては、アルコキ
シ官能性シランの酸加水分解生成物である成分(A)
及び、アクリロキシ官能性シランの酸加水分解生
成物又はグリシドキシ官能性シランの酸加水分解
生成物又はそれらの混合物である成分(B)の混合物
から成る被覆用組成物に用いる場合がある。この
混合物において触媒量の陽イオン性光開始剤が存
在すると、加水分解生成物の紫外線による硬化反
応促進に効果的である。光開始剤の例には、輻射
線感受性のハロニウム、ホスホニウム又はスルホ
ニウム塩がある。 したがつて、本発明を実際に用いたものとして
は、 (A) 100重量部のアルコキシ官能性シランの酸加
水分解生成物、 (B) 10〜1000重量部の (i) アクリロキシ官能性シラン (ii) グリシドキシ官能性シラン、又は (iii) (i)と(ii)の混合物、 (C) 触媒量の光開始剤、及び (D) 2〜15重量部の前に定義されたシラン官能化
紫外線防止剤前駆体、から成る輻射線硬化性被
覆用組成物がある。 本発明はまた、上記組成物で被覆された基体を
も意図しており、この被覆は紫外線で硬化される
と硬質被膜となり、その場で生成したUV防止剤
を含むものである。 本発明の化合物は多くの方法により製造でき
る。 化合物(i)は以下に示す経路に従い、オイゲノー
ル(市販されている)を塩化ベンゾイル又は塩化
ベンゼンスルホニルと反応させ、次いで白金触媒
を用いて二重結合にヒドロシランを付加すること
により得られる。 (式中、R1,R2,x及びyは前記定義の通り) 化合物(ii)は以下に示す経路に従い、レゾルシノ
ールを臭化アリルと反応させ、次いで塩化ベンゾ
イル又は塩化ベンゼンスルホニルと反応させ、最
後に白金触媒を用いて二重結合にヒドロシランを
付加することにより得られる。 (式中R、R1,R2,x及びyは前記定義の通
り) 化合物(iii)は次に示す経路に従い、相当する置換
フエニルベンゾトリアゾールを臭化アリルと反応
させ、次いで塩化ベンゾイル又は塩化ベンゼンス
ルホニルと反応させ、最後に白金触媒を用いて二
重結合にヒドロシランを付加することにより得ら
れる。 (式中R、R1,R2,x及びyは前記定義の通
り) これらの具体例の製造に関しては後に示す実施
例で説明する。 本発明で使用される被覆用組成物については、
主成分の1つは官能性シランの加水分解生成物の
成分(A)である。このシランは通常次の一般式を有
する。 R4 a―Si―(OR5)4-a (式中R4及びR5は同じ又は異なる1価の炭化
水素基で、そのハロゲン化物も含む) 好ましくはR4及びR5は例えばC1〜C6(メチル、
エチル、プロピル等)の低級アルキル基である
が、ビニル、アリール等のその他の飽和又は不飽
和基でもよい。aは0〜3の整数であり、シラン
分子中には4―a個のアルコキシル基がある。テ
トラアルコキシシランが特に効果的でaはしばし
ば0となる。 これらのシランの加水分解生成物は酸の触媒量
の存在下でシランを過剰の水に接触させることに
より得られる。水を化学量論量より少くすると、
部分加水分解生成物が得られる。これらの部分加
水分解生成物も本発明の硬質被膜を得るために用
いることができる。特に有用なアルコキシ官能性
シランには次のものがある。テトラエトキシシラ
ン、エチルトリエトキシシラン、ジエチルジエト
キシシラン、トリエチルエトキシシラン、テトラ
メトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジ
メチルジメトキシシラン及びトリメチルメトキシ
シラン。 第2の成分はアクリロキシ官能性シランの酸加
水分解生成物又はグリシドキシ官能性シランの酸
加水分解生成物又はそれらの混合物の成分(B)であ
る。アクリロキシ官能性シランは()によつて
示される一般式を有する。 式中R6及びR7は、前記R4及びR5で定義された
と同じ1価の炭化水素基であり、互いに同じでも
異なつてもよい。R8は2〜8個の炭素原子を有
する2価の炭化水素基、R9は水素、又は1価の
炭化水素基、bは1〜3の整数、cは0〜2の整
数、dは4―b―cの整数である。本発明の場合
具体的にはbが3、cが0、dが1であることが
多い。アクリロキシ官能性シランの具体例として
は次のものがある。 3―メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン 3―アクリロキシプロピルトリメトキシシラン 2―メタクリロキシエチルトリメトキシシラン 2―アクリロキシエチルトリメトキシシラン 3―メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン 3―アクリロキシプロピルトリエトキシシラン 2―メタクリロキシエチルトリエトキシシラン 2―アクリロキシエチルトリエトキシシラン これらのアクリロキシ官能性シランは市販のも
のを利用できる。例えば3―メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシランはユニオンカーバイド社
から市販されている。被覆用組成物の第2の主成
分(成分B)は、上記のアクリロキシ官能性シラ
ンの代わりにグリシドキシ官能性シランでもよ
く、両方の型のシランの組み合わせ、即ち混合物
でもよい。グリシドキシ官能性シランは()に
よつて示される一般式を有する。 式中R10及びR11は前に定義されたR4及びR5と
同じ1価の炭化水素基であり、互いに同じ又は異
なる。R12は2〜8個の炭素原子を有する2価の
炭化水素基であり、eは1〜3の整数、fは0〜
2の整数、gは4―e―fの整数である。有用な
グリシドキシ官能性シランの具体例には次のもの
がある。 3―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 3―グリシドキシエチルトリメトキシシラン 3―グリシドキシプロピルトリエトキシシラン 3―グリシドキシエチルトリエトキシシラン これらのグリシドキシ官能性シランは市販のも
のを利用してもよい。例えばペトラーチシステム
ズ(Petrarch Systems)社より入手できる。本
発明の輻射線硬化性被覆用組成物は、アルコキシ
官能性シラン(式で示される)の酸加水分解物
100重量部と、アクリロキシ官能性シラン(式
で示される)又はグリシドキシ官能性シラン(式
で示される)又はそれらの混合物の酸加水分解
生成物のいずれかを約10〜1000重量部混合したも
のから成る。この混合物に陽イオン性光開始剤の
触媒量及び紫外線防止剤前駆体を2〜15重量部添
加する。効果的な光開始剤は文献に記載されてい
る輻射線感受性芳香族ハロニウム、スルホニウム
又はホスニウム塩である。 陽イオン性光開始剤は多くの米国特許及び特許
出願中にCrivelloにより記載されており、例えば
米国特許第4136102号(1979年1月23日発行)、米
国特許第3981897号(1976年9月21日発行)があ
る。これらの陽イオン性光開始剤は()で示さ
