JPH01256544A - 物品の製造方法および製品 - Google Patents
物品の製造方法および製品Info
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- JPH01256544A JPH01256544A JP1028830A JP2883089A JPH01256544A JP H01256544 A JPH01256544 A JP H01256544A JP 1028830 A JP1028830 A JP 1028830A JP 2883089 A JP2883089 A JP 2883089A JP H01256544 A JPH01256544 A JP H01256544A
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Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は有機ポリマーに間する。更に詳細には、本発明
はシリコン含有有機ポリマーに間する。
はシリコン含有有機ポリマーに間する。
[従来の技術]
シロキサンポリマーは様々な用途に使用されている。例
えば、ティー・ナルセらがエレクトロニクス レタース
、13,153 (1977)に掲載した「シリコン緩
衝層を有するナイロン外被光ファイバ」というタイトル
の論文中に開示したように、シロキサンポリマーは光フ
アイバ用塗料とし・で使用されている。シロキサンポリ
マー塗料は弾性率(例えば、0.2〜2 M P a
)およびガラス転移温度(−50℃未満)が低く、しか
も、適当な粘度の液体状態で急速な熱硬化を受けるので
好ましい材料であるとされている。
えば、ティー・ナルセらがエレクトロニクス レタース
、13,153 (1977)に掲載した「シリコン緩
衝層を有するナイロン外被光ファイバ」というタイトル
の論文中に開示したように、シロキサンポリマーは光フ
アイバ用塗料とし・で使用されている。シロキサンポリ
マー塗料は弾性率(例えば、0.2〜2 M P a
)およびガラス転移温度(−50℃未満)が低く、しか
も、適当な粘度の液体状態で急速な熱硬化を受けるので
好ましい材料であるとされている。
シロキサン化合物によりもたらされる比較的に低い弾性
率により、シロキサンは様々な用途で使用することがで
きる。このような用途の一例として、対話式プログラミ
ングに開用されるようなタッチスクリーンタイプのブラ
ウン管(CRT)アセンブリーを挙げろことができろ。
率により、シロキサンは様々な用途で使用することがで
きる。このような用途の一例として、対話式プログラミ
ングに開用されるようなタッチスクリーンタイプのブラ
ウン管(CRT)アセンブリーを挙げろことができろ。
使用する場合、メニューがCRT画面上に表示され、そ
して、オペレータは画面上の適当な点に指を触れろこと
によりメニューから選択する。シロキサン体は変形可能
な対話用の部材として使用される。CRTからこの部材
に入る光はこの部材の平面内の変形箇所(例えば、指が
触れた箇所)で反射され、そして、この反射光は、変形
可能な領域の周囲に配置されたセンサにより検出される
。このようにして、対話内容が読み込まれる。
して、オペレータは画面上の適当な点に指を触れろこと
によりメニューから選択する。シロキサン体は変形可能
な対話用の部材として使用される。CRTからこの部材
に入る光はこの部材の平面内の変形箇所(例えば、指が
触れた箇所)で反射され、そして、この反射光は、変形
可能な領域の周囲に配置されたセンサにより検出される
。このようにして、対話内容が読み込まれる。
[発明が解決しようとする課題]
適当なシロキサンポリマーは不都合なく使用されている
が、老化するにつれて可撓性が低下するようになる。明
らかに、タッチスクリーンCRTのような用途では、こ
の可撓性の低下は全くゆゆしき問題である。更に、シロ
キサンポリマーは水素を放出する。この放出された水素
