JPS5993024A - 光重合開始剤 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はエチレン性不飽和化合物の光重合またはポリオ
レフィンの光化学的架橋のだめの開始剤としての選釈さ
れた芳香族−脂肪族ケトンの使用方法及びこの型の開始
剤を含む光重合性捷たは架橋性組成物に関するものであ
る。
レフィンの光化学的架橋のだめの開始剤としての選釈さ
れた芳香族−脂肪族ケトンの使用方法及びこの型の開始
剤を含む光重合性捷たは架橋性組成物に関するものであ
る。
光化学重合方法は工業特に薄いフィルムを短時間に硬化
しなければならない場合例えばラフカー塗膜の硬化また
は印刷インキの乾燥時において相当な重要性を獲得して
いる。慣用のイ1−リ化方法と比べて、光開始剤の存在
下でのUV照射は多くの利点を有し、中でもおそらく最
も重要なものは光硬化の速い速度であろう。この速度は
使用される光開始剤に犬きく依存し、そR7て慣用の開
始剤、1をより良いそしてより効果的な化合物によって
だんだん置き換えていく試みは無数にある。
しなければならない場合例えばラフカー塗膜の硬化また
は印刷インキの乾燥時において相当な重要性を獲得して
いる。慣用のイ1−リ化方法と比べて、光開始剤の存在
下でのUV照射は多くの利点を有し、中でもおそらく最
も重要なものは光硬化の速い速度であろう。この速度は
使用される光開始剤に犬きく依存し、そR7て慣用の開
始剤、1をより良いそしてより効果的な化合物によって
だんだん置き換えていく試みは無数にある。
中でも最も重要な光開始剤は芳香族−脂肪族ケトン特に
、例えばアメリカ合衆国特許明細書第4318791号
、アメリカ合衆国特許明細書第4072694号及び西
ドイツ国特許公開公報第2357866号中に記載され
ているようなグロピオフエノン誘導体である。
、例えばアメリカ合衆国特許明細書第4318791号
、アメリカ合衆国特許明細書第4072694号及び西
ドイツ国特許公開公報第2357866号中に記載され
ているようなグロピオフエノン誘導体である。
しかしながら、この型の化合物の性質は特に貯蔵安定性
、反応性および黄変傾向の点においてまだ最適なもので
はない。
、反応性および黄変傾向の点においてまだ最適なもので
はない。
従って、基剤に易溶性であり、より迅速に光重合を開始
し、暗所貯蔵時の良好な安定性を有し、そして公知の光
開始剤よりも単位時間当り更に大きなポリマー収量を得
る光開始剤に対する工業上の要望がある。このような改
良された光開始剤の使用により、高価な工業用UV照射
装置がより有効に用いられることが可能となるであろう
。
し、暗所貯蔵時の良好な安定性を有し、そして公知の光
開始剤よりも単位時間当り更に大きなポリマー収量を得
る光開始剤に対する工業上の要望がある。このような改
良された光開始剤の使用により、高価な工業用UV照射
装置がより有効に用いられることが可能となるであろう
。
4.5定の芳香族−脂肪族グロピオフェノンは光開始剤
としての優秀な性質を有し、これによりエチレン性不飽
和化合物の光重合を改良することが判かった。
としての優秀な性質を有し、これによりエチレン性不飽
和化合物の光重合を改良することが判かった。
本発明はエチレン性不飽和光重合性化合物の少なくとも
一種と次式■: 4 R5 〔式中、 R1は水素原子寸だけ炭素原子数1ないし4のアルキル
基、 S i (CH3)3基、アリルまたはベンジル
基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基聾たは一〇H基に
より置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基、次
式: −(CI(2−CFI20 )n−R’(式中、 nは2ないし20であり、そして R′は水素原子捷たは炭素原子数1ないし4のアルキル
基、a−8i(CH,へ基、べ/ジル基、炭素原子数5
ないし6のアルケニル基、炭素原子数6ないし4のアル
キニル基、2−テトラヒドロピラニル基−または2−テ
トラヒドロフラニル基を表わす。)で表わされる基を表
わすか、または nlと■12は一緒になって炭素原子数1ないし乙のア
ルキリデン基寸たは水酸基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基またはフェニル基によって置換された炭素原
子数2ないし6のアルキリデン基、直鎖状または分岐鎖
状の炭素原子数2ないしるのアルカンジイル、ベンジリ
デン、シクロペンチリデンまたはンクロヘキシリデンオ
たは2,2.2−)リクロロエチリデン、2−フリルメ
チリデンまたはジメチルシリリデン基を表わし、 R3は未置換または−C1、炭素原子数1ないし4のア
ルキル、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基たは炭素
原子数1ないし4のアルキルチオ基1個才たけそれより
多くにより置換されたフェニル基を表わし、そしてまた
ベンゾイルフェニル基、フェノキシフェニル基47’j
kl−フェニルチオ基を表わ(7、 R4は炭素原子数1ないし4のアルキル基まだは未置換
または−(4,炭素原子数1ないし4のアルキルまたは
炭素原子数1ないl、 4のアルコキシ基1個また(d
それより多くにより置換されたフェニル基を表わし、そ
して R5は水素原子または炭素原子数1なめし4のアルキル
基を表わすか、または R4とR5は一緒になってトリメチレンまたはテトラメ
チレン基を表わし、そして R6は水素原子、炭素原子数1カいし4のアルキル基、
−cci、基またはフェニル基を表わし、ただし、 もしg2. R5およびR6が同時に水素原子を表わし
、そしてR3とR4が同時にフェニル基を表わすときは
R1は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わして(tまならず、9、(にもしR3とR4が
同時にフェニル基を表わし、そしてR5とR6が同時に
水素原子を表わすときはR1とR1′は−緒になってア
ルキリデン基またはベンジリデン基を表わしてはならず
、そしてまた、もしR3とR14が同時にp−メトキシ
フェニル基を表わし、そしてR2,R5およびR6が同
時に水素原子を表わすときはR1は水素原子を表わして
はならず、そし2て最後に、もしR2とR6が同時に水
素原子を表わし、そ17てR3、R4およびR2′が同
時にフェニル基を表わすときはR1は水素原子を表わ[
2てはならない。)で表わされるプロビオフエノン誘導
体の有効量とよりなる光重合性組成物に関するものであ
る。これらの化合物はエチレン性不飽和化合物の光重合
のだめの、そ[7てポリオレノインの光化学的架橋のだ
めの開始剤である。
一種と次式■: 4 R5 〔式中、 R1は水素原子寸だけ炭素原子数1ないし4のアルキル
基、 S i (CH3)3基、アリルまたはベンジル
基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基聾たは一〇H基に
より置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基、次
式: −(CI(2−CFI20 )n−R’(式中、 nは2ないし20であり、そして R′は水素原子捷たは炭素原子数1ないし4のアルキル
基、a−8i(CH,へ基、べ/ジル基、炭素原子数5
ないし6のアルケニル基、炭素原子数6ないし4のアル
キニル基、2−テトラヒドロピラニル基−または2−テ
トラヒドロフラニル基を表わす。)で表わされる基を表
わすか、または nlと■12は一緒になって炭素原子数1ないし乙のア
ルキリデン基寸たは水酸基、炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基またはフェニル基によって置換された炭素原
子数2ないし6のアルキリデン基、直鎖状または分岐鎖
状の炭素原子数2ないしるのアルカンジイル、ベンジリ
デン、シクロペンチリデンまたはンクロヘキシリデンオ
たは2,2.2−)リクロロエチリデン、2−フリルメ
チリデンまたはジメチルシリリデン基を表わし、 R3は未置換または−C1、炭素原子数1ないし4のア
ルキル、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基たは炭素
原子数1ないし4のアルキルチオ基1個才たけそれより
多くにより置換されたフェニル基を表わし、そしてまた
ベンゾイルフェニル基、フェノキシフェニル基47’j
kl−フェニルチオ基を表わ(7、 R4は炭素原子数1ないし4のアルキル基まだは未置換
または−(4,炭素原子数1ないし4のアルキルまたは
炭素原子数1ないl、 4のアルコキシ基1個また(d
それより多くにより置換されたフェニル基を表わし、そ
して R5は水素原子または炭素原子数1なめし4のアルキル
基を表わすか、または R4とR5は一緒になってトリメチレンまたはテトラメ
チレン基を表わし、そして R6は水素原子、炭素原子数1カいし4のアルキル基、
−cci、基またはフェニル基を表わし、ただし、 もしg2. R5およびR6が同時に水素原子を表わし
、そしてR3とR4が同時にフェニル基を表わすときは
R1は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わして(tまならず、9、(にもしR3とR4が
同時にフェニル基を表わし、そしてR5とR6が同時に
水素原子を表わすときはR1とR1′は−緒になってア
ルキリデン基またはベンジリデン基を表わしてはならず
、そしてまた、もしR3とR14が同時にp−メトキシ
フェニル基を表わし、そしてR2,R5およびR6が同
時に水素原子を表わすときはR1は水素原子を表わして
はならず、そし2て最後に、もしR2とR6が同時に水
素原子を表わし、そ17てR3、R4およびR2′が同
時にフェニル基を表わすときはR1は水素原子を表わ[
2てはならない。)で表わされるプロビオフエノン誘導
体の有効量とよりなる光重合性組成物に関するものであ
る。これらの化合物はエチレン性不飽和化合物の光重合
のだめの、そ[7てポリオレノインの光化学的架橋のだ
めの開始剤である。
炭素原子数1ないし4のアルキル基R’、R2゜n、4
. R5及びR6は例えば直鎖状または分岐鎖状アルキ