れる一般式を有する。 () (R13―C6H4)oX+〔MQh〕- 上記式においてXはI、P及びSから選ばれた
基である。Mは金属又はメタロイド、QはCl,
F,Br及びIから選ばれたハロゲンである。R13
は水素又は1〜12個の炭素原子を有する1価の炭
化水素基である。hは4〜6の整数、nは2又は
3の整数である。 〔MQh〕-は任意のイオンであるが好ましくは
SbF6 -,AsF6 -,BF4 -及びPF6 -から選ばれる。 陽イオン性光開始剤は、前記成分A及びBの混
合物100重量部に対して約0.20重量部用いるのが
通常好ましい。しかしながら硬化速度や最大摩耗
抵抗のようなそれぞれ望ましいプロセスパラメー
ターによつて、開始剤の量は成分A及びBの混合
物100重量部につき約0.01〜5重量部の範囲で変
化し得る。 陽イオン性光開始剤は、紫外線に暴露された場
合に、式,及びで示される組成物中の加水
分解アルコキシ基の間の架橋反応を開始するのに
特に有効である。このようにして、被覆用組成物
を基体に塗布しUVランプなどで照射するとすぐ
れた接着性を有する良質の硬質被膜が得られる。 本発明のUV硬化性被覆用組成物は普通、固体
基体の少くとも1面に被覆される。固体の基体は
合成有機重合体、金属又はガラスから成る。また
金属化面を有する合成有機重合体の基体も含まれ
る。 組成物を基体に塗布する前に、下塗り工程を任
意に行なうことができ、それは熱硬化性アクリル
エマルジヨンのようなプライマーを最初に塗布す
るものである。被覆用組成物を、基体又は下塗り
した基体に塗布した後、例えばハノビア
(Hanovia)の550ワツトランプ又はPPGプロセ
ツサーQC1202型を用いて紫外線の有効量に暴露
されると被覆層は硬化し、その場にUV防止剤を
生じる。 本発明の被覆用組成物は、流し塗、吹付け、浸
せき等の慣用の方法で種々の固体基体に塗布する
ことができ、連続表面被膜を形成する。浸せき塗
装を低速で行なつた場合に最適の被膜厚が得られ
る。基体については、ここで特に意図しているの
は透明及び不透明なプラスチツク及び金属であ
る。より詳しくはこれらのプラスチツクはポリ
(メチルメタクリレート)のようなアクリル重合
体、ポリ(エチレンテレフタレート)、ポリ(ブ
チレンテレフタレート)等のポリエステル、ポリ
アミド、ポリイミド、アクリロニトリル―スチレ
ン共重合体、スチレン―アクリロニトリル―ブタ
ジエン共重合体、ポリ塩化ビニル、ブチル化樹
脂、ポリエチレン等の合成有機重合体の基体であ
る。本発明の被覆用組成物はポリ(ビスフエノー
ル―Aカーボネート)や、ゼネラルエレクトリツ
ク社から市販されているレキサン(Lexan登録商
標)として知られるポリ(ビスフエノール―Aカ
ーボネート)用の被覆として、また射出成形や押
出し成形されたポリメチルメタクリレートのよう
なアクリル樹脂の被覆として特に有用である。本
発明の保護被膜が施こされると効果的な金属基体
には、光沢のある金属、アルミニウム等の曇つた
金属、スパツタークロム合金のような光沢のある
金属蒸着表面がある。ここで意図されているその
他の固体基体には木材、塗装表面、皮、ガラス、
陶磁器及び織物がある。 配合、塗布条件、及びプライマー使用を含む基
体の予備処理を適宜選択することにより、被膜は
ほとんどすべての固体基体に接着する。前記性質
及び利点をすべて有する被膜は、残留溶剤及び加
水分解反応の副生物であるメタノールやエタノー
ルのような揮発性物質を除去すると得られる。こ
れらの残留成分を別にすれば本発明は実質的に無
溶剤の被覆用組成物を提供する。 被覆厚はさまざまであるが、耐摩耗性の改良の
ためには3〜10ミクロン、好ましくは5ミクロン
の被膜厚が利用れる。 当分野の技術者にとつて本発明の実施をよりよ
く理解できるように、次の実施例を説明のために
示すが、これは限定するためではない。 実施例 1 (a) 安息香酸2―メトキシ―4―アリルフエニル
― 1―アリル―3―メトキシ―4―ヒドロキシ
ベンゼン(オイゲノール)1モル、水酸化カリ
ウム1モル及び塩化ベンゾイル1モルの水にお
ける混合物を窒素の下で18〜20℃で12時間かく
拌する。生成する固体をろ過し、水で洗浄す
る。イソプロパノールからの再結晶により、
m.p.64〜65℃の安息香酸2―メトキシ―4―ア
リルフエニルが生成する。 (b) 安息香酸2―メトキシ―4―メチルジメトキ
シシリルプロピルフエニル―安息香酸2―メト
キシ―4―アリルフエニル1モルのトルエン溶
液に、18〜20℃において白金ヒドロシリル化錯
体(GE社のSPBD―88034)の触媒量の存在下
でメチルジメトキシシラン2モルを添加する。
反応混合物は溶剤がなくなるまで蒸発させる
と、薄黄色の油状物質生成物が残る。 工程(a)において塩化ベンゾイルの代わりに塩化
ベンゼンスルホニルを用いて操作をくり返すと2
―メトキシ―4―(3―メチルジメトキシシリル
―プロピル)―フエニル―ベンゼンスルホネート
が得られる。 実施例 2 (a) 安息香酸3―アリルオキシフエニル―温度
計、還流冷却器、滴下漏斗、加熱マントル及び
かく拌機を備えた1三口フラスコに、レゾル
シノールモノ安息香酸エステル107g(0.5モ
ル)、ドライアセトン500ml、及び炭酸カリウム
69g(0.5モル)を入れる。次に約20℃で窒素
の下でかく拌しながら臭化アリル75g(0.62モ
ル)をゆつくり添加する。臭化アリルの添加が
完了した後混合物を16時間還流する。反応混合
物を約20℃に冷却し、減圧下で濃縮する。塩化
メチレンを添加し、希釈炭酸水素ナトリウム溶
液で洗浄する。有機層を無水硫酸マグネシウム
上で乾燥し、有機溶媒を除去すると薄黄色の液
体が得られる。粗物質を145℃、0.03mmHgで蒸
留し、生成物98gを得る。 (b) 3―(3―トリメトキシシリル―プロポキ
シ)―フエニル―ベンゾエート25.4g(0.1モ
ル)、ドライトルエン50ml、トリメトキシシラ
ン20g(0.15モル)及び白金ヒドロシリル化触
媒2滴の混合物を窒素の下で90℃で17時間加熱
する。反応混合物を約20℃に冷却した後、減圧
下で濃縮するとUV防止剤前駆体の生成物が得
られる。精製のために生成物を、溶離剤として
ジクロルメタンを使い短いシリカカラムを通
す。 実施例 3 4―(3―トリメトキシシリル―プロポキシ)
―2―(2―N―ベンゾトリアゾリル)―フエニ
ル―ベンゾエート―実施例2の(b)工程と同じ方法
により、安息香酸4―アリルオキシ―2―(1―
N―ベンゾトリアゾリル)フエニル37.1g(0.1
モル)、トリメトキシシラン25g(0.2モル)、ド
ライトルエン100ml及び白金ヒドロシリル化触媒
の触媒量を反応させることにより表題の化合物が
得られる。 実施例 2 テトラエトキシシラン(TES)52g(0.25モ
ル)及び水9g(0.5モル)の混合物を約0゜〜3
℃に冷却し、過塩素酸0.4gを添加する。氷が溶
けてから混合液をかく拌する。ろ過により不溶性