は光ファイバの性能に悪影響を及ぼす。(1984年1
0月のプラウエア−Hりレイモントにおけるエフ・ナカ
ネらのCE I DP議事録および1984年6月のロ
ンドンにおけるニス・アール・バーンズらによるIEE
会議を参照されたい、) [r1題を解決するための手段] タッチスクリーンおよび光ファイバーなどの用途に適し
た重要な種類のシロキサンが老化すると可撓性が失われ
るばかりか、水素も発生することが発見された。このよ
うな水素の発生や架橋といった望ましからざる作用は、
この種のシロキサンポリマー最終製品(反応性水素含有
ポリマー)を過剰量のエチレンのような低級アルケン化
合物で処理することにより除去される。アルケンは付加
反応により5t−H結合と反応し、Si−アルキル結合
を生成する。このアルキル部分は比較的安定であり、そ
して、水素の発生や事後的な架橋を起こさない。従って
、水素発生および事後的架橋の両方とも抑制される。
が、老化するにつれて可撓性が低下するようになる。明
らかに、タッチスクリーンCRTのような用途では、こ
の可撓性の低下は全くゆゆしき問題である。更に、シロ
キサンポリマーは水素を放出する。この放出された水素
は光ファイバの性能に悪影響を及ぼす。(1984年1
0月のプラウエア−Hりレイモントにおけるエフ・ナカ
ネらのCE I DP議事録および1984年6月のロ
ンドンにおけるニス・アール・バーンズらによるIEE
会議を参照されたい、) [r1題を解決するための手段] タッチスクリーンおよび光ファイバーなどの用途に適し
た重要な種類のシロキサンが老化すると可撓性が失われ
るばかりか、水素も発生することが発見された。このよ
うな水素の発生や架橋といった望ましからざる作用は、
この種のシロキサンポリマー最終製品(反応性水素含有
ポリマー)を過剰量のエチレンのような低級アルケン化
合物で処理することにより除去される。アルケンは付加
反応により5t−H結合と反応し、Si−アルキル結合
を生成する。このアルキル部分は比較的安定であり、そ
して、水素の発生や事後的な架橋を起こさない。従って
、水素発生および事後的架橋の両方とも抑制される。
首尾よく処理される代表的なシロキサンは、次式で示さ
れるようなビニル樹脂の関連する反応により生成される
化合物である。
れるようなビニル樹脂の関連する反応により生成される
化合物である。
(式中、R1* R2+ R3* R4+ R5および
R6は低級アルキル、置換低級アルキル、シクロアルキ
ル(例えば、シクロヘキシルおよびシクロペンチル)、
フェニル、置換フェニル、フェニルアルキルまたは置換
フェニルアルキルのような様々な基から選択され、また
、置換基R3+ R4*R5またはR,から選択される
、1分子当たり少なくとも2個の基はビニル基でなけれ
ばならない。
R6は低級アルキル、置換低級アルキル、シクロアルキ
ル(例えば、シクロヘキシルおよびシクロペンチル)、
フェニル、置換フェニル、フェニルアルキルまたは置換
フェニルアルキルのような様々な基から選択され、また
、置換基R3+ R4*R5またはR,から選択される
、1分子当たり少なくとも2個の基はビニル基でなけれ
ばならない。
)環状シロキサンも有用であり、これは、R5およびR
6が使用されず、かつ、末端の酸素が末端のシリコンに
結合している前記式(1)により示される。(前記式(
1)におけろ括弧は基の相対部分を示すものであり、ブ
ロックコポリマー、ランダムコポリマーまたはこれらの
ポリマーの組み合わせなどのポリマーを排除するもので
はない。)ビニル樹脂を過剰量のヒドリドシロキサンと
反応させろ。ヒドリドシロキサンは一般的に、下記の式
(2)または式(3)の何れかにより示されるような化
合物である。
6が使用されず、かつ、末端の酸素が末端のシリコンに
結合している前記式(1)により示される。(前記式(
1)におけろ括弧は基の相対部分を示すものであり、ブ
ロックコポリマー、ランダムコポリマーまたはこれらの