ル基例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、第ニブチル基及び第三ブチ
ル基、(〜かし特にメチルノ1(を表わす。
. R5及びR6は例えば直鎖状または分岐鎖状アルキ
ル基例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、第ニブチル基及び第三ブチ
ル基、(〜かし特にメチルノ1(を表わす。
フェニル基の炭素原子数1ないし4のアルキル置換基R
3及びR4は例えばメチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル甘たは第三ブチル置換基を表わ
す。
3及びR4は例えばメチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル甘たは第三ブチル置換基を表わ
す。
R3としてのフェニル基の埃素原子数1ないし4のアル
コキシ寸だは炭素原子数1ないし4の7 ルキルチオ置
換基は各々例えばメトキン、エトキシ、プロポキシ寸た
は第三ブトキシ基またはメチルチオ、エチルチオ、プロ
ビルチオオだは第三ブチルチオ置換基を表わす。
コキシ寸だは炭素原子数1ないし4の7 ルキルチオ置
換基は各々例えばメトキン、エトキシ、プロポキシ寸た
は第三ブトキシ基またはメチルチオ、エチルチオ、プロ
ビルチオオだは第三ブチルチオ置換基を表わす。
R1とR2が一緒になることにより作られる炭素原子数
1ないし6のアルキリデン基は例えばメチレン基、エチ
リデン基、プロピリデン基または特にインプロピリデン
基を表わし、そしてItlとR2が一緒になることによ
り作られる直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2ないし
乙のアルカジイル基は例えばエタンジイル基またはメチ
ルエタンジイル基を表わす。
1ないし6のアルキリデン基は例えばメチレン基、エチ
リデン基、プロピリデン基または特にインプロピリデン
基を表わし、そしてItlとR2が一緒になることによ
り作られる直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数2ないし
乙のアルカジイル基は例えばエタンジイル基またはメチ
ルエタンジイル基を表わす。
R1とR2が一緒になることにより作られる、水酸基に
より置換された炭素原子数2ないし6のアルキリデン基
は、好ましくは1−ヒドロキシ−2−グロビリデン基を
表わし、R1とR2が一緒になることにより作られる、
炭素原子数1ないi〜4のアルコキシ基により置換され
た炭素原子数2ないし6のアルキリデン基は、好ましく
は1−メトキシ−2−プロピリデン基を表わし、そして
R1とR2が一緒になることにより作られる、フェニル
基により置換された炭素原子数2ないしるのアルキリデ
ン基は、特に1−フェニル−1−エチリデン基を表わす
。
より置換された炭素原子数2ないし6のアルキリデン基
は、好ましくは1−ヒドロキシ−2−グロビリデン基を
表わし、R1とR2が一緒になることにより作られる、
炭素原子数1ないi〜4のアルコキシ基により置換され
た炭素原子数2ないし6のアルキリデン基は、好ましく
は1−メトキシ−2−プロピリデン基を表わし、そして
R1とR2が一緒になることにより作られる、フェニル
基により置換された炭素原子数2ないしるのアルキリデ
ン基は、特に1−フェニル−1−エチリデン基を表わす
。
■L4とし2てのフェニル基の炭素原子数1ないし4の
アルコキン14換基は例えばメトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ寸たは第三ブトキシ基を表わす0 炭素原子数5ないし乙のアルケニル基R2は洞見Its
’ ]uべ−2−ニル基、n−ブチ−2−ニル基、メー
f−ルー2−プロペー2−ニル基、n−ペアー”;−−
2−ニル基i k Iri n−ヘキセ−2−ニル基を
表わし、そ[2て炭素原子数3ないし4のアルギニル基
R2は例えばプロビー1−ニル基またQ」3−ブテン−
1−イニル基を表わす。
アルコキン14換基は例えばメトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ寸たは第三ブトキシ基を表わす0 炭素原子数5ないし乙のアルケニル基R2は洞見Its
’ ]uべ−2−ニル基、n−ブチ−2−ニル基、メー
f−ルー2−プロペー2−ニル基、n−ペアー”;−−
2−ニル基i k Iri n−ヘキセ−2−ニル基を
表わし、そ[2て炭素原子数3ないし4のアルギニル基
R2は例えばプロビー1−ニル基またQ」3−ブテン−
1−イニル基を表わす。
炭素原子数1ないし8のアルキル置換基R2は例えば直
鎖状まだは分岐知状fハ換基例えばメチル基、エチル基
、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第
ニブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘフチル基マたはオクチル基を表わす。
鎖状まだは分岐知状fハ換基例えばメチル基、エチル基
、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第
ニブチル基、第三ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘフチル基マたはオクチル基を表わす。
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基または−OH基に
より置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基の場
合は位置異性体の総てが可能である。
より置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基の場
合は位置異性体の総てが可能である。
次式’ (CH2CH20)n R5で表わされる基
により置換されたR2基においては、nは2ないし5で
あり、R5は好1しくけメチル基またはエチル基を表わ
す。
により置換されたR2基においては、nは2ないし5で
あり、R5は好1しくけメチル基またはエチル基を表わ
す。
式Iで表わされる好ましい化合物としてd:、式中R1
とR2が水素原子、 S 1 (CHs )3基寸たは
炭素原子数1ないし4のアルキル基特にメチル基を表わ
し、R3がフェニル基を表わし、R’が炭素原子数1な
いし4のアルキル基を表わL、そしてR5が水素原子を
表わずか、または式中R1とIt2が−緒になってイン
プロピリデン基才たはベンジリデン基を表わすか、まだ
はR4とR5が一緒になってトリメチシン旋たはテトラ
メチレン基を表わし、そしてR6が水素原子を表わす化
合物が挙げられる。
とR2が水素原子、 S 1 (CHs )3基寸たは
炭素原子数1ないし4のアルキル基特にメチル基を表わ
し、R3がフェニル基を表わし、R’が炭素原子数1な
いし4のアルキル基を表わL、そしてR5が水素原子を
表わずか、または式中R1とIt2が−緒になってイン
プロピリデン基才たはベンジリデン基を表わすか、まだ
はR4とR5が一緒になってトリメチシン旋たはテトラ
メチレン基を表わし、そしてR6が水素原子を表わす化
合物が挙げられる。
同様に式rで表わされる好ましい化合物としては、式中
R’とR2が一緒になってジメチルシリリデン基を表わ
す化合物が挙げられる。
R’とR2が一緒になってジメチルシリリデン基を表わ
す化合物が挙げられる。
特に好せしい式■で表わされる化合物としては、式中R
1、R5及びR6が水素原子を表わし、R2とR4がメ
チル基を表わし、そしてR′がフェニル基を表わすか、
咬だけ、R1が水素原子f:表わし、R2がメチル基を
表わし、R3がフェニル基を表わし、R4とR5が一緒
になってテトラメチレン基を表わし、そしてR6が水素
原子を表わすか、または式中R1とR2が一緒になって
インプロピリデン基を表わす化合物が挙げられる。
1、R5及びR6が水素原子を表わし、R2とR4がメ
チル基を表わし、そしてR′がフェニル基を表わすか、
咬だけ、R1が水素原子f:表わし、R2がメチル基を
表わし、R3がフェニル基を表わし、R4とR5が一緒
になってテトラメチレン基を表わし、そしてR6が水素
原子を表わすか、または式中R1とR2が一緒になって
インプロピリデン基を表わす化合物が挙げられる。
時に好寸しい式■で表わされる化合物としては、式中R
1が水素原子を表わし、■12が水素原子、メチルJ、
(または−S i (CHs h基を表わすか、まだは
R1とR2が一緒になってインプロピリデン基、ベンジ
リデン基またはジメチルシリリデン基を表わし、R3が
フェニル基を表わし7、R4がメチル基またはフェニル
基を表わし、R5が水素原子を表わすか、またはR′と
R5が一緒に力ってテトラメチレン基を表わし、そして
R6が水素原子才たけフェニル基を表わすが、ただしR
2、R5及びR6が同時に水素原子を表わさず、または
R4はフェニル基を表わさず、そしてもしR4がフェニ
ル基を表わし、そしてR5とR6が同時に水素原子を表
わすときはR1とR2は一緒になってインプロピリデン
基またはベンジリデン基を表わしてはならず、そして最
後に、R2は水素原子を表わし得ないものであるか、ま
たはR4とR6は同時にフェニル基を表わし得ない化合
物が挙げられる。
1が水素原子を表わし、■12が水素原子、メチルJ、
(または−S i (CHs h基を表わすか、まだは
R1とR2が一緒になってインプロピリデン基、ベンジ
リデン基またはジメチルシリリデン基を表わし、R3が
フェニル基を表わし7、R4がメチル基またはフェニル
基を表わし、R5が水素原子を表わすか、またはR′と
R5が一緒に力ってテトラメチレン基を表わし、そして
R6が水素原子才たけフェニル基を表わすが、ただしR
2、R5及びR6が同時に水素原子を表わさず、または
R4はフェニル基を表わさず、そしてもしR4がフェニ
ル基を表わし、そしてR5とR6が同時に水素原子を表
わすときはR1とR2は一緒になってインプロピリデン
基またはベンジリデン基を表わしてはならず、そして最
後に、R2は水素原子を表わし得ないものであるか、ま
たはR4とR6は同時にフェニル基を表わし得ない化合
物が挙げられる。
下記の化合物は式!で表わされる個々の化合物の例であ