粒子を除去すると、5.6センチストークスの粘度
を有するTES―加水分解生成物の透明溶液が得
られる。次に、3―メタクリルオキシプロピルト
リメトキシシラン(MPTMS)24.8g(0.1モル)
及び水2.7g(0.15モル)を混合して室温におい
て過塩素酸2滴を加えると第2の乳化溶液が得ら
れる。室温で一晩かく拌すると、8.6センチスト
ークスの粘度を有するMPTMS―加水分解生成
物の薄緑色の溶液が得られる。TES―加水分解
生成物5g及びMPTMS―加水分解生成物4g
の混合物に陽イオン性触媒であるヘキサフルオロ
ヒ酸ジフエニルヨードニウム60mgを添加する。次
に、安息香酸2―メトキシ―4―メチルジメトキ
シシリルプロピルフエニル1.0gを添加する。透
明な溶液が得られるから、それをポリ(ビスフエ
ノールAカーボネート)であるレキサンの透明シ
ートに流し塗りし、被覆パネルを室温で30分乾燥
する。次にハノビア(Hanovia)550ワツトの単
ランプで照射する。良好な接着性を有する硬質被
膜が12〜60秒で得られる。UVに暴露されるとそ
の場に2―ヒドロキシ―3―メトキシ―5―メチ
ルジメトキシシリルプロピルベンゾフエノン化合
物を生ずるため、このパネルは黄変に対してすぐ
れた抵抗性を有する。 これまでの詳細な記載に照らして多くの変形が
当分野の技術者にとつて想起されるのは当然であ
る。このような変更はすべて本願特許請求の範囲
の意図する範囲内に含まれるものである。
いて紫外線防止剤前駆体として用いることができ
る。しかし、好ましい具体例としては、アルコキ
シ官能性シランの酸加水分解生成物である成分(A)
及び、アクリロキシ官能性シランの酸加水分解生
成物又はグリシドキシ官能性シランの酸加水分解
生成物又はそれらの混合物である成分(B)の混合物
から成る被覆用組成物に用いる場合がある。この
混合物において触媒量の陽イオン性光開始剤が存
在すると、加水分解生成物の紫外線による硬化反
応促進に効果的である。光開始剤の例には、輻射
線感受性のハロニウム、ホスホニウム又はスルホ
ニウム塩がある。 したがつて、本発明を実際に用いたものとして
は、 (A) 100重量部のアルコキシ官能性シランの酸加
水分解生成物、 (B) 10〜1000重量部の (i) アクリロキシ官能性シラン (ii) グリシドキシ官能性シラン、又は (iii) (i)と(ii)の混合物、 (C) 触媒量の光開始剤、及び (D) 2〜15重量部の前に定義されたシラン官能化
紫外線防止剤前駆体、から成る輻射線硬化性被
覆用組成物がある。 本発明はまた、上記組成物で被覆された基体を
も意図しており、この被覆は紫外線で硬化される
と硬質被膜となり、その場で生成したUV防止剤
を含むものである。 本発明の化合物は多くの方法により製造でき
る。 化合物(i)は以下に示す経路に従い、オイゲノー
ル(市販されている)を塩化ベンゾイル又は塩化
ベンゼンスルホニルと反応させ、次いで白金触媒
を用いて二重結合にヒドロシランを付加すること
により得られる。 (式中、R1,R2,x及びyは前記定義の通り) 化合物(ii)は以下に示す経路に従い、レゾルシノ
ールを臭化アリルと反応させ、次いで塩化ベンゾ
イル又は塩化ベンゼンスルホニルと反応させ、最
後に白金触媒を用いて二重結合にヒドロシランを
付加することにより得られる。 (式中R、R1,R2,x及びyは前記定義の通
り) 化合物(iii)は次に示す経路に従い、相当する置換
フエニルベンゾトリアゾールを臭化アリルと反応
させ、次いで塩化ベンゾイル又は塩化ベンゼンス
ルホニルと反応させ、最後に白金触媒を用いて二
重結合にヒドロシランを付加することにより得ら
れる。 (式中R、R1,R2,x及びyは前記定義の通
り) これらの具体例の製造に関しては後に示す実施
例で説明する。 本発明で使用される被覆用組成物については、
主成分の1つは官能性シランの加水分解生成物の
成分(A)である。このシランは通常次の一般式を有
する。 R4 a―Si―(OR5)4-a (式中R4及びR5は同じ又は異なる1価の炭化
水素基で、そのハロゲン化物も含む) 好ましくはR4及びR5は例えばC1〜C6(メチル、
エチル、プロピル等)の低級アルキル基である
が、ビニル、アリール等のその他の飽和又は不飽
和基でもよい。aは0〜3の整数であり、シラン
分子中には4―a個のアルコキシル基がある。テ
トラアルコキシシランが特に効果的でaはしばし
ば0となる。 これらのシランの加水分解生成物は酸の触媒量
の存在下でシランを過剰の水に接触させることに
より得られる。水を化学量論量より少くすると、
部分加水分解生成物が得られる。これらの部分加
水分解生成物も本発明の硬質被膜を得るために用
いることができる。特に有用なアルコキシ官能性
シランには次のものがある。テトラエトキシシラ
ン、エチルトリエトキシシラン、ジエチルジエト
キシシラン、トリエチルエトキシシラン、テトラ
メトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジ
メチルジメトキシシラン及びトリメチルメトキシ
シラン。 第2の成分はアクリロキシ官能性シランの酸加
水分解生成物又はグリシドキシ官能性シランの酸
加水分解生成物又はそれらの混合物の成分(B)であ
る。アクリロキシ官能性シランは()によつて
示される一般式を有する。 式中R6及びR7は、前記R4及びR5で定義された
と同じ1価の炭化水素基であり、互いに同じでも
異なつてもよい。R8は2〜8個の炭素原子を有
する2価の炭化水素基、R9は水素、又は1価の
炭化水素基、bは1〜3の整数、cは0〜2の整
数、dは4―b―cの整数である。本発明の場合
具体的にはbが3、cが0、dが1であることが
多い。アクリロキシ官能性シランの具体例として
は次のものがある。 3―メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン 3―アクリロキシプロピルトリメトキシシラン 2―メタクリロキシエチルトリメトキシシラン 2―アクリロキシエチルトリメトキシシラン 3―メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン 3―アクリロキシプロピルトリエトキシシラン 2―メタクリロキシエチルトリエトキシシラン 2―アクリロキシエチルトリエトキシシラン これらのアクリロキシ官能性シランは市販のも
のを利用できる。例えば3―メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシランはユニオンカーバイド社
から市販されている。被覆用組成物の第2の主成
分(成分B)は、上記のアクリロキシ官能性シラ
ンの代わりにグリシドキシ官能性シランでもよ
く、両方の型のシランの組み合わせ、即ち混合物
でもよい。グリシドキシ官能性シランは()に
よつて示される一般式を有する。 式中R10及びR11は前に定義されたR4及びR5と