ポリマーの組み合わせなどのポリマーを排除するもので
はない。)ビニル樹脂を過剰量のヒドリドシロキサンと
反応させろ。ヒドリドシロキサンは一般的に、下記の式
(2)または式(3)の何れかにより示されるような化
合物である。
(式中、R1+ R2* R5およびR8は前記に定義
したような基であるが、ビニル基ではなく、R7は水素
またはジアルキルヒドロシルオキシであり、R8は低級
アルキル、置換低級アルキルまたはジアルキルヒドロシ
ルオキシである。):または、 IG へ−Si −Ro (3) (式中、R?+ RI OおよびR1l は水素または
ジアルキルヒドロシルオキシから選択され、R1l は
水素、ジアルキルヒドロシルオキシ、置換ジアルキルヒ
ドロシルオキシ、低級アルキルまたは置換低級アルキル
から選択され、1分子当だり少なくとも2個、好ましく
は3個以上の5i−H基が存在し、かつ、唯1個の水素
が何れか一つのSi原子に結合されている。)(式(1
)の化金物について説明したように、式(2)の化合物
の場合も環状構造を含むものとして理解されなければな
らない、)この反応は一般的に、塩化白金酸のような触
媒の存在下で行われ、ビニル樹脂のビニル基とヒドリド
シロキサンの反応性水素との間で結合が形成され、ビニ
ル樹脂とヒドリドシロキサン化合物の化学結合による化
合物が生成される。(1965年にチェコスロバキアの
プラムでおよび1966年にバターワース(ロンドン)
で開催されたシリコン化学に関するIUPACシンポジ
ウムの議事録141〜158頁に記載されたこの反応に
関するアール・エヌ・ミールの説明を参照されたい。) 効率的な反応を促進するために、反応化合物のうちの一
方を過剰量使用する。−船釣に、ビニル樹脂を過剰量使
用するよりもむしろヒドリドシロキサンを過剰量使用す
ると、老化による望ましからざる架橋および同時に発生
する弾性率の増大が避けられる。この初期の過剰量によ
り、生成されたシロキサン化合物は未反応の反応性水素
を含有する。使用または貯蔵中に長い時間が経過すると
、残った反応性水素が反応し、架橋および水素放出を起
こし重大な結果を招く、架橋により弾性率の望ましから
ざる増大がもたらされる。光フアイバー用塗料のような
用途では、水素は様々な作用機作;こより光ファイバー
の性能を劣(ヒさせ、これにより、光フフイハーの操作
耐用年数が限定される。
したような基であるが、ビニル基ではなく、R7は水素
またはジアルキルヒドロシルオキシであり、R8は低級
アルキル、置換低級アルキルまたはジアルキルヒドロシ
ルオキシである。):または、 IG へ−Si −Ro (3) (式中、R?+ RI OおよびR1l は水素または
ジアルキルヒドロシルオキシから選択され、R1l は
水素、ジアルキルヒドロシルオキシ、置換ジアルキルヒ
ドロシルオキシ、低級アルキルまたは置換低級アルキル
から選択され、1分子当だり少なくとも2個、好ましく
は3個以上の5i−H基が存在し、かつ、唯1個の水素
が何れか一つのSi原子に結合されている。)(式(1
)の化金物について説明したように、式(2)の化合物
の場合も環状構造を含むものとして理解されなければな
らない、)この反応は一般的に、塩化白金酸のような触
媒の存在下で行われ、ビニル樹脂のビニル基とヒドリド
シロキサンの反応性水素との間で結合が形成され、ビニ
ル樹脂とヒドリドシロキサン化合物の化学結合による化
合物が生成される。(1965年にチェコスロバキアの
プラムでおよび1966年にバターワース(ロンドン)
で開催されたシリコン化学に関するIUPACシンポジ
ウムの議事録141〜158頁に記載されたこの反応に
関するアール・エヌ・ミールの説明を参照されたい。) 効率的な反応を促進するために、反応化合物のうちの一
方を過剰量使用する。−船釣に、ビニル樹脂を過剰量使
用するよりもむしろヒドリドシロキサンを過剰量使用す
ると、老化による望ましからざる架橋および同時に発生