る:2−ヒドロキシー3−メトキシー2−メチル−1−
フェニルプロパノン−1,3−ベンジルオキシ−2−ヒ
ドロキシ−2−メチル−1−〕・〕鼠ニルプロパノンー
11.3−ジフェニル−2−ヒドロキシ−3−メトキシ
−2−メチル−プロパノン−1,2−ヒドロキシ−5−
メトWシー2−メチルー1−フェニル−6−) l/
クロロメチル−プロパノン−1,1,2−ジフェニル−
2−ヒドロキシ−6−メドキシーグロパノンー1.6−
アリルオキシ−1,2−ジフェニル−2−ヒドロキシ−
プロパノン−1,1,2−ジフェニル−2−ヒドロキシ
−3−トリメチルシロキシ−プロパノン−1、i、2−
ジフェニル−2−ヒドロキシ−5−(2〜テトラヒドロ
ピラニルオキシ)−プロパノン−1,2,3−ジヒドロ
キシ−2−メチル−1−フェニル−6−ドリクロロメチ
ループロバノンー1.1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ
−2−トリメチルシリルオキシ−シクロヘキサン、1−
ベンゾイル−1−ヒドロキシ−2−メトキシーシクロヘ
キザン、1−ベンゾイル−1,2−ジヒドロキシーシク
ロヘキザン、4−ベンゾイル−5−ト17クロロメチル
ー2.2.4− トリメチル−1,3−ジオキソラン、
2.3−(ジメチルシリレンジオキシ)−1,2−ジフ
ェニルーグロバノン−1,2,5−(ジメチルシリレン
ジオキシ)−2−メチル−1−フェニル−プロパノ/−
1,2,3−(ジメチルシリレンジオキシ)−2−メチ
ル−1−(4−メトキシフェニル)−プロパノン−1,
4−ベンゾイル−4−メチル−2−フェニル−1,3−
ジオキソラン、4−ベンゾイル−2,2,4〜トリメチ
ル−1,6〜ジオキンラン、4−(4−クロロベンソイ
ル)−4−(4−70口フェニル)−2−フェニル−1
,3−ジオキンラン 4− ヘア ソ、(/l。
る:2−ヒドロキシー3−メトキシー2−メチル−1−
フェニルプロパノン−1,3−ベンジルオキシ−2−ヒ
ドロキシ−2−メチル−1−〕・〕鼠ニルプロパノンー
11.3−ジフェニル−2−ヒドロキシ−3−メトキシ
−2−メチル−プロパノン−1,2−ヒドロキシ−5−
メトWシー2−メチルー1−フェニル−6−) l/
クロロメチル−プロパノン−1,1,2−ジフェニル−
2−ヒドロキシ−6−メドキシーグロパノンー1.6−
アリルオキシ−1,2−ジフェニル−2−ヒドロキシ−
プロパノン−1,1,2−ジフェニル−2−ヒドロキシ
−3−トリメチルシロキシ−プロパノン−1、i、2−
ジフェニル−2−ヒドロキシ−5−(2〜テトラヒドロ
ピラニルオキシ)−プロパノン−1,2,3−ジヒドロ
キシ−2−メチル−1−フェニル−6−ドリクロロメチ
ループロバノンー1.1−ベンゾイル−1−ヒドロキシ
−2−トリメチルシリルオキシ−シクロヘキサン、1−
ベンゾイル−1−ヒドロキシ−2−メトキシーシクロヘ
キザン、1−ベンゾイル−1,2−ジヒドロキシーシク
ロヘキザン、4−ベンゾイル−5−ト17クロロメチル
ー2.2.4− トリメチル−1,3−ジオキソラン、
2.3−(ジメチルシリレンジオキシ)−1,2−ジフ
ェニルーグロバノン−1,2,5−(ジメチルシリレン
ジオキシ)−2−メチル−1−フェニル−プロパノ/−
1,2,3−(ジメチルシリレンジオキシ)−2−メチ
ル−1−(4−メトキシフェニル)−プロパノン−1,
4−ベンゾイル−4−メチル−2−フェニル−1,3−
ジオキソラン、4−ベンゾイル−2,2,4〜トリメチ
ル−1,6〜ジオキンラン、4−(4−クロロベンソイ
ル)−4−(4−70口フェニル)−2−フェニル−1
,3−ジオキンラン 4− ヘア ソ、(/l。
−4,5−ジメチル−2−フェニル−1,3−ジオキソ
ラン、4〜ベンゾイル−4−メチル−1,5−ジオキソ
ラン、4−ベンゾイル−4−メチル−2,2−ペンタメ
チレン−1,3−ジオキンラン、4−ベンゾイル−2,
2−ペンタメチレン−4−フェニル−1,3〜ジオキソ
ラン、4−エチル−4−ベンゾイル−2,2−テトラメ
チレン−1,3−ジオキンラン、4−エチル−4−(4
−メ)キシベンゾ−fル)−2−プロピル−1,6−ジ
オキソラン、4−ベンゾイル−2,4−ジメチル−2−
−Lデル−5−フェニル−1,6−ジオキソラン、4−
エチル−4−ベンゾイル−2−インプロビル−5−フェ
ニル−1,3−ジオキソラン、2−ベンゾイル−2−メ
チル−6−フェニル−1,4−ジオキソラン、2−ベン
ゾイル−5−メチル−2−フェニル−1,4−ジオキソ
ラン、1.2−(ジノチルシリレンジオキシ)−1−ペ
ンゾイルーシクロヘキザン、1−ベンゾイル−8,8−
ジメヂルー7,9−ジオキサビシクロ[4,3,0)ノ
ナン、1−ベンゾイル−8,8−ペンタメチレン−7,
9−ジオキサビシクロ(+、5.o〕ノナン、2−ヒド
ロキシ−6−インプロポキシ−2−メチル−1−フェニ
ル−1−プロパノン−1,2−エチル−3−(2−エチ
ルヘキシル)オキシ−2−ヒドロキシ−1−(5−トリ
ル)−プっバノン−1,2−ヒドロキシ−3−(2−メ
トキシエチル)オキシ−2−メチル−1−(4−メチル
チオフェニル)−!l−7:r−ニルグロバ/ンー1,
2−エチルオキンメチル−2−ヒドロキシ−1−(4−
プロポキンフェニル)−へキサ/ノー1.1−(4−ベ
ンゾイルフェニル)〜2−ヒドロキシー 2−)fルー
5−(2−テトラヒドロフラニルオキシ)−プロパノン
−1,1,2−ジフェニル−2−ヒドロキシ−4,7,
10−)リオキサウンデカノン−1,2−ヒドロキシ−
1−(4−メトキシ−3−メチル−フェニル 7、10 − )リオキサドデヵノンー1、1,2−ジ
フェニル−2−ヒドロキシ−4.7,10.1!1,1
6。
ラン、4〜ベンゾイル−4−メチル−1,5−ジオキソ
ラン、4−ベンゾイル−4−メチル−2,2−ペンタメ
チレン−1,3−ジオキンラン、4−ベンゾイル−2,
2−ペンタメチレン−4−フェニル−1,3〜ジオキソ
ラン、4−エチル−4−ベンゾイル−2,2−テトラメ
チレン−1,3−ジオキンラン、4−エチル−4−(4
−メ)キシベンゾ−fル)−2−プロピル−1,6−ジ
オキソラン、4−ベンゾイル−2,4−ジメチル−2−
−Lデル−5−フェニル−1,6−ジオキソラン、4−
エチル−4−ベンゾイル−2−インプロビル−5−フェ
ニル−1,3−ジオキソラン、2−ベンゾイル−2−メ
チル−6−フェニル−1,4−ジオキソラン、2−ベン
ゾイル−5−メチル−2−フェニル−1,4−ジオキソ
ラン、1.2−(ジノチルシリレンジオキシ)−1−ペ
ンゾイルーシクロヘキザン、1−ベンゾイル−8,8−
ジメヂルー7,9−ジオキサビシクロ[4,3,0)ノ
ナン、1−ベンゾイル−8,8−ペンタメチレン−7,
9−ジオキサビシクロ(+、5.o〕ノナン、2−ヒド
ロキシ−6−インプロポキシ−2−メチル−1−フェニ
ル−1−プロパノン−1,2−エチル−3−(2−エチ
ルヘキシル)オキシ−2−ヒドロキシ−1−(5−トリ
ル)−プっバノン−1,2−ヒドロキシ−3−(2−メ
トキシエチル)オキシ−2−メチル−1−(4−メチル
チオフェニル)−!l−7:r−ニルグロバ/ンー1,
2−エチルオキンメチル−2−ヒドロキシ−1−(4−
プロポキンフェニル)−へキサ/ノー1.1−(4−ベ
ンゾイルフェニル)〜2−ヒドロキシー 2−)fルー
5−(2−テトラヒドロフラニルオキシ)−プロパノン
−1,1,2−ジフェニル−2−ヒドロキシ−4,7,
10−)リオキサウンデカノン−1,2−ヒドロキシ−
1−(4−メトキシ−3−メチル−フェニル 7、10 − )リオキサドデヵノンー1、1,2−ジ
フェニル−2−ヒドロキシ−4.7,10.1!1,1
6。
19、22,25,28.31 − デ ジノ オ
キ サ 1・ リ ト リ アコンタノン−1
、1−(2−クロロ−4−フェニルチオ−2エニル)−
2−エチル−2−ヒドロキシ−3−(2−プロピニル)
オキシプロパノン−1、1−(5−、4−ジメチル−フ
ェニル)−6−プトキシー2−ヒドロキシ−2−メチル
−6−フエニルブロパノンー1,2,+−.、>メチル
−2−ヒドロキシ−5−メトキシ−1−フェニル−ブタ
ノン−1、6−(2−ブテニル)オキシ−2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−(2,4.6 − )リメチルフ
ェニル)−フロバ)’7ー1、1−(3。
キ サ 1・ リ ト リ アコンタノン−1
、1−(2−クロロ−4−フェニルチオ−2エニル)−
2−エチル−2−ヒドロキシ−3−(2−プロピニル)
オキシプロパノン−1、1−(5−、4−ジメチル−フ
ェニル)−6−プトキシー2−ヒドロキシ−2−メチル
−6−フエニルブロパノンー1,2,+−.、>メチル
−2−ヒドロキシ−5−メトキシ−1−フェニル−ブタ
ノン−1、6−(2−ブテニル)オキシ−2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−(2,4.6 − )リメチルフ
ェニル)−フロバ)’7ー1、1−(3。
4−ジメトキシフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メト
キシメチルブフう−1−旨、1.2−ジフェニル−2.
3−ビス(トリメチルシロキシ)ープロパノン−1、1
.2−ビス(4−メトキクフェニル)−2.3−ビス(
アリルオキシ)−プロパノン−1、2.3−ジベンジル
オキシ−2−メチル−1−(4−グロビルチオフェニル
)−プOパ/7−1, 1−(4−第三ブチルフェニ
ル)−2−エチル−2.6−ジメトキシ−6−フェニル
−プロパノン−1、5−ヒドロキシ−1.2ービス(4
−メトキシフェニル)−2− トリメチルシロギシーブ
ロバノン−1、6−ヒドロキシ−2−イングログロビル
オキシー1.2.3−トリフェニル−プロパノン−1、
2−アリルオキシ−1、2−ジフェニル−5−ヒドロキ
シーグロパノン−1、2−ブチル−2−ヒドロキシ−3
−メトキシ−4−メチル−1−(4−フェニルチオフェ
ニル)−ペンタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル
−1−(4−フェノキ/フェニル)−3−トリメチルン
ロキシプロパ/ノー1、1−(4−クロnフェニル)−
2−ヒドロキシ−6−(2−ヒドロキシプロピル)オキ
シ−2−メチルプロパノン−1。
キシメチルブフう−1−旨、1.2−ジフェニル−2.