同じ1価の炭化水素基であり、互いに同じ又は異
なる。R12は2〜8個の炭素原子を有する2価の
炭化水素基であり、eは1〜3の整数、fは0〜
2の整数、gは4―e―fの整数である。有用な
グリシドキシ官能性シランの具体例には次のもの
がある。 3―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 3―グリシドキシエチルトリメトキシシラン 3―グリシドキシプロピルトリエトキシシラン 3―グリシドキシエチルトリエトキシシラン これらのグリシドキシ官能性シランは市販のも
のを利用してもよい。例えばペトラーチシステム
ズ(Petrarch Systems)社より入手できる。本
発明の輻射線硬化性被覆用組成物は、アルコキシ
官能性シラン(式で示される)の酸加水分解物
100重量部と、アクリロキシ官能性シラン(式
で示される)又はグリシドキシ官能性シラン(式
で示される)又はそれらの混合物の酸加水分解
生成物のいずれかを約10〜1000重量部混合したも
のから成る。この混合物に陽イオン性光開始剤の
触媒量及び紫外線防止剤前駆体を2〜15重量部添
加する。効果的な光開始剤は文献に記載されてい
る輻射線感受性芳香族ハロニウム、スルホニウム
又はホスニウム塩である。 陽イオン性光開始剤は多くの米国特許及び特許
出願中にCrivelloにより記載されており、例えば
米国特許第4136102号(1979年1月23日発行)、米
国特許第3981897号(1976年9月21日発行)があ
る。これらの陽イオン性光開始剤は()で示さ
れる一般式を有する。 () (R13―C6H4)oX+〔MQh〕- 上記式においてXはI、P及びSから選ばれた
基である。Mは金属又はメタロイド、QはCl,
F,Br及びIから選ばれたハロゲンである。R13
は水素又は1〜12個の炭素原子を有する1価の炭
化水素基である。hは4〜6の整数、nは2又は
3の整数である。 〔MQh〕-は任意のイオンであるが好ましくは
SbF6 -,AsF6 -,BF4 -及びPF6 -から選ばれる。 陽イオン性光開始剤は、前記成分A及びBの混
合物100重量部に対して約0.20重量部用いるのが
通常好ましい。しかしながら硬化速度や最大摩耗
抵抗のようなそれぞれ望ましいプロセスパラメー
ターによつて、開始剤の量は成分A及びBの混合
物100重量部につき約0.01〜5重量部の範囲で変
化し得る。 陽イオン性光開始剤は、紫外線に暴露された場
合に、式,及びで示される組成物中の加水
分解アルコキシ基の間の架橋反応を開始するのに
特に有効である。このようにして、被覆用組成物
を基体に塗布しUVランプなどで照射するとすぐ
れた接着性を有する良質の硬質被膜が得られる。 本発明のUV硬化性被覆用組成物は普通、固体
基体の少くとも1面に被覆される。固体の基体は
合成有機重合体、金属又はガラスから成る。また
金属化面を有する合成有機重合体の基体も含まれ
る。 組成物を基体に塗布する前に、下塗り工程を任
意に行なうことができ、それは熱硬化性アクリル
エマルジヨンのようなプライマーを最初に塗布す
るものである。被覆用組成物を、基体又は下塗り
した基体に塗布した後、例えばハノビア
(Hanovia)の550ワツトランプ又はPPGプロセ
ツサーQC1202型を用いて紫外線の有効量に暴露
されると被覆層は硬化し、その場にUV防止剤を
生じる。 本発明の被覆用組成物は、流し塗、吹付け、浸
せき等の慣用の方法で種々の固体基体に塗布する
ことができ、連続表面被膜を形成する。浸せき塗
装を低速で行なつた場合に最適の被膜厚が得られ
る。基体については、ここで特に意図しているの
は透明及び不透明なプラスチツク及び金属であ
る。より詳しくはこれらのプラスチツクはポリ
(メチルメタクリレート)のようなアクリル重合
体、ポリ(エチレンテレフタレート)、ポリ(ブ
チレンテレフタレート)等のポリエステル、ポリ
アミド、ポリイミド、アクリロニトリル―スチレ
ン共重合体、スチレン―アクリロニトリル―ブタ
ジエン共重合体、ポリ塩化ビニル、ブチル化樹
脂、ポリエチレン等の合成有機重合体の基体であ
る。本発明の被覆用組成物はポリ(ビスフエノー
ル―Aカーボネート)や、ゼネラルエレクトリツ
ク社から市販されているレキサン(Lexan登録商
標)として知られるポリ(ビスフエノール―Aカ
ーボネート)用の被覆として、また射出成形や押
出し成形されたポリメチルメタクリレートのよう
なアクリル樹脂の被覆として特に有用である。本
発明の保護被膜が施こされると効果的な金属基体
には、光沢のある金属、アルミニウム等の曇つた
金属、スパツタークロム合金のような光沢のある
金属蒸着表面がある。ここで意図されているその
他の固体基体には木材、塗装表面、皮、ガラス、
陶磁器及び織物がある。 配合、塗布条件、及びプライマー使用を含む基
体の予備処理を適宜選択することにより、被膜は
ほとんどすべての固体基体に接着する。前記性質
及び利点をすべて有する被膜は、残留溶剤及び加
水分解反応の副生物であるメタノールやエタノー
ルのような揮発性物質を除去すると得られる。こ
れらの残留成分を別にすれば本発明は実質的に無
溶剤の被覆用組成物を提供する。 被覆厚はさまざまであるが、耐摩耗性の改良の
ためには3〜10ミクロン、好ましくは5ミクロン
の被膜厚が利用れる。 当分野の技術者にとつて本発明の実施をよりよ
く理解できるように、次の実施例を説明のために
示すが、これは限定するためではない。 実施例 1 (a) 安息香酸2―メトキシ―4―アリルフエニル
― 1―アリル―3―メトキシ―4―ヒドロキシ
ベンゼン(オイゲノール)1モル、水酸化カリ
ウム1モル及び塩化ベンゾイル1モルの水にお
ける混合物を窒素の下で18〜20℃で12時間かく
拌する。生成する固体をろ過し、水で洗浄す
る。イソプロパノールからの再結晶により、
m.p.64〜65℃の安息香酸2―メトキシ―4―ア
リルフエニルが生成する。 (b) 安息香酸2―メトキシ―4―メチルジメトキ
シシリルプロピルフエニル―安息香酸2―メト
キシ―4―アリルフエニル1モルのトルエン溶
液に、18〜20℃において白金ヒドロシリル化錯
体(GE社のSPBD―88034)の触媒量の存在下
でメチルジメトキシシラン2モルを添加する。
反応混合物は溶剤がなくなるまで蒸発させる
と、薄黄色の油状物質生成物が残る。 工程(a)において塩化ベンゾイルの代わりに塩化
ベンゼンスルホニルを用いて操作をくり返すと2
―メトキシ―4―(3―メチルジメトキシシリル
―プロピル)―フエニル―ベンゼンスルホネート
が得られる。 実施例 2 (a) 安息香酸3―アリルオキシフエニル―温度
計、還流冷却器、滴下漏斗、加熱マントル及び
かく拌機を備えた1三口フラスコに、レゾル
シノールモノ安息香酸エステル107g(0.5モ
ル)、ドライアセトン500ml、及び炭酸カリウム
69g(0.5モル)を入れる。次に約20℃で窒素
の下でかく拌しながら臭化アリル75g(0.62モ