する弾性率の増大が避けられる。この初期の過剰量によ
り、生成されたシロキサン化合物は未反応の反応性水素
を含有する。使用または貯蔵中に長い時間が経過すると
、残った反応性水素が反応し、架橋および水素放出を起
こし重大な結果を招く、架橋により弾性率の望ましから
ざる増大がもたらされる。光フアイバー用塗料のような
用途では、水素は様々な作用機作;こより光ファイバー
の性能を劣(ヒさせ、これにより、光フフイハーの操作
耐用年数が限定される。
[作用]
前記のように、本発明によれば、相当1の水素の放出お
よび反応性水素を有するシロキサン中の望ましからざる
架橋による弾性率の増大の双方が抑制される。未反応の
反応性水素を有するシロサンは例えば、式(1)の化合
物と式(2)および/または(3)の化合物(この場合
、第2の反応体、すなわち、式(2)および/または(
3)の化合物が過剰量存在する)を反応させることによ
り生成されるような化合物類である。−船釣に、第2の
反応体を過剰看使用すると、過度に促進された老化を起
こすことなく適正な反応速度が得られろ。この過剰量の
反応体により、老化につれて水素放出と過剰な架橋の双
方、を起こす残留反応性水素を有するポリマーが生成さ
れる。
よび反応性水素を有するシロキサン中の望ましからざる
架橋による弾性率の増大の双方が抑制される。未反応の
反応性水素を有するシロサンは例えば、式(1)の化合
物と式(2)および/または(3)の化合物(この場合
、第2の反応体、すなわち、式(2)および/または(
3)の化合物が過剰量存在する)を反応させることによ
り生成されるような化合物類である。−船釣に、第2の
反応体を過剰看使用すると、過度に促進された老化を起
こすことなく適正な反応速度が得られろ。この過剰量の
反応体により、老化につれて水素放出と過剰な架橋の双
方、を起こす残留反応性水素を有するポリマーが生成さ
れる。
シロキサン中の反応性水素は、シロキサンをアルケン(
例えはエチレンのような低級アルケン)と反応させるこ
とにより迅速に、がっ、はぼ完全に除去される、ポリマ
ーの膨潤を避けなければならない場合、このアルケンは
気体状態で使用することが好ましい。この反応により、
5i−1(部分の水素がアルキルで置換されたシロキサ
ン化合物が生成される。このようにして、水素放出と過
剰架橋をもたらす反応性5i−H基が除去される。
例えはエチレンのような低級アルケン)と反応させるこ
とにより迅速に、がっ、はぼ完全に除去される、ポリマ
ーの膨潤を避けなければならない場合、このアルケンは
気体状態で使用することが好ましい。この反応により、
5i−1(部分の水素がアルキルで置換されたシロキサ
ン化合物が生成される。このようにして、水素放出と過
剰架橋をもたらす反応性5i−H基が除去される。
低級アルケン(例えば、炭素原子数が6回未溝のアルケ
ン)のようなアルケンとの反応は、硬化ポリマー(例え
ば、硬化被覆ファイバーまたはタッチスクリーンCRT
アセンブリー中で使用すべき硬化材料をアルケン含有雰
囲気中に導入することにより簡単に行わせることが出来
る。また、安全のために、アルケン含有雰囲気中には酸
素あるいはその池のオキシダントが殆どまたは全く含有
されないことが好ましい、この反応はシロキサンの内部
に存在する残留触媒により促進される。しかし、この触
媒が存在しなくても、高温(例えば、約150℃以下の
温度)によっても所望の反応が促進される。例えば、前
記のような硬化シロキサンを有する被覆光ファイバーま
たはタッチスクリーンアセンブリーをエチレン含有雰囲
気中に導入する。エチレンはシロキサン中に迅速に拡散
し、殆ど全ての反応性5i−)1部分と反応する。未反
応のエチレンは生成物外に簡単ζこ拡散する。このよう
にして、反応性5i−H部分は除去される。
ン)のようなアルケンとの反応は、硬化ポリマー(例え
ば、硬化被覆ファイバーまたはタッチスクリーンCRT
アセンブリー中で使用すべき硬化材料をアルケン含有雰
囲気中に導入することにより簡単に行わせることが出来