3−ビス(トリメチルシロキシ)ープロパノン−1、1
.2−ビス(4−メトキクフェニル)−2.3−ビス(
アリルオキシ)−プロパノン−1、2.3−ジベンジル
オキシ−2−メチル−1−(4−グロビルチオフェニル
)−プOパ/7−1, 1−(4−第三ブチルフェニ
ル)−2−エチル−2.6−ジメトキシ−6−フェニル
−プロパノン−1、5−ヒドロキシ−1.2ービス(4
−メトキシフェニル)−2− トリメチルシロギシーブ
ロバノン−1、6−ヒドロキシ−2−イングログロビル
オキシー1.2.3−トリフェニル−プロパノン−1、
2−アリルオキシ−1、2−ジフェニル−5−ヒドロキ
シーグロパノン−1、2−ブチル−2−ヒドロキシ−3
−メトキシ−4−メチル−1−(4−フェニルチオフェ
ニル)−ペンタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル
−1−(4−フェノキ/フェニル)−3−トリメチルン
ロキシプロパ/ノー1、1−(4−クロnフェニル)−
2−ヒドロキシ−6−(2−ヒドロキシプロピル)オキ
シ−2−メチルプロパノン−1。
式■で表わされる化合物は新規であり、従ってまた本発
明の目的をなす。これらの調製は公知化合物の調製例え
ばアメリカ合衆国特許明細書第4318791号及び第
4072694号中に記載された適する製法に従って同
様に行われる。
明の目的をなす。これらの調製は公知化合物の調製例え
ばアメリカ合衆国特許明細書第4318791号及び第
4072694号中に記載された適する製法に従って同
様に行われる。
下記の合成手順が特に有利である。
式■で表わされるプロピオフェノン誘導体より出発して
、式Vで表わされる化合物は弐nrで表わされる塩素化
された化合物を通るCl?の手段によるか、または式■
で表わされる化合物を通って製造され、そして式■で表
わされる適当なアルコールまたは水と反応させた後、本
発明の式lで表わされる化合物に変えられ、次いで更に
アルキル化、シリル化またはジオキンラン生成の後、本
発明の式(Ilで表わされる化合物に変えられる。式■
で表わされる化合物はまた式■で表わされろケトンまた
はアルデヒドを使用するジオキンラン生成により式■で
表わされる化合物より直接作ることができる。この場合
、R7は水素原子、炭素原子数1ないし5のアルキル基
またはフェニル基を表わし、R8は水素原子または炭素
原子数1ないし2のアルキル基を表わし、そしてR7と
R8は一緒になってテトラメチレン捷だはペンタメチレ
ン基を表わす。式■。
、式Vで表わされる化合物は弐nrで表わされる塩素化
された化合物を通るCl?の手段によるか、または式■
で表わされる化合物を通って製造され、そして式■で表
わされる適当なアルコールまたは水と反応させた後、本
発明の式lで表わされる化合物に変えられ、次いで更に
アルキル化、シリル化またはジオキンラン生成の後、本
発明の式(Ilで表わされる化合物に変えられる。式■
で表わされる化合物はまた式■で表わされろケトンまた
はアルデヒドを使用するジオキンラン生成により式■で
表わされる化合物より直接作ることができる。この場合
、R7は水素原子、炭素原子数1ないし5のアルキル基
またはフェニル基を表わし、R8は水素原子または炭素
原子数1ないし2のアルキル基を表わし、そしてR7と
R8は一緒になってテトラメチレン捷だはペンタメチレ
ン基を表わす。式■。
u 、 III 、 IV 、 V及び■において、基
R1ないしR6は上記において定・′義された意味を表
わす。
R1ないしR6は上記において定・′義された意味を表
わす。
輪の中の数字は、この型の同様の方法が記載されている
参考文臥を示している:■J、Chem。
参考文臥を示している:■J、Chem。
Soc、、79,928(1901)、■J、Org
、 Chem、 、 28 、250゜(1965)i
たはOrg、5yntheses 、 55 、52
(1976) 。
、 Chem、 、 28 、250゜(1965)i
たはOrg、5yntheses 、 55 、52
(1976) 。
■J、Am、Chem、Soc、、75.2042(1
953)、 ■J。
953)、 ■J。
Chem、5oc−,73,3293(1958,)−
4たはI−Iouben−We y 1共著、 Met
hoden der organischen Che
mie(有機化学の方法)、V115巻、40〜44,
456、457 (19/+5)、■T −W、 Gr
eene著、有機合成における保蒔基、40〜42頁(
1981)iたけ)Touben−Wey]共著、Me
thoden der organishenchem
ie (有機化学の方法)、Vl/3巻、229〜23
2 (1963)、■J、Am、Chern、S□c・
92.5394(1970)、■Khim、Geter
otsikl−8oedin 1975゜907゜ そのような化合物の例は不飽和モノマー、例えばアクリ
ル酸又はメタクリル酸のエステル、例えばメチル、エチ
ル、n−ブチル、第三ブチル、イソオクチル又はヒドロ
キシエチルアクリレート、メチル−又はエチルメタクリ
レート、エチレンジアクリレート、ネオペンチル−ジア
クリレート、トリメチロールプロパントリスアクリレー
ト、ペンタエリトリットテトラアクリレート又はペンタ
エリトリットトリスアクリレート;アクリロニトリル、
メタクリルニトリル、アクリルアばド、メタクリルアミ
ド又はN−fR換(メタ)アクリルアミド;ビニルエス
テル類、例えばビニルアセテート、−プ℃1ビオネート
、−アクリレート又は−スフシネ−1・;その他のビニ
ル化合物、例えばビニルエーテル、スチロール、アルキ
ルスチロール、ハロゲノスチロール、ジビニルベンゼン
、ビニルナフタリン、N−ビニル−ピロリドン、ビニル
クロリド又はビニリデンクロリド;アリル化合物、例え
ばジアリルフタレート、ジアリルマレエート、トリアリ
ルインシアヌレート、トリアリルホスフェート5ZId
:r−チシンクリコールジアリルエーテル、およびその
ような不飽和モノマーの混合物である。
4たはI−Iouben−We y 1共著、 Met
hoden der organischen Che
mie(有機化学の方法)、V115巻、40〜44,
456、457 (19/+5)、■T −W、 Gr
eene著、有機合成における保蒔基、40〜42頁(
1981)iたけ)Touben−Wey]共著、Me
thoden der organishenchem
ie (有機化学の方法)、Vl/3巻、229〜23
2 (1963)、■J、Am、Chern、S□c・
92.5394(1970)、■Khim、Geter
otsikl−8oedin 1975゜907゜ そのような化合物の例は不飽和モノマー、例えばアクリ
ル酸又はメタクリル酸のエステル、例えばメチル、エチ
ル、n−ブチル、第三ブチル、イソオクチル又はヒドロ
キシエチルアクリレート、メチル−又はエチルメタクリ
レート、エチレンジアクリレート、ネオペンチル−ジア
クリレート、トリメチロールプロパントリスアクリレー
ト、ペンタエリトリットテトラアクリレート又はペンタ
エリトリットトリスアクリレート;アクリロニトリル、
メタクリルニトリル、アクリルアばド、メタクリルアミ
ド又はN−fR換(メタ)アクリルアミド;ビニルエス
テル類、例えばビニルアセテート、−プ℃1ビオネート
、−アクリレート又は−スフシネ−1・;その他のビニ
ル化合物、例えばビニルエーテル、スチロール、アルキ
ルスチロール、ハロゲノスチロール、ジビニルベンゼン
、ビニルナフタリン、N−ビニル−ピロリドン、ビニル
クロリド又はビニリデンクロリド;アリル化合物、例え
ばジアリルフタレート、ジアリルマレエート、トリアリ
ルインシアヌレート、トリアリルホスフェート5ZId
:r−チシンクリコールジアリルエーテル、およびその
ような不飽和モノマーの混合物である。
他の光重合性化合物は不飽和オリゴマー又−二ポリマー
およびそれらと不飽和上ツマ−との混合物である。これ
らの化合物には不飽和基、例えばフマル酸エステル、ア
リル基又はアクリレート又はメタクリレート基を含む熱
可塑性樹脂が含まわ、る。殆んどの場合、これらの不飽
和基はこれらの線状ポリマーの主鎖に官能基を介して結
合されている。オリゴマーとモノ不飽和およびポリ不飽
和モノマーとの混合物は非常に重要である。そのような
オリゴマーの例は不飽和ポリエステル、不飽和アクリル
樹脂およびインシアネート変性−又はエポキシド変性−
アクリレートオリゴマーおよび寸だポリエーテルアクリ
レートオリゴマーである。ポリ不飽和化合物の例は特に
ジオールおよびポリオールのアクリレート、例えばヘキ
サメチレンジアクリレート又d]ペンタエリトリットテ
トラアクリレートである。アクリレート、例えばブチル
アクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリ
レート、2−エチルへキシルアクリレート又は2〜ヒド
ロキシグロピルアクリレート、もまたモノ不飽和モノマ
ーとして好オし7い。種々の代表的モノマーから5成分
を選ぶことにより、未迅合混合物のコンシスチンシーお
よびまた重合樹脂の可塑性を変えることが可能である。
およびそれらと不飽和上ツマ−との混合物である。これ
らの化合物には不飽和基、例えばフマル酸エステル、ア
リル基又はアクリレート又はメタクリレート基を含む熱
可塑性樹脂が含まわ、る。殆んどの場合、これらの不飽
和基はこれらの線状ポリマーの主鎖に官能基を介して結
合されている。オリゴマーとモノ不飽和およびポリ不飽
和モノマーとの混合物は非常に重要である。そのような
オリゴマーの例は不飽和ポリエステル、不飽和アクリル
樹脂およびインシアネート変性−又はエポキシド変性−
アクリレートオリゴマーおよび寸だポリエーテルアクリ
レートオリゴマーである。ポリ不飽和化合物の例は特に
ジオールおよびポリオールのアクリレート、例えばヘキ
サメチレンジアクリレート又d]ペンタエリトリットテ
トラアクリレートである。アクリレート、例えばブチル
アクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリ
レート、2−エチルへキシルアクリレート又は2〜ヒド
ロキシグロピルアクリレート、もまたモノ不飽和モノマ
ーとして好オし7い。種々の代表的モノマーから5成分
を選ぶことにより、未迅合混合物のコンシスチンシーお
よびまた重合樹脂の可塑性を変えることが可能である。
これらの5成分混合物の外に、特に2成分混合物がポリ
エステル樹脂において重要な役割を果す。こ力、らの混
合物は殆んどの場合不飽和ポリエステルとビニル化合物
とから成る。不飽和ポリエステルは少なくとも一種の不
飽和ジカルボン酸(例えばマレイン酸、フマル酸又はシ
トラコン酸)および殆んどの場合、少なくとも一種の飽
和ジカルボン酸(例えばフタル酸、コハク酸、セバシン
酸又はイソフタル酸)とグリコ−ル(洞見Id :r−
f Vンクリコール、1.2−7’ロバンジオール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール又はテト
ラメチレングリコール)とのオリゴマー性エステル化生
成物であるが、モノカルボン酸とモノアルコールもまた
多くの場合、変性用に同時に使用される。これらの不飽
和ポリエステルは通常、ビニル又はアリル化合物中に溶
解されるが、スチロールがこの目的に使用するのに好ま
しい。
エステル樹脂において重要な役割を果す。こ力、らの混
合物は殆んどの場合不飽和ポリエステルとビニル化合物
とから成る。不飽和ポリエステルは少なくとも一種の不
飽和ジカルボン酸(例えばマレイン酸、フマル酸又はシ
トラコン酸)および殆んどの場合、少なくとも一種の飽
和ジカルボン酸(例えばフタル酸、コハク酸、セバシン
酸又はイソフタル酸)とグリコ−ル(洞見Id :r−
f Vンクリコール、1.2−7’ロバンジオール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール又はテト
ラメチレングリコール)とのオリゴマー性エステル化生
成物であるが、モノカルボン酸とモノアルコールもまた
多くの場合、変性用に同時に使用される。これらの不飽
和ポリエステルは通常、ビニル又はアリル化合物中に溶
解されるが、スチロールがこの目的に使用するのに好ま
しい。
好捷しいエチレン系不飽和光重合性化合物は一官能性、
二官能性又は多官能性アクリル酸エステルおよび/又は