ル)をゆつくり添加する。臭化アリルの添加が
完了した後混合物を16時間還流する。反応混合
物を約20℃に冷却し、減圧下で濃縮する。塩化
メチレンを添加し、希釈炭酸水素ナトリウム溶
液で洗浄する。有機層を無水硫酸マグネシウム
上で乾燥し、有機溶媒を除去すると薄黄色の液
体が得られる。粗物質を145℃、0.03mmHgで蒸
留し、生成物98gを得る。 (b) 3―(3―トリメトキシシリル―プロポキ
シ)―フエニル―ベンゾエート25.4g(0.1モ
ル)、ドライトルエン50ml、トリメトキシシラ
ン20g(0.15モル)及び白金ヒドロシリル化触
媒2滴の混合物を窒素の下で90℃で17時間加熱
する。反応混合物を約20℃に冷却した後、減圧
下で濃縮するとUV防止剤前駆体の生成物が得
られる。精製のために生成物を、溶離剤として
ジクロルメタンを使い短いシリカカラムを通
す。 実施例 3 4―(3―トリメトキシシリル―プロポキシ)
―2―(2―N―ベンゾトリアゾリル)―フエニ
ル―ベンゾエート―実施例2の(b)工程と同じ方法
により、安息香酸4―アリルオキシ―2―(1―
N―ベンゾトリアゾリル)フエニル37.1g(0.1
モル)、トリメトキシシラン25g(0.2モル)、ド
ライトルエン100ml及び白金ヒドロシリル化触媒
の触媒量を反応させることにより表題の化合物が
得られる。 実施例 2 テトラエトキシシラン(TES)52g(0.25モ
ル)及び水9g(0.5モル)の混合物を約0゜〜3
℃に冷却し、過塩素酸0.4gを添加する。氷が溶
けてから混合液をかく拌する。ろ過により不溶性
粒子を除去すると、5.6センチストークスの粘度
を有するTES―加水分解生成物の透明溶液が得
られる。次に、3―メタクリルオキシプロピルト
リメトキシシラン(MPTMS)24.8g(0.1モル)
及び水2.7g(0.15モル)を混合して室温におい
て過塩素酸2滴を加えると第2の乳化溶液が得ら
れる。室温で一晩かく拌すると、8.6センチスト
ークスの粘度を有するMPTMS―加水分解生成
物の薄緑色の溶液が得られる。TES―加水分解
生成物5g及びMPTMS―加水分解生成物4g
の混合物に陽イオン性触媒であるヘキサフルオロ
ヒ酸ジフエニルヨードニウム60mgを添加する。次
に、安息香酸2―メトキシ―4―メチルジメトキ
シシリルプロピルフエニル1.0gを添加する。透
明な溶液が得られるから、それをポリ(ビスフエ
ノールAカーボネート)であるレキサンの透明シ
ートに流し塗りし、被覆パネルを室温で30分乾燥
する。次にハノビア(Hanovia)550ワツトの単
ランプで照射する。良好な接着性を有する硬質被
膜が12〜60秒で得られる。UVに暴露されるとそ
の場に2―ヒドロキシ―3―メトキシ―5―メチ
ルジメトキシシリルプロピルベンゾフエノン化合
物を生ずるため、このパネルは黄変に対してすぐ
れた抵抗性を有する。 これまでの詳細な記載に照らして多くの変形が
当分野の技術者にとつて想起されるのは当然であ
る。このような変更はすべて本願特許請求の範囲
の意図する範囲内に含まれるものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 (式中、Rは【式】又は 【式】R1はC1〜C6アルキル基、R2 はC1〜C6アルキル基、R3はC1〜C6アルコキシル
基、xは1又は2、yは1又は2、x+y=3)
で表わされるシラン官能化化合物。 2 式 を有する特許請求の範囲第1項に記載の化合物。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/174,611 US4328346A (en) | 1980-08-01 | 1980-08-01 | Silane-functionalized ultraviolet screen precursors |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5757772A JPS5757772A (en) | 1982-04-07 |
JPS638999B2 true JPS638999B2 (ja) | 1988-02-25 |
Family
ID=22636814
Family Applications (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56117907A Granted JPS5757772A (en) | 1980-08-01 | 1981-07-29 | Silan-functioned ultraviolet preventive precursor |
JP61093508A Granted JPS61293268A (ja) | 1980-08-01 | 1986-04-24 | 被覆用組成物 |
JP61297862A Pending JPS62209087A (ja) | 1980-08-01 | 1986-12-16 | シラン官能化化合物 |
JP62189061A Granted JPS63132978A (ja) | 1980-08-01 | 1987-07-30 | 被覆基体 |
JP1042036A Pending JPH01258689A (ja) | 1980-08-01 | 1989-02-23 | シラン官能化化合物 |
Family Applications After (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61093508A Granted JPS61293268A (ja) | 1980-08-01 | 1986-04-24 | 被覆用組成物 |
JP61297862A Pending JPS62209087A (ja) | 1980-08-01 | 1986-12-16 | シラン官能化化合物 |
JP62189061A Granted JPS63132978A (ja) | 1980-08-01 | 1987-07-30 | 被覆基体 |
JP1042036A Pending JPH01258689A (ja) | 1980-08-01 | 1989-02-23 | シラン官能化化合物 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4328346A (ja) |
JP (5) | JPS5757772A (ja) |
KR (1) | KR840001764B1 (ja) |
AU (1) | AU540086B2 (ja) |
CA (1) | CA1164875A (ja) |
DE (1) | DE3127976A1 (ja) |
FR (1) | FR2487837A1 (ja) |
GB (1) | GB2081284B (ja) |