る。また、安全のために、アルケン含有雰囲気中には酸
素あるいはその池のオキシダントが殆どまたは全く含有
されないことが好ましい、この反応はシロキサンの内部
に存在する残留触媒により促進される。しかし、この触
媒が存在しなくても、高温(例えば、約150℃以下の
温度)によっても所望の反応が促進される。例えば、前
記のような硬化シロキサンを有する被覆光ファイバーま
たはタッチスクリーンアセンブリーをエチレン含有雰囲
気中に導入する。エチレンはシロキサン中に迅速に拡散
し、殆ど全ての反応性5i−)1部分と反応する。未反
応のエチレンは生成物外に簡単ζこ拡散する。このよう
にして、反応性5i−H部分は除去される。
ヘテロ原子アルケンのような様々な種類のアルケン類も
5i−H基と所望の反応を起こすので、本発明で使用可
能である。しかし、重合や脱ハロゲン化水素のような継
続的な別の化学反応を受けるようなアルケン類の使用は
一般的に望ましくない。
5i−H基と所望の反応を起こすので、本発明で使用可
能である。しかし、重合や脱ハロゲン化水素のような継
続的な別の化学反応を受けるようなアルケン類の使用は
一般的に望ましくない。
−船釣に、アルケンの分圧が約1気圧の雰rM気を使用
することが好ましい。これよりも低い分圧あるいは、こ
れよりも高い分圧は使用できないわけではないが、必要
な製造時間の増加と装置の資本費用の増大をそれぞれも
たらす。室温における一般的な処理時間は、12mm以
下の厚さの場合、15分間〜48時間の範囲内である。
することが好ましい。これよりも低い分圧あるいは、こ
れよりも高い分圧は使用できないわけではないが、必要
な製造時間の増加と装置の資本費用の増大をそれぞれも
たらす。室温における一般的な処理時間は、12mm以
下の厚さの場合、15分間〜48時間の範囲内である。
(これ以上の厚さではこの範囲内で一層長い処理時間が
必要となる。)光ファイバーを処理する場合、処理は最
終のスプーリング前に行うことが好ましい。ファイバー
被覆の厚さが0.2amの場合、少なくとも30秒間の
処理時間が必要であるが、これよりも薄ければもっと短
い処理時間で十分である。タッチスクリーンアセンブリ
ー上のシロキサン屡の上にウレタン被覆のような別の被
覆が存在する場合、このような別の被覆が存在しない場
合に必要とされる処理時間よりも長い処理時間が必要で
ある。室温における処理が好都合であるが、高温(例え
ば、150℃以下)における処理も実施することができ
ろ。
必要となる。)光ファイバーを処理する場合、処理は最
終のスプーリング前に行うことが好ましい。ファイバー
被覆の厚さが0.2amの場合、少なくとも30秒間の
処理時間が必要であるが、これよりも薄ければもっと短
い処理時間で十分である。タッチスクリーンアセンブリ
ー上のシロキサン屡の上にウレタン被覆のような別の被
覆が存在する場合、このような別の被覆が存在しない場
合に必要とされる処理時間よりも長い処理時間が必要で
ある。室温における処理が好都合であるが、高温(例え
ば、150℃以下)における処理も実施することができ
ろ。
[実施例コ
下記の実施例は本発明で有用な条件と得られた結果を例
証するものである。
証するものである。
実施例1
製品コードがXCF3−9610という二成分系反応混
合物をダウコーニング社から購入した。
合物をダウコーニング社から購入した。
この二成分系混合物はビニルシロキサン樹脂である第1
の成分と、ジメチルシロキサンおよびヒドロメチルシロ
キサンのコポリマーとビニルシロキサン樹脂の混合物で
ある第2の成分を含有してぃた。第1の成分は材料1グ
ラム当たり約0.13ミリモルのビニル基を含有してい
た。第2の成分;よ混合物1グラム当たりビニルシロキ
サン上に0111ミリモルの反応性ビニル基と、混合物
1グラム当たりコポリマー上に0.51ミリモルの反応
性水素を含有していた。
の成分と、ジメチルシロキサンおよびヒドロメチルシロ