メタクリ/I、酸エステル又はそれらの混合物である。
二官能性又は多官能性アクリル酸エステルおよび/又は
メタクリ/I、酸エステル又はそれらの混合物である。
本発明の実施に使用される化合物の多くは水性光重合性
および架橋性系における開始剤として使用するのにも適
している。水性分散体の例は下記の刊行物に記載されて
いる:欧州l特許第12359、同第21078、同第
41125、ドイツ国公開公報2936059号および
同第5005056号。
および架橋性系における開始剤として使用するのにも適
している。水性分散体の例は下記の刊行物に記載されて
いる:欧州l特許第12359、同第21078、同第
41125、ドイツ国公開公報2936059号および
同第5005056号。
神々の目的に使用される光重合性系は殆んどの場合、光
重合性化合物および光開始剤以外に多くの他の添加剤を
含む。このように、時期尚早の重合、特に成分を混合す
ることにより系を調製している間の一重合から系を保険
するように意図されだ熱阻止剤を添加することがしばし
ば行われている。この目的に使用される化合物の例ハヒ
ドロキノン、ヒドロギノン朕4体、p−メトキシフェノ
ール、β−ナフチルアミン又はβ−ナフトールである。
重合性化合物および光開始剤以外に多くの他の添加剤を
含む。このように、時期尚早の重合、特に成分を混合す
ることにより系を調製している間の一重合から系を保険
するように意図されだ熱阻止剤を添加することがしばし
ば行われている。この目的に使用される化合物の例ハヒ
ドロキノン、ヒドロギノン朕4体、p−メトキシフェノ
ール、β−ナフチルアミン又はβ−ナフトールである。
少邦:のUV吸収剤、例えばベンゾトリアゾール又はベ
ンゾフェノン型のもの、を添加することも可能である。
ンゾフェノン型のもの、を添加することも可能である。
暗所における貯蔵安定性は、ナフテン酸銅、ステアリン
酸銅又はオクタン酸銅のような銅化合物;トリフェニル
ホスフィン、トリブチルホスフィン、トリエチルホスフ
ァイト、トリフェニルホスファイト又はトリベンジルホ
スファイトのような燐化合物;テトラメチルアンモニウ
ムクロリド又はトリメチルベンジルアンモニウムクロリ
ドのような第四級アンモニウム化合物:又はヒドロキシ
ルアεン誘導体、例えばN−ジエチルヒドロキンルアば
ン、を添加することによジ増大させることができる。光
重合性系は鎖移行剤、例えばN−メチルジェタノールア
ミン、トリエタノールアミン又はシクロヘキセン、をも
含むことができる。
酸銅又はオクタン酸銅のような銅化合物;トリフェニル
ホスフィン、トリブチルホスフィン、トリエチルホスフ
ァイト、トリフェニルホスファイト又はトリベンジルホ
スファイトのような燐化合物;テトラメチルアンモニウ
ムクロリド又はトリメチルベンジルアンモニウムクロリ
ドのような第四級アンモニウム化合物:又はヒドロキシ
ルアεン誘導体、例えばN−ジエチルヒドロキンルアば
ン、を添加することによジ増大させることができる。光
重合性系は鎖移行剤、例えばN−メチルジェタノールア
ミン、トリエタノールアミン又はシクロヘキセン、をも
含むことができる。
大気の酸素の阻害作用を除去するために、バラフインま
/Cは類似のワックス様物質を光硬化性混合物に加える
ことが多い。これらの物質は重合体への溶解度が不十分
なだめに重合の初期に上部にflき、空気の接触を防ぐ
透明な表面層を形成する。大気の酸素は自動酸化基、例
えばアリル基を硬化すべき樹脂に導入することによって
も失活させることができる。
/Cは類似のワックス様物質を光硬化性混合物に加える
ことが多い。これらの物質は重合体への溶解度が不十分
なだめに重合の初期に上部にflき、空気の接触を防ぐ
透明な表面層を形成する。大気の酸素は自動酸化基、例
えばアリル基を硬化すべき樹脂に導入することによって
も失活させることができる。
光重合開始剤はまた遊離基開始剤、例えばペルオキシド
、ヒドロペルオキシド、ケトノベルオキンド又itペン
カルボン酸エステル、ト却合せて使用4すると吉もでき
る。
、ヒドロペルオキシド、ケトノベルオキンド又itペン
カルボン酸エステル、ト却合せて使用4すると吉もでき
る。
[1的とする用途に依存して光重合性系(tよシリカ、
タルクまた41石こうのような充填材、顔料、染料、繊
維、チキントロープ剤捷たは流動調節上り助剤をも含む
。
タルクまた41石こうのような充填材、顔料、染料、繊
維、チキントロープ剤捷たは流動調節上り助剤をも含む
。
公知の光開始剤、例えばベンゾインエーテル、ジアルコ
キシアセトフェノン又tまベンジルヶクール、を含む川
合せもまた使用することができ/)。
キシアセトフェノン又tまベンジルヶクール、を含む川
合せもまた使用することができ/)。
本光明による光開始剤とアミンおよび/又は芳香族ケト
ンとの組合せが、特にM層及び印刷用インクの光重合に
使用できる。アミンの例はトリエチルアミン、N−メナ
ルジエタノールアミン、N−ジメチルエタノ−ルアεン
又はp−ジメチルアミノ安息香酸エステルである。ケト
ンの例はベンゾフェノン、1jit“換ベンゾフェノン
誘導体、ミヒラー(Michler)のケトン、アント
ラキノン、およびアントラキノン誘導体、クマリン訪導
体、およびチオキサントンおよびその誘導体である。
ンとの組合せが、特にM層及び印刷用インクの光重合に
使用できる。アミンの例はトリエチルアミン、N−メナ
ルジエタノールアミン、N−ジメチルエタノ−ルアεン
又はp−ジメチルアミノ安息香酸エステルである。ケト
ンの例はベンゾフェノン、1jit“換ベンゾフェノン
誘導体、ミヒラー(Michler)のケトン、アント
ラキノン、およびアントラキノン誘導体、クマリン訪導
体、およびチオキサントンおよびその誘導体である。
印刷用インクの光硬化は非常にMj要である。
何故なら、結合剤の乾燥時間Vまクラフィック製品の生
産速度に対して決定的要素であり、そして1秒の何分の
1かのオーダーの時間でなければならないからでろゐ。
産速度に対して決定的要素であり、そして1秒の何分の
1かのオーダーの時間でなければならないからでろゐ。
本発明による開始剤は印刷板の製造用の光硬化性系にも
非常に適している。可溶性線状ポリアミドと光重合性モ
ノマー(例えばアクリルアミド)および光開始剤との混
合物は例えばこの場合に使用できる。これらの系に屈す
易フィルムおよび8iは印刷原画のィ、ガ(りはポジ)
を通して露光智北、そして未硬化7113分し、1次に
溶媒により溶出される。
非常に適している。可溶性線状ポリアミドと光重合性モ
ノマー(例えばアクリルアミド)および光開始剤との混
合物は例えばこの場合に使用できる。これらの系に屈す
易フィルムおよび8iは印刷原画のィ、ガ(りはポジ)
を通して露光智北、そして未硬化7113分し、1次に
溶媒により溶出される。
U V硬化についての別の1吏用分野は金属塗装、例え
ば酒、カン又はびん密閉用の金属シートのラッカー塗に
おける金属塗装、並ひにプラスチック塗装物のUV硬化
、例えばPVCを左利とした法被Bf物又は壁ネjす覆
物のUV硬化である。
ば酒、カン又はびん密閉用の金属シートのラッカー塗に
おける金属塗装、並ひにプラスチック塗装物のUV硬化
、例えばPVCを左利とした法被Bf物又は壁ネjす覆
物のUV硬化である。
紙塗装物のUV硬化の例は、ラベル、ゲラマンオンレコ
ードスリーブ又Vユ本カバーの無色ラッノノー塗である
。
ードスリーブ又Vユ本カバーの無色ラッノノー塗である
。
式IT表わされる化合物はまた、本発明に従ってポリオ
レフィンの光化学架橋用の開始剤としても使用できる。
レフィンの光化学架橋用の開始剤としても使用できる。
この目的に適したポリオレノインの例tまポリプロピレ
ン、ポリブチレン、ポリイソブチレンおよびコポリマー
、例えばエチし・ン/プロピレンコポリマーであるが、
好まl−いのv、[低密度、中密度又は高密度ポリエチ
レンである。
ン、ポリブチレン、ポリイソブチレンおよびコポリマー
、例えばエチし・ン/プロピレンコポリマーであるが、
好まl−いのv、[低密度、中密度又は高密度ポリエチ
レンである。
上述I7た使用分野においては、光開始剤を光ト」・含
性又(・1架橋性組成物を基準にして0.1ないし20
重重量上好ましくは0.5ないし5重量優の量で使用す
るのが有利である。この明細書で組成物とは、特定の用
途に使用される、光重合性又は架橋性化合物、光開始剤
および他の充填剤および添加剤の混合物を意味する。
性又(・1架橋性組成物を基準にして0.1ないし20
重重量上好ましくは0.5ないし5重量優の量で使用す
るのが有利である。この明細書で組成物とは、特定の用
途に使用される、光重合性又は架橋性化合物、光開始剤
および他の充填剤および添加剤の混合物を意味する。
光重合性組成物への光開始剤の添加は一般に、単に攪拌
することにより行われる。何故なら、これらの組成物の
殆んどは液体であるか或いは易溶性であるからである。
することにより行われる。何故なら、これらの組成物の
殆んどは液体であるか或いは易溶性であるからである。
殆んどの場合、本発明による開始剤の溶液を使用するが
、と71.は該開始剤の均一な分散を確実に[7そして
またポリマーの透明性を確保する。
、と71.は該開始剤の均一な分散を確実に[7そして
またポリマーの透明性を確保する。
光重合は、公知の光重合法に往って、短波長輻射線に富
む光を照射することにより行う。適した光源の例は中圧
、高圧および低圧水銀蒸気灯、および250〜.aoo
nmの範囲に最大発光を有するスーパー化学線螢光管で
ある。
む光を照射することにより行う。適した光源の例は中圧
、高圧および低圧水銀蒸気灯、および250〜.aoo
nmの範囲に最大発光を有するスーパー化学線螢光管で
ある。
本発明による式■で表わされるグロビオフェノンは改良
された反応性および貯蔵安定性を有し、そしてまた増大
された耐黄変性を有する。
された反応性および貯蔵安定性を有し、そしてまた増大
された耐黄変性を有する。
本発明による光開始剤の製造および使用法をにi、Fの
実施例に更に詳しく記載する。これらの実施例において
、部およびパーセントはuTf 量全基準とする。
実施例に更に詳しく記載する。これらの実施例において
、部およびパーセントはuTf 量全基準とする。
実施例1 :6−メトキシ−2−ヒドロ=1シー2次式
: で表イつされる2−ベンゾイル−2−メチルオキシラン
出発材料〔参考文献J、 Am、 Ohem、Soc。
: で表イつされる2−ベンゾイル−2−メチルオキシラン
出発材料〔参考文献J、 Am、 Ohem、Soc。
75巻、2042頁(1953年〕と類似の方法で、α
−クロログロビオフェノンとバラホルムアルデヒドから
KOO(CHs )s / HOO(OHs )sによ
り調製320部(0,12モル)をメタノール5〇−中
に取り、触媒量(約5〜10モルチ)のp−)ルエンス
ルホン酸のような酸を注意深く添加する。次ζこ混合物
を室温で出発材料かも早存在しなくなるまで攪拌する。
−クロログロビオフェノンとバラホルムアルデヒドから
KOO(CHs )s / HOO(OHs )sによ
り調製320部(0,12モル)をメタノール5〇−中
に取り、触媒量(約5〜10モルチ)のp−)ルエンス
ルホン酸のような酸を注意深く添加する。次ζこ混合物
を室温で出発材料かも早存在しなくなるまで攪拌する。
このようにして得た反2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾
燥させ、そして最後に回転蒸発器上で40℃にて濃縮す
る。
燥させ、そして最後に回転蒸発器上で40℃にて濃縮す
る。
イ゛iられた粗製反応生成物をカラムクロマトグラフィ
ー(担体ニジリカゲル;溶離剤:ヘキサン+酢酸エチル
20容量チ)により精製する。これにより次式: で表わされる純粋な無色油状生成物12?°τμが得ら
れる。
ー(担体ニジリカゲル;溶離剤:ヘキサン+酢酸エチル
20容量チ)により精製する。これにより次式: で表わされる純粋な無色油状生成物12?°τμが得ら
れる。
分析データ:
011H1403に対する燃焼分析:
計算値:C係 6 B、 03 H% 7.273)
11定値:Cチ 68.04 Hチ 7.42NMR
スペクト/l/ C0DOL3.δ(ppm)):14
3(S、 3I();322(S、 3II);s、s
sおよび3.84(へI3系、J=9Hz、2H);4
.18(S、IH); 7. 7. − ニア
4 (M、 3)I) ; 7.