IT (1) | IT1138057B (ja) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4585693A (en) * | 1983-02-25 | 1986-04-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymer-bound ultraviolet stabilizer coating compositions containing cross linkers |
US4636431A (en) * | 1983-02-25 | 1987-01-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymers containing resorcinol monobenzoate |
AU560617B2 (en) * | 1983-02-25 | 1987-04-09 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Polymer-bound uv-absorbers |
US4495325A (en) * | 1983-02-25 | 1985-01-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymer-bound ultraviolet stabilizer coating compositions containing cross linkers |
US4522971A (en) * | 1983-02-25 | 1985-06-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymers containing resorcinol monobenzoate |
US4577007A (en) * | 1983-02-25 | 1986-03-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymers containing resorcinol monobenzoate |
DE3407087C3 (de) * | 1984-02-27 | 1994-07-07 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Lack zur Herstellung von kratzfesten Beschichtungen |
US5141990A (en) * | 1985-06-07 | 1992-08-25 | California Institute Of Technology | Photocurable acrylic composition, and U.V. curing with development of U.V. absorber |
US5110711A (en) * | 1989-10-10 | 1992-05-05 | International Business Machines Corporation | Method for forming a pattern |
US5098816A (en) * | 1989-10-10 | 1992-03-24 | International Business Machines Corporation | Method for forming a pattern of a photoresist |
JP2527093B2 (ja) * | 1990-09-25 | 1996-08-21 | 信越化学工業株式会社 | 有機珪素化合物及び化粧料 |
GB9220986D0 (en) * | 1992-10-06 | 1992-11-18 | Ciba Geigy Ag | Chemical composition |
US5395734A (en) * | 1992-11-30 | 1995-03-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Shoot and run printing materials |
FR2725448B1 (fr) | 1994-10-07 | 1997-01-03 | Oreal | Nouveaux filtres solaires, compositions cosmetiques photoprotectrices les contenant et utilisations |
DE69502709T2 (de) * | 1994-10-18 | 1998-12-24 | Philips Electronics Nv | Verfahren und herstellung einer dünnen silizium-oxid-schicht |
FR2726561B1 (fr) | 1994-11-08 | 1996-12-13 | Oreal | Nouveaux filtres solaires, compositions cosmetiques photoprotectrices les contenant et utilisations |
FR2726562B1 (fr) | 1994-11-08 | 1996-12-27 | Oreal | Nouveaux filtres solaires, compositions cosmetiques photoprotectrices les contenant et utilisations |
JP3524617B2 (ja) * | 1995-03-13 | 2004-05-10 | 新日本石油株式会社 | 紫外線吸収剤及びコーティング材料 |
FR2772030B1 (fr) * | 1997-12-04 | 2000-01-28 | Oreal | Nouveaux derives silicies de benz-x-azoles filtres, compositions cosmetiques photoprotectrices les contenant et utilisations |
US5914355A (en) * | 1998-05-15 | 1999-06-22 | Bausch & Lomb Incorporated | Method for making contact lenses having UV absorbing properties |
FR2789579B1 (fr) * | 1999-02-12 | 2002-02-01 | Oreal | Compositions cosmetiques pour la photoprotection de la peau et/ou des cheveux contenant un derive de benzotriazole et une bis-resorcinyl triazine |
FR2795638B1 (fr) | 1999-07-02 | 2003-05-09 | Oreal | Compositions cosmetiques photoprotectrices et utilisations |