キサンのコポリマーとビニルシロキサン樹脂の混合物で
ある第2の成分を含有してぃた。第1の成分は材料1グ
ラム当たり約0.13ミリモルのビニル基を含有してい
た。第2の成分;よ混合物1グラム当たりビニルシロキ
サン上に0111ミリモルの反応性ビニル基と、混合物
1グラム当たりコポリマー上に0.51ミリモルの反応
性水素を含有していた。
第1の成分5gをビーカー中で第2の成分5gと混合し
た。この反応混合物を約24時間静置した。その後、ゼ
ラチン状の生成物が得られた。この生成物の一部をl
HNMR分析にかけた。その結果、生成物1グラム当
たり0.11ミリモルの残留反応性水素が検出された。
た。この反応混合物を約24時間静置した。その後、ゼ
ラチン状の生成物が得られた。この生成物の一部をl
HNMR分析にかけた。その結果、生成物1グラム当
たり0.11ミリモルの残留反応性水素が検出された。
ポリマーラボラトリーズ社により製造されたダイナミッ
ク メカニカル サーマル アナライザーを使用し、1
47℃で剪断弾性率を測定した。とびとびに測定を繰り
返し、この老化促進方法の効果を確認した。測定結果を
第1図に示す。
ク メカニカル サーマル アナライザーを使用し、1
47℃で剪断弾性率を測定した。とびとびに測定を繰り
返し、この老化促進方法の効果を確認した。測定結果を
第1図に示す。
実施例2
得られたゼラチン状生成物の一部をエチレンで処理した
こと以外は実施例1の方法の通りに実施した。この処理
は生成物を密閉可能なガラス容器内に置き、そしてエチ
レンを容器内に約1時間送入することにより行った。そ
の後、エチレン送入を止め、サンプルをエチしンの充満
された容器内に約16時間静置した。実施例1で作製さ
れた生成物に対応する弾性率測定の結果を第1図に示す
。
こと以外は実施例1の方法の通りに実施した。この処理
は生成物を密閉可能なガラス容器内に置き、そしてエチ
レンを容器内に約1時間送入することにより行った。そ
の後、エチレン送入を止め、サンプルをエチしンの充満
された容器内に約16時間静置した。実施例1で作製さ
れた生成物に対応する弾性率測定の結果を第1図に示す
。
l HNMRスペクトルは、重クロロホルム中の0゜
1%エチルベンゼンについて分析器製造者が公表した分
析器の検出感度内で、エチレン処理生成物中にはビニル
基または5i−H基は殆と存在していないことを示して
いた。
1%エチルベンゼンについて分析器製造者が公表した分
析器の検出感度内で、エチレン処理生成物中にはビニル
基または5i−H基は殆と存在していないことを示して
いた。
実施例3
シールされたポリウレタンメンブランの間に実施例1に
記載された樹脂を閉じ込めることによりタッチスクリー
ンアセンブリーを製造した。このアセンブリーを密閉可
能なガラス容器内に置き、実施例2に述べたようにして
エチレンで処理した。
記載された樹脂を閉じ込めることによりタッチスクリー
ンアセンブリーを製造した。このアセンブリーを密閉可
能なガラス容器内に置き、実施例2に述べたようにして
エチレンで処理した。
処理タッチスクリーンアセンブリーの厚さ(シロキサン
約175ミルおよびポリウレタン合計20ミル)を通し
てIRスペクトルを測定した。結果を第2図に示す。エ
チレンで処理しないタッチスクリーンアセンブリーにつ
いても測定した。この結果も第2図に示す。
約175ミルおよびポリウレタン合計20ミル)を通し
てIRスペクトルを測定した。結果を第2図に示す。エ
チレンで処理しないタッチスクリーンアセンブリーにつ
いても測定した。この結果も第2図に示す。
実施例4
実施例1の樹脂成分類を実施例1に述べたように混合し
た。約1.5インチ平方で厚さが23ミルのシリコンウ
ェハ上に未硬化材料を一滴たらした。このウェハを15
0℃に加熱されたオーブン中に配置した。3分間経過後
、サンプルをオーブンから取り出した。このサンプル(
全体厚さ56ミル)をフーリエ変換赤外スペクトル分析
計により分析した。結果を第3図に示す。その後、この