8−8.05(八(,2I−T)。
11定値:Cチ 68.04 Hチ 7.42NMR
スペクト/l/ C0DOL3.δ(ppm)):14
3(S、 3I();322(S、 3II);s、s
sおよび3.84(へI3系、J=9Hz、2H);4
.18(S、IH); 7. 7. − ニア
4 (M、 3)I) ; 7.
8−8.05(八(,2I−T)。
Sは一重項、モしてMは多重項である。
式Iの別の化合物を上記実施例と同様にして製造した。
それらを以下の第1表に掲示する5、第1表
■ 対応するアルコールをCH,C1,中のct−81
(CHs )sおよびN (C2H5)I+によりシリ
ル化することにより製造。
(CHs )sおよびN (C2H5)I+によりシリ
ル化することにより製造。
実施例8:4−ベンゾイル−2,2,4−)リメチ2−
ベンゾイルー2−メチルオキシラン(実施例1荏照)1
t5.2g(0,1モル)をアセトン359 (0,6
モル)中に溶かし、次にアセトン359 (0,6モル
)中の三弗化ホウ素−エーテル錯化合物1.42g(0
,01モル)の溶液を滴加し、その間混合物を水浴によ
り冷却する。次に混合物を室温で2時間攪拌し、次に5
時間還流加熱する。反応溶液を冷却し、冷却しながら飽
和水酸化ナトリウムメタノール溶液50ieによりアル
カリ性にし、そして水200 mlで希釈する。
ベンゾイルー2−メチルオキシラン(実施例1荏照)1
t5.2g(0,1モル)をアセトン359 (0,6
モル)中に溶かし、次にアセトン359 (0,6モル
)中の三弗化ホウ素−エーテル錯化合物1.42g(0
,01モル)の溶液を滴加し、その間混合物を水浴によ
り冷却する。次に混合物を室温で2時間攪拌し、次に5
時間還流加熱する。反応溶液を冷却し、冷却しながら飽
和水酸化ナトリウムメタノール溶液50ieによりアル
カリ性にし、そして水200 mlで希釈する。
生成物をエーテルで抽出する。ニーデル溶液を炭酸カリ
ウムで乾燥しそして濃縮する。残留物を減圧下にて95
℃およびo、 s ミ!Jパールにて蒸留する。蒸留物
を中圧クロマトグラフィーによりml製すると、無色の
油状物が得られる。
ウムで乾燥しそして濃縮する。残留物を減圧下にて95
℃およびo、 s ミ!Jパールにて蒸留する。蒸留物
を中圧クロマトグラフィーによりml製すると、無色の
油状物が得られる。
分析データ。
C10tl+a Os iこ対する燃焼分析=t ′
X+>−イ:jt : Oダ6 70.89
H% 7 ろ 6測定値:Cチ 70.76
I−Iチ 761’H−NMRスペクト+(CDOL
、、δ(ppm) ) :8.25−7.95(M、2
H);7.45−7.2(M、3H);4.64および
3.70(AB系、 J = 16i(z。
X+>−イ:jt : Oダ6 70.89
H% 7 ろ 6測定値:Cチ 70.76
I−Iチ 761’H−NMRスペクト+(CDOL
、、δ(ppm) ) :8.25−7.95(M、2
H);7.45−7.2(M、3H);4.64および
3.70(AB系、 J = 16i(z。
2)I);t57(8,3H);1.43(S、 3
H);i、1o(8,3H)。Sは一重項、そしてMは
多重項である。
H);i、1o(8,3H)。Sは一重項、そしてMは
多重項である。
幸
上記実施例8と同様にしてベンズアルデヒドを使用して
4−ベンゾイル−4−メチル−2−フェニル−1,6−
ジオキソランも製造した(007ミリバールーにて沸点
145℃の油状物)。
4−ベンゾイル−4−メチル−2−フェニル−1,6−
ジオキソランも製造した(007ミリバールーにて沸点
145℃の油状物)。
分析データ:
01? HI303に一対する燃焼分析計算値:Cチ
7a1o H% 6.01測定値:Cチ 7&11
I−1チ 6021H−NMRスペクトル(ODOf
fi3.δ(ppm) ) :8.25−7.85(M
、 2芳香族のi();75−49(M、8芳香族のH
) ; 5.95(S、 0.51(、H−0(2))
; 562(S、0.5H,H−0(2));4.8
5および3.69 (1,0H,AB系のシグナル、J
= 8 Hz、 2 H−C(5) ) ; 4.55
および5.85 (1,01−I、A、B系のシグナル
、 J = 8 Hz、 2 T1.−0 (5))
; 1.63 (S、 C!Iムー〇(4) ) ;
t6o(S、 01■3−0(4))。
7a1o H% 6.01測定値:Cチ 7&11
I−1チ 6021H−NMRスペクトル(ODOf
fi3.δ(ppm) ) :8.25−7.85(M
、 2芳香族のi();75−49(M、8芳香族のH
) ; 5.95(S、 0.51(、H−0(2))
; 562(S、0.5H,H−0(2));4.8
5および3.69 (1,0H,AB系のシグナル、J
= 8 Hz、 2 H−C(5) ) ; 4.55
および5.85 (1,01−I、A、B系のシグナル
、 J = 8 Hz、 2 T1.−0 (5))
; 1.63 (S、 C!Iムー〇(4) ) ;
t6o(S、 01■3−0(4))。
4−ベンゾイル−4−メチル−2−フェニル−1,3−
ジオキソランのシス−トランス異性体(44%および5
6チ)の混合物の存在が、’H−NMRスペクトルおよ
びガスクロマトグラフィーから推論さi′1.る〇 使用例: 実施例10: Plex 6616 (商標名、tff−ム社、ダA/
A スタット、製のアクリル樹脂)20部、トリメチ
ロールプロパン−トリスアクリレート5部および3−メ
トキシ−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−ツボニルプ
ロパン−1−オツ05部から成る女脂混合物を、乾燥層
厚40μTの厚さでガラス51反」二にフィルム塗布機
により塗布する。
ジオキソランのシス−トランス異性体(44%および5
6チ)の混合物の存在が、’H−NMRスペクトルおよ
びガスクロマトグラフィーから推論さi′1.る〇 使用例: 実施例10: Plex 6616 (商標名、tff−ム社、ダA/
A スタット、製のアクリル樹脂)20部、トリメチ
ロールプロパン−トリスアクリレート5部および3−メ
トキシ−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−ツボニルプ
ロパン−1−オツ05部から成る女脂混合物を、乾燥層
厚40μTの厚さでガラス51反」二にフィルム塗布機
により塗布する。
このフィルムを約20秒間空気に暴露しそしてUV装置
(PPG−QC−プロセッサー型)を用いて照射する。
(PPG−QC−プロセッサー型)を用いて照射する。
ここでサンプルを、UV灯下をコンベヤベルト上で17
fnZ分の速度で通過させる。フィルムは5回パス後に
耐ふき取り性となる。このようにして硬化したフィルム
の振子型硬度(DIN53,15B)は176秒である
。
fnZ分の速度で通過させる。フィルムは5回パス後に
耐ふき取り性となる。このようにして硬化したフィルム
の振子型硬度(DIN53,15B)は176秒である
。
実施例11:
P1ex6616 (ローム社製のアクリル樹脂)80
部、トリメチロールプロパン−トリスアクリレート20
部および光開始剤2部から成る樹脂混合物を、乾燥層厚
40μmでガラス板上にフィルム塗布機により塗布する
。これらのフィルムを約20秒間空気に暴露し、そして
次に中圧Hg灯(Hanovia −Ger’it 、
45.080型)を用いて照射する。−ここでサンプ
ルを、UV灯下をコンベアベルト上で、1・くス当り有
効露光時間が016秒となるような速度で通過させる。
部、トリメチロールプロパン−トリスアクリレート20
部および光開始剤2部から成る樹脂混合物を、乾燥層厚
40μmでガラス板上にフィルム塗布機により塗布する
。これらのフィルムを約20秒間空気に暴露し、そして
次に中圧Hg灯(Hanovia −Ger’it 、
45.080型)を用いて照射する。−ここでサンプ
ルを、UV灯下をコンベアベルト上で、1・くス当り有
効露光時間が016秒となるような速度で通過させる。
非粘着性フィルム(耐ふき取り性)を得るに要するパス
(P’)の回数を以下の第2表の第24蘭に示す。
(P’)の回数を以下の第2表の第24蘭に示す。