US6413646B1 (en) * | 1999-07-29 | 2002-07-02 | Crompton Corporation | Blocked phenolic silanes |
FR2799645B1 (fr) * | 1999-10-13 | 2004-04-30 | Oreal | Utilisation de la dhea ou de ses precurseurs ou derives metaboliques comme depigmentant |
US7989651B2 (en) * | 2007-03-09 | 2011-08-02 | Momentive Performance Materials Inc. | Epoxysilanes, processes for their manufacture and curable compositions containing same |
JP6010299B2 (ja) * | 2009-05-15 | 2016-10-19 | 旭硝子株式会社 | 紫外線吸収膜形成用塗布液および紫外線吸収ガラス物品 |
EP2311844A1 (en) | 2009-10-15 | 2011-04-20 | Interquim, S.A. | Silyl polymeric benzoic acid ester compounds, uses, and compositions thereof |
EP2324819B1 (fr) | 2009-11-19 | 2015-07-08 | L'Oréal | Composition parfumante colorée sans diphénylacrylate d'alkyle contenant un filtre uva hydrophile |
JP6466344B2 (ja) | 2013-01-21 | 2019-02-06 | ロレアル | メロシアニン並びに親油性ベンゾトリアゾールuv遮蔽剤及び/又はビスレゾルシニルトリアジン化合物を含む化粧用又は皮膚用組成物 |
AR100211A1 (es) | 2014-05-19 | 2016-09-21 | Interquim Sa | Procedimiento para la preparación de un polímero fotoprotector progresivo de organosilicio; polímero fotoprotector progresivo de organosilicio, su uso, composición que lo comprende, monómero precursor, procedimientos para la preparación de dicho monómero precursor |
WO2024116919A1 (en) | 2022-11-30 | 2024-06-06 | L'oreal | Composition comprising large amount of inorganic uv filter and organic uv filter selected from organosilicon compounds with benzotriazole group |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2968643A (en) * | 1958-12-31 | 1961-01-17 | Union Carbide Corp | Sulfo-aralkylsiloxanes and salts thereof |
US2955128A (en) * | 1958-12-31 | 1960-10-04 | Union Carbide Corp | Chlorosulfonylalkyl silicon compounds |
US3391109A (en) * | 1966-11-01 | 1968-07-02 | Gen Electric | Aryl ketone containing organosilicon materials |
US3708225A (en) * | 1971-06-09 | 1973-01-02 | Mbt Corp | Coated synthetic plastic lens |
US3981897A (en) * | 1975-05-02 | 1976-09-21 | General Electric Company | Method for making certain halonium salt photoinitiators |
US4136102A (en) * | 1974-05-02 | 1979-01-23 | General Electric Company | Photoinitiators |
US3986997A (en) * | 1974-06-25 | 1976-10-19 | Dow Corning Corporation | Pigment-free coating compositions |
US3976497A (en) * | 1974-06-25 | 1976-08-24 | Dow Corning Corporation | Paint compositions |
US4122233A (en) * | 1975-05-08 | 1978-10-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ultraviolet screening agents and coating materials containing organosilane ester groups |
US4177315A (en) * | 1977-03-04 | 1979-12-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coated Polymeric substrates |
-
1980
- 1980-08-01 US US06/174,611 patent/US4328346A/en not_active Expired - Lifetime
-
1981
- 1981-06-29 GB GB8119958A patent/GB2081284B/en not_active Expired
- 1981-07-15 IT IT22934/81A patent/IT1138057B/it active
- 1981-07-15 DE DE19813127976 patent/DE3127976A1/de active Granted
- 1981-07-24 CA CA000382451A patent/CA1164875A/en not_active Expired