サンプルを密閉可能なガラス容器中でエチレンガスで1
6分間処理した。IRスペクトルを再びとった。結果を
第3図に示す。その後、エチレン処理を繰り返した。合
計30分間の処理の結果を第3図に示す。
た。約1.5インチ平方で厚さが23ミルのシリコンウ
ェハ上に未硬化材料を一滴たらした。このウェハを15
0℃に加熱されたオーブン中に配置した。3分間経過後
、サンプルをオーブンから取り出した。このサンプル(
全体厚さ56ミル)をフーリエ変換赤外スペクトル分析
計により分析した。結果を第3図に示す。その後、この
サンプルを密閉可能なガラス容器中でエチレンガスで1
6分間処理した。IRスペクトルを再びとった。結果を
第3図に示す。その後、エチレン処理を繰り返した。合
計30分間の処理の結果を第3図に示す。
実施例5
ウェハをオーブンから取出たら直ちにエチレンガス流で
3分間処理したこと以外は実施例4に述べた方法と同じ
方法を実施した。赤外スペクトルは、このサンプルの反
応性水素のうち約56%が除去されたことを示していた
。エチレン処理前:こ室温:こまて放冷された対応サン
プルの反応性水素の除去率は約40%であった。
3分間処理したこと以外は実施例4に述べた方法と同じ
方法を実施した。赤外スペクトルは、このサンプルの反
応性水素のうち約56%が除去されたことを示していた
。エチレン処理前:こ室温:こまて放冷された対応サン
プルの反応性水素の除去率は約40%であった。
実施例6
実施例1で述べたように混合した後、樹脂約0゜5gを
、一方の端部が閉止された石英チューブ(内径約5閤)
に直接配置した。この樹脂を3日間かけて硬化させた。
、一方の端部が閉止された石英チューブ(内径約5閤)
に直接配置した。この樹脂を3日間かけて硬化させた。
このチューブをUTi精密ガス分析計(モデル100C
)に接続した。200℃に予熱された炉中にチューブを
移送することによりゲルを加熱し、発生したガスをその
後10分間かけて補集し、質量分析計により水素を分析
した。結果を第4図に示す。
)に接続した。200℃に予熱された炉中にチューブを
移送することによりゲルを加熱し、発生したガスをその
後10分間かけて補集し、質量分析計により水素を分析
した。結果を第4図に示す。
エチレンが充満された密閉可能なガラス容器内にチュー
ブを配置することによりサンプルをエチレンで48時間
処理したこと以外は同し方法を実斃した。結果を同様に
第4図に示す。
ブを配置することによりサンプルをエチレンで48時間
処理したこと以外は同し方法を実斃した。結果を同様に
第4図に示す。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、相当量の水素の
放出および反応性水素を有するシロキサン中の望ましか
らざる架橋による弾性率の増大の双方が抑制される。
放出および反応性水素を有するシロキサン中の望ましか
らざる架橋による弾性率の増大の双方が抑制される。
その結果、シロキサンをタッチスクリーンCRTアセン
ブリーや光ファイバーなどの用途において有効に使用す
ることができるようになる。
ブリーや光ファイバーなどの用途において有効に使用す
ることができるようになる。
尚、特許請求の範囲中、n、 mは任意の整数で、x、
yl;!0≦X、Y≦1の範囲の数である。
yl;!0≦X、Y≦1の範囲の数である。
第1図〜第4図は本発明により達成可能な特性を示す図
である。 出願人:アメリカン テレフォン アンドテレグラフ
カムパニ− FIG、I E1%ri51(hr) FIG、 2 01喝□ 2199 2142 2085 202111
1971 +914 111157 18(X
)浪 扶(cm’) FIG、 3 S;−H伸爪↓V枦 ジ皮 扶(−−’)
である。 出願人:アメリカン テレフォン アンドテレグラフ
カムパニ− FIG、I E1%ri51(hr) FIG、 2 01喝□ 2199 2142 2085 202111