第3欄は、示されたバス回数後、ケーニッヒ(K6ni
g) の振子を装置を用いて測定したフィルムの硬度
を示す。変色(黄変)は、ASTMD1925−70に
規定された黄色インデックスを決定することにより評価
する。
g) の振子を装置を用いて測定したフィルムの硬度
を示す。変色(黄変)は、ASTMD1925−70に
規定された黄色インデックスを決定することにより評価
する。
第2表
実施例12:
Ebecryl 59 !+ (商標名、UCB社、ブ
リュソセル、製のアクリル樹脂)80部、DQM−67
2(ローム アンド ハース社、フィラデルフィア、U
、J A−製のアクリル樹脂)20部、および光開始剤
2部から成る樹脂混合物を、乾燥層厚40μmでガラス
板上にフィルム塗布機により塗布する。こn、ら′のフ
ィルムを約20秒間空気に暴露し、そして次に中圧Hg
灯()ianovia−Ger’it、 45,080
型)をJコイて照射する。これはサンプルを、UV灯下
をコンベアベルト上で、1パス当り有効露光時間が01
6秒となるような速度で通、遇させることにより行われ
る。
リュソセル、製のアクリル樹脂)80部、DQM−67
2(ローム アンド ハース社、フィラデルフィア、U
、J A−製のアクリル樹脂)20部、および光開始剤
2部から成る樹脂混合物を、乾燥層厚40μmでガラス
板上にフィルム塗布機により塗布する。こn、ら′のフ
ィルムを約20秒間空気に暴露し、そして次に中圧Hg
灯()ianovia−Ger’it、 45,080
型)をJコイて照射する。これはサンプルを、UV灯下
をコンベアベルト上で、1パス当り有効露光時間が01
6秒となるような速度で通、遇させることにより行われ
る。
非粘着性フィルム(1はふき取り性)を得るに要するバ
ス(P)の回数を以下の第6表の第24’l”/1に示
す。
ス(P)の回数を以下の第6表の第24’l”/1に示
す。
第5欄は、示されたパス回数後、ケーニッヒの振子型装
置を用いて測定したフィルムの硬度を示す。変色(黄変
)は、ASTMD 1925−70に規定された黄色イ
ンデックスを決定することにより評価する。
置を用いて測定したフィルムの硬度を示す。変色(黄変
)は、ASTMD 1925−70に規定された黄色イ
ンデックスを決定することにより評価する。
第3表
実施例16:
Actylan AJ 20 (商標名、5NPE、パ
リスセデックス、社製のアクリル樹脂)50部、DQM
−672(ローム アンド ハース社、 フィラデルフ
ィア、U、S、A、Hのアクリル樹脂)15部、トリス
メチロールプロパントリアクリレートおよびヘキザンジ
オールジアクリレート(デグッサ、フランクフルト、社
製の多官能性モノマー)それぞれ15部、N−ビニルピ
ロリドン(GAF、 ニー−ヨーク、U、、 S、A
0社製の反応性/ンナー)10部およびブL開始剤2部
を乾燥層厚40μmでガラス板上にフィルム塗布機によ
り塗布する。これらのフィルムを約20秒間空気に暴露
し、そして次に高圧11.1:灯(UV−プロセッザ−
1202AN 1−ql、L’ P Crラジエーショ
ンボリマー社、U、 S、A、 4m )を用いて照射
する。これはサンプルを、U V灯下をコンベアベルト
上で、1バス当り翁効露光時間が1.05秒となるよう
なベルト速度で通過ざぜることにより行われる。
リスセデックス、社製のアクリル樹脂)50部、DQM
−672(ローム アンド ハース社、 フィラデルフ
ィア、U、S、A、Hのアクリル樹脂)15部、トリス
メチロールプロパントリアクリレートおよびヘキザンジ
オールジアクリレート(デグッサ、フランクフルト、社
製の多官能性モノマー)それぞれ15部、N−ビニルピ
ロリドン(GAF、 ニー−ヨーク、U、、 S、A
0社製の反応性/ンナー)10部およびブL開始剤2部
を乾燥層厚40μmでガラス板上にフィルム塗布機によ
り塗布する。これらのフィルムを約20秒間空気に暴露
し、そして次に高圧11.1:灯(UV−プロセッザ−
1202AN 1−ql、L’ P Crラジエーショ
ンボリマー社、U、 S、A、 4m )を用いて照射
する。これはサンプルを、U V灯下をコンベアベルト
上で、1バス当り翁効露光時間が1.05秒となるよう
なベルト速度で通過ざぜることにより行われる。
非粘着性フィルム(面jふき取りI6:)を得るに要す
るパス(P)の回数を以下の第4表の第24174に示
す。
るパス(P)の回数を以下の第4表の第24174に示
す。
第5欄は、示され、たバス回数後、ケーニッヒの振子型
装置を用いて測定したフィルムの硬度を示す。
装置を用いて測定したフィルムの硬度を示す。
変色(黄変)は、ASTM D 1925−70 ニ戊
定さノまた黄色−インデックスを決定することにより評
価する。
定さノまた黄色−インデックスを決定することにより評
価する。
第4表
C07F 7/18 71
18−4H// C08F 2150
7102−4 JCO9D 5100
102 6516−4J11102
6770−4 JD 21
H1/34 7921−4L
@発 明 者 ルドルフ・キルヒマイヤースイス国41
47エツシユ・エツチ ンゲルストラーセ9 0発 明 者 リナルド・ヒユースラースイス国405
4バーゼル・ベルヘ ンストラーセ12 @発 明 者 タルト・ディートリカースイス国170
0フリブール・アヴ 工・ジャン−マリ−・ムシー6
18−4H// C08F 2150
7102−4 JCO9D 5100
102 6516−4J11102
6770−4 JD 21
H1/34 7921−4L
@発 明 者 ルドルフ・キルヒマイヤースイス国41
47エツシユ・エツチ ンゲルストラーセ9 0発 明 者 リナルド・ヒユースラースイス国405
4バーゼル・ベルヘ ンストラーセ12 @発 明 者 タルト・ディートリカースイス国170
0フリブール・アヴ 工・ジャン−マリ−・ムシー6
Claims (9)
- (1) 次式I: OR’ OR2 1 1え3〜Co−C−C−R’ (I
)1 4 R5 〔式中、 R1は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基、 S i (CHs )s基、アリルまたはベンジ
ル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基または−OH基に
より置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基、次
式: %式% (式中、 nは2ないし20であυ、そして R5は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基、 S i (CL )s基、ベンジル基、炭素原子
数3ないし6のアルケニル基、炭素原子数6ないし6の
アルキニル基、2−テトラヒドロビシニル基または2−
テトラヒドロビシニル基を表わす。)で表わされる基を
表わすか、または R1とR2は一緒になって炭素原子数1ないし6のアル
キリデン基または水酸基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基またはフェニル基によって置換された炭素原子
数2ないし6のアルキリデン基、直鎖状捷たは分岐鎖状
の炭素原子数2ないし乙のアルカンジイル基、ベンジリ
デン、シクロペンチリデンまたVよシクロヘキシリデン
基まだは2,2.2−トリクロロエチリーデン、2−フ
リルメチリデンまたはジメチルシリリデン基を表わし、 R3は未置換または−C/、炭素原子数1ないし4のア
ルキル、炭素原子数1ないし4のアルコキシまたは炭素
原子数1f!、いし4のアルギルチオ基1個まだはそれ
より多くにより置換されたフェニル基を表わし、そして
またペンソイルフェニル基、フェノキシフェニル基まだ
はフェニルチオフェニル基を表わし、R4は炭素原子数
1ないし4のアルキル基または未置換または−CI、炭
素原子数1ないし4のアルキルまたは炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基1個またはそれより多くにより置換
されたフェニル基を表わし、そしてR5は水素原子また
は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わすか、T!