- 1981-07-29 JP JP56117907A patent/JPS5757772A/ja active Granted
- 1981-07-30 AU AU73564/81A patent/AU540086B2/en not_active Ceased
- 1981-07-31 FR FR8114923A patent/FR2487837A1/fr active Granted
- 1981-07-31 KR KR1019810002792A patent/KR840001764B1/ko active IP Right Grant
-
1986
- 1986-04-24 JP JP61093508A patent/JPS61293268A/ja active Granted
- 1986-12-16 JP JP61297862A patent/JPS62209087A/ja active Pending
-
1987
- 1987-07-30 JP JP62189061A patent/JPS63132978A/ja active Granted
-
1989
- 1989-02-23 JP JP1042036A patent/JPH01258689A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR840001764B1 (ko) | 1984-10-19 |
US4328346A (en) | 1982-05-04 |
CA1164875A (en) | 1984-04-03 |
AU7356481A (en) | 1982-02-04 |
JPH01258689A (ja) | 1989-10-16 |
DE3127976A1 (de) | 1982-04-22 |
JPS5757772A (en) | 1982-04-07 |
JPS6319544B2 (ja) | 1988-04-22 |
JPS63132978A (ja) | 1988-06-04 |
FR2487837A1 (fr) | 1982-02-05 |
DE3127976C2 (ja) | 1990-02-15 |
JPS62209087A (ja) | 1987-09-14 |
IT1138057B (it) | 1986-09-10 |
AU540086B2 (en) | 1984-11-01 |
GB2081284B (en) | 1984-12-12 |
GB2081284A (en) | 1982-02-17 |
JPH0319275B2 (ja) | 1991-03-14 |
KR830006393A (ko) | 1983-09-24 |
JPS61293268A (ja) | 1986-12-24 |
FR2487837B1 (ja) | 1984-01-06 |
IT8122934A0 (it) | 1981-07-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS638999B2 (ja) | ||
US5340898A (en) | Cationically crosslinkable polyorganosiloxanes and antiadhesive coatings produced therefrom | |
JP4675461B2 (ja) | 界面活性光開始剤 | |
US5594042A (en) | Radiation curable compositions containing vinyl ether functional polyorganosiloxanes | |
JP3529808B2 (ja) | エポキシシリコーンの合成法 | |
TW557298B (en) | A compound, a photopolymerizible composition, a process for producing coatings and a method for causing a photoinitiator to accumulate at the surface of coatings | |
JPS5993024A (ja) | 光重合開始剤 | |
US4372835A (en) | Silane-functionalized ultraviolet screen precursors | |
US4665147A (en) | Novel methacrylated siloxanes | |
JPH05222199A (ja) | 加水分解及び重合可能なシラン類 | |
JP2001220512A (ja) | 放射線硬化性シリコーン組成物 | |
US5144051A (en) | Branched alkoxyphenyl iodonium salt photoinitiators | |
US5086192A (en) | Photopolymerizable compositions and photoinitiators therefor | |
AU546017B2 (en) | Ultraviolet light, cationic curable hard coating compositionsof polysiloxanes | |
US5747172A (en) | Ultraviolet and electron beam curable propenyl-ether silicone release compositions | |
EP1467973A1 (en) | Onium salts with weakly coordinating imidazolidine anion as cationic initiators | |
US4337348A (en) | Benzoin group-containing cyclic organopolysiloxanes and a method for the preparation thereof | |
EP0162572B1 (en) | Siloxane polyphotoinitiators of the substituted acetophenone type | |
CA2082834C (en) | Radiation curable compositions | |
KR20000035626A (ko) | 비닐 에테르 작용성 오가노폴리실록산 및 방사선 경화성실리콘 조성물에서의 이의 용도 | |
AU775747B2 (en) | Surface-active photoinitiators | |
JPH01103621A (ja) | 光重合性エポキシ樹脂組成物 | |
AU2002359535A1 (en) | Onium salts with weakly coordinating imidazolidine anion as cationic initiators |