1971 +914 111157 18(X
)浪 扶(cm’) FIG、 3 S;−H伸爪↓V枦 ジ皮 扶(−−’)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)未反応の反応性水素原子を有するシロキサンから
なる材料で物品を形成する工程と、前記シロキサンをア
ルケン含有材料に暴露する工程からなることを特徴とす
る、シロキサンからなる材料を含む物品の製造方法。 (2)前記アルケンは低級アルケンであることを特徴と
する請求項1記載の製造方法。 (3)前記アルケンはエチレンであることを特徴とする
請求項2記載の製造方法。 (4)前記物品は光ファイバーであることを特徴とする
請求項3記載の製造方法。 (5)前記物品はブラウン管アセンブリーであることを
特徴とする請求項3記載の製造方法。 (6)前記シロキサンはヒドリドシロキサンとビニル樹
脂との反応生成物であることを特徴とする請求項1記載
の製造方法。 (7)前記ビニル樹脂は次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5およ
びR_6は低級アルキル、置換低級アルキル、シクロア
ルキル、フェニル、置換フェニルアルキルおよびフェニ
ルアルキルからなる群から選択されるが、置換基R_3
、R_4、R_5およびR_6のうち1分子当たり少な
くとも2個はビニルでなければならない)で示される物
質からなることを特徴とする請求項6記載の製造方法。 (8)前記ヒドリドシロキサンは、 (A) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2、R_5およびR_6はビニル
以外の基から選択され、R_7は水素またはジアルキル
ヒドロシルオキシであり、R_8は低級アルキル、置換
低級アルキルまたはジアルキルヒドロシルオキシである
。);および、 (B) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_9、R_1_0およびR_1_1は各々水
素またはジアルキルヒドロシルオキシから選択され、R
_1_2は水素、ジアルキルヒドロシルオキシ、低級ジ
アルキルヒドロシルオキシ、低級アルキルまたは置換低
級アルキルから選択され、1分子当たり少なくとも2個
のSi−H基が存在し、かつ、唯1個の水素が何れかの
Si原子に結合されている。)からなる群から選択され
る物質であることを特徴とする請求項7記載の製造方法
。(9)R_5およびR_6は存在せず、そして、前記
ヒドリドシロキサンは環状であることを特徴とする請求
項8記載の製造方法。 (10)前記ビニル樹脂は次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5およ
びR_6は低級アルキル、置換低級アルキル、シクロア
ルキル、フェニル、置換フェニルアルキルおよびフェニ
ルアルキルからなる群から選択されるが、置換基R_3
、R_4、R_5およびR_6のうち1分子当たり少な
くとも2個はビニルでなければならない)で示される物
質からなることを特徴とする請求項1記載の製造方法。 (11)未反応の反応性水素原子を有するシロキサンか
らなる材料を含む物品をアルケン含有材料に暴露する方
法により製造される製品。 (12)前記アルケンは低級アルケンであることを特徴
とする請求項11記載の製品。 (13)前記アルケンはエチレンであることを特徴とす
る請求項12記載の製品。 (14)前記物品は光ファイバーであることを特徴とす
る請求項13記載の製品。 (15)前記物品はブラウン管アセンブリーであること
を特徴とする請求項14記載の製品。 (16)前記シロキサンはヒドリドシロキサンとビニル
樹脂との反応生成物であることを特徴とする請求項15
記載の製品。 (17)前記ビニル樹脂は次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5およ