たは R4とR5は一緒になってトリメチレンまたはテトラメ
チレン基を表わし、そして R6は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
−CCZ3基棟たけフェニル基を表わし、ただし、 もしR2,R5及びR6が同時に水素原子を表わし、そ
してR3とR4が同時にフェニル基を表わすときはR1
は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表わし7てはならず、更にもしR8とR4が同時にフェ
ニル基を表わし、そしてR″とR6が同時に水素原子を
表わすときはR′とR2は一緒になってアルキリデン基
すたはベンジリデン基を表わしてはならず、そしてまた
、もしR3とR4が同時にp−メトキシフェニル基を表
わし、そしてR2,R5およびR6が同時に水素原子を
表わすときはR1は水素原子を表わしては々らず、そし
て最後に、もしR2とR5が同時に水素原子を表わし、
そしてR3゜R4およびR6が同時にフェニル基を表わ
すときはR1は水素原子を表わして?:J、ならない。 〕で表わされる化合物。 - (2)上記式■において、R′が水素原子を表わし、R
2が水素原子、メチル基または−8i (CHs )s
基を表わずか、またはR’とR2が一緒になってイング
ロピシデン基、ベンジリデン基またはジメチルシリリデ
ン基を表わし、R3がフェニル基を表わし、R4がメチ
ル基またはフェニル基を表わし、R5が水素原子を表わ
すが、またはR4とR5が−・・賭になってテトラメチ
レン基を表わし、そしてRI′lが水素原子またはフェ
ニル基を表わすがただし、R2,lジ及びR6が同時に
水素原子を表わしてはならず、またはR4がフェニル基
を表わしてはならず、そしてもしR4がフェニル基を表
わし、そしてR5とR6が同時に水素原子を表わす時は
、R1吉II2け一緒Pこなってイングロビリデン基ま
たはベンジリデン基を表わし得ないものであり、そして
最後に、■12が水素原子を表わしてはならず、または
R4とR6が同時にフェニル基を表わさないことを特徴
とする特許請求のjUn囲第1項記載の化合物。 - (3)上記式Iで表ゎされる化合物が:6−メトキシー
2−ヒドロキシー2−メチル−1−7エニルーグロパノ
ンー1.1−ベンゾイル−1,2−ジヒ)”ロキシシク
ロヘキtン、1.3−ジフェニル−2−ヒドロキシ−6
−メトキシ−2−メチル−プロパノン−1% 1.2−
ジフェニル−2−ヒドロキン−3−トリメチルシロキシ
ーノ°ロバノン−1,4−ベンゾイル−4−メチル−2
−フェニル−1,6−ジオキンラン、4−ベンゾイル−
2,2,4−)リメチルーi 、s−ジオキンラン及び
2.5−(ジメチにシリレンジオキシ)−1,2−ジフ
ェニループロハノン−1よりなる群より選択される特許
請求の範囲第1項記載の化合物。 - (4) エチレン性不飽和光重合性化合物の少なくと
も一種と光重合開始剤として次式■:OR’ OR2 +1 4 R5 〔式中、 R1は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基、 5i(CHs)s基、アリルまたはベンジル基を
表わし、 R2は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基または一〇H基に
より@″、換された炭素原子数1ないし4のアルキル基
、次式: %式% (式中、 nは2ないし20であり、そして R5は水素原子捷たけ炭素原子数1ないし4のアルキル
基、 S 1 (CH3)3基、ベンジル基、炭素原子
数6ないし6のアルケニル基、炭素原子数6ないし4の
アルキニル基、2−テトラヒドロピラニル基または2−
テトラヒドロフラニル基を表わす。)で表わされる基を
表わすか、まだは R1とR2は一緒になって炭素原子数1ないし乙のアル
キリデン基まだは水酸基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基またはフェニル基によって置換された炭素原子
数2ないし6のアルキリデン基、直鎖状または分岐鎖状
の炭素原子数2々いしるの了ルカンジイル基、ベンジリ
デン、シクロペンチリデンオたけシクロ−・キシリデン
基まだは2,2.2− )リクロロエチリデン、2−7
リルメチリデンまたはジメチルシリリデン基を表わし7
、 R3ケよ未置換または−Cム炭素原子数1ガいし4のア
ルキル、炭素原子数1ないし4のアルコキシまたは炭素
原子数1ないし4のアルキルチオ基1個寸たけそれより
多くにより置換さ、尭だフェニル基を表わし、そしてま
だペンソイルフェニル基、フェノキシフェニル基または
フェニルチオフェニル基を表わし、R4は炭素原子数1
ない1〜4のアルキル基まだは未置換オたは−C1、炭
素原子数1ないし4のアルキル寸たは炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基1個またはそれより多くにより置換
されたフェニル基を表わし、そしてR5は水素原子また
は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わすか、また
は R4とR5は一緒になってトリメチレンまたはテトラメ
チレン基を表わし、そして R6は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
−CC7’!3基まだはフェニル基を表わし、ただし、 もしR2、、R5およびR6が同時に水素原子を表わし
、そしてR3とR’が同時にフェニル基金表わすときは
R1は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わし7てVよならず、更にもしR03とR4が同
時にフェニル基を表わし、そしてII”とR6が同時に
水素原子を表わすときは1也1とR2f/よ一緒になっ
てアルキリデン基捷たはベンジリデン基を表わしてはな
らず、そして寸だ、もt、 R3とR4が同時にp−メ
トキシフェニル基を表わし、そしてR2,R5およびR
6が同時に水素原子を表わすときはR1は水素原子を表
わしてはならず、そし7て最後に、もしR2とR6が同
時に水素原子を表わし、そしてR3゜R4およびR5が
同時にフェニル基を表わすときはR1は水素原子を表わ
j7てU、ならない。〕で表わされる化合物とよりなる
光重合性組成物。 - (5)上記式■においてR2が水素原子または炭素原子
数1ないし4のアルキル基を表わし、R3がフェニル基
を表わし、R4が炭素原子数1ないし4のアルキル基を
表わし、そ[7てR5が水軍原イを表わし、そし7てR
4とR5が一緒になってトリメチレン寸たけテトラメチ
17ン基金表わし、そしてR6が水素原子を表わす化合
物を含んでなる特許請求の範囲第4fa記載の組成物。 - (6)上記式IにおいてR2がメチル基を表わす化合物
を含A、でなる特許請求の範囲第4項記載の組成物。 - (7)上記式■においてR’、R’およびR6が水素原
子を表わし、R2とR4がメチル基を表わし、そしてR
3がフェニル基を表わす化合物を含んでなる特許請求の
範囲第4項記載の組成物。 - (8)上記式■においてR1とR6が水素原子を表わ[
7、R2がメチル基を表わし、R3がフェニル基を表わ
し、そしてR4とR5が一緒に寿ってテトラメチレン基
を表わす化合物を含んでなる特許請求の範囲第4項記載
の組成物。 - (9) エチレン性不飽和光重合性化合物の少なくと
も一種と、組成物の重石1・に基づいて算出して、光開
始剤として式■で表わされる化合物の一種01ないし2
0重1−)係と、必要ならば更に公知寸、また1i慣用
の添加剤とよりなる特許請求の範囲第4項記載の組成物
。 (]0 上記において、エチレン性不飽和光重合性化
合物と(7て一官能性、二官能性または多官能性アクリ
ル酸エステルまたはメタクリル酸エステルまたは上記エ
ステルの混合物を含んでなる!痔許請求の範囲第4項記
載の組成物。 α1) エチレン性不飽和光重合性化合物の少なくとも
一種と次式■: OR’ OR2 1 4R5 〔式中、 R1は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基、−8i (Cl−1i )s基、アリルまたはベン
ジル基を表わし、 R2は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基または一〇H基に
より置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基、次
式: %式% (式中、 nは2ないし20であり、そして R5は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基、 S 1 (CHs s基、ベンジグー基、炭素原
子数6ないし6のアルケニル基、炭素原子数5ないし4
のアルキニル基、2〜テトラヒドロピラニル基捷たは2
−テトラヒドロフラニル基を表わす。)で表わされる基
を表わすか、または R1とR2は一緒になって炭素原子数1ないし6のアル
キリデン基または水酸基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基またはフェニル基によって置換された炭素原子
数2ないしるのアルキリデン基、直鎖状まだは分岐鎖状
の炭素原子数2にいし6のアルカンジイル基、ベンジリ
デン、シクロペンチリデンまたはシクロヘキシリデン基
または2,2.2−トリクロロエチリデ/、2−フリル
メチリデン寸たはジメチルシリリデン基を表わし、 R3は装置・換捷たは−C1,炭素原子数1Aいし4の
アルキル、炭素原子数1ないし4のアルコキシまたは炭
素原子数1ないし40アルキルチオ基1個またはそれよ
り多くにより置換さね、だフェニル基を表わし、そして
まメヒベンソイルフェニル基、フェノキシフェニル基ま
たはフェニルチオフェニル基を表わし、R4は炭素原子
数1ないし4のアルキル基または未置換捷たは−C6,
炭素原子数1ないし4のアルキル寸たは炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基1個またはそれより多くにヨ5置
換されたフェニル基を表わし、そしてR5は水素原子ま
たは炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わすか、ま
たは R4とR5は一緒になってトリメチシンオたけテトラメ
チレン基を表わし、そして R11は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルギル基
、−ccis基またはフェニル基ヲ表わし、ただj7、 もしR2,R5およびR6が同時に水素原子を表わし、
そしてIt’とR4が同時にフェニル基を表わすときは
R1は水素原子捷たは炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わしてはならず、更にもt、 R3とR4が同時
((フェニル基を表わし、そしてR5とR6が同時に水
素原子を表わすときはR1とR2は一緒になってアルキ
リデン基またはベンジリデン基を表わしてはならず、そ
してまだ、もしR3とR4が同時にp−メトキシフェニ
ル基を表わし、そしてR2,R,5およびR6が同時に
水素原子を表わすときはR1は水素原子を表わしてはな
らず、そして最後に、もしR2とR6が同時に水素原子
を表わし、そしてR3゜R4およびRsが同時にフェニ
ル基を表わすときはR1は水素原子を表わしてeまなら
ない。〕で表わされる化合物とよりなる光重合性組成物
を含んでなる印刷インク。 02I エチレン性不飽和光重合性化合物の少なくと
も一種と次式ド R’−CO−C−C−R’ (II
R’ R’ 〔式中、 R’H水素原子または炭;ゼ原子数1ないシフ4のアル
キル基、 S i (CH3)g基、アリルまたはベン
ジル基を表わし7、 R2は水素原子、炭素原子数1々いし8のアルキル基、
炭素原子数1ない1〜4のアルコキシ基または一〇I−
1基により置換された炭素原子数1ないし、4のアルキ
ル基、次式: %式% (式中、 nは2ないし20であり、そして R5は水素原子寸たは炭素原子数1ないシフ4のアルキ
ル基、−3i (CH,)3基、ベンジル基、炭素原子
数6々いし6のアルケニル基、炭素原子数6ないし4の
アルキニル基、2−テトラヒドロピラニル基せたば2−
テトラヒドロフラニル基を表わす。)で表わされる基を
表わすか、寸たけ R’とR2け一緒になって炭素原子a1ないし乙のアル
キリデン基または水酸基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基またはフェニル基によって置換された炭素原子
数2ガいし乙のアルキリデン基、直鎖状または分岐鎖状
の炭素原子数2ないしるのアルカンジイル基、ベンジリ
デン、シクロペンチリデンまだはシクロへキシリデン基
捷たは2,2.2− トリクロロエチリデン、2−フリ
ルメチリデンまだはジメチルシリリデノ基を表わし、 R3は未置換または−C1、炭素原子数1ないし4のア
ルキル、炭素原子数1ないし4のアルコキシ壕だは炭素
原子数1ないし4のアルキルチオ基1個またはそれより
多くにより置換されたフェニル基を表わし、そしてまた
ベンゾイルフェニル基、フェノキシフェニル基またはフ
ェニルチオフェニル基を表わし、R4は炭素原子数1な
いし4のアルキル基捷たは未置換まだは−C1、炭素原
子数1ないし4のアルキルまたは炭素原子数1ないし4
のアルコキシ基1個まだはそれより多くにより置換され
たフェニル基を表わし7、そし−てR5は水素原子また
は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わすか、また
は R4とR5は一緒になってトリメチレンまたはテトラメ
チレン基を表わし、そして Roは水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、
−CCZ3基甘たはフェニル基を表わし、たたし、 もしR2、R5およびR6が同時に水素原子を表わし、
そしてR3とR4が同時にフェニル基を表わすときは■
工1は水素原子捷たは炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わ[〜てはならず、更にもしR3とR4が同時に
フェニル基を表わし、そしてR5とR6が同時に水素原
子を表わすときはR1とR2は一緒になってアルキリデ
ン基またはベンジリデン基を表わしてはならず、そして
また、もしR3とR4が同時にp−メトキシフェニル基
を表わし、そしてg2. R5およびR’が同時に水素
原子を表わすときはR1は水素原子を表わしてCまなら
ず、そして最後に、もしR2とRoが同時に水素原子を
表わし、そしてR3゜R4およびR5が同時にフェニル
基を表わすときはR1は水素原子を表わしてはならない
。〕で表わされる化合物とよりなる光重合性組成物を含
んでなる金属、プラスチック及び紙用塗料。
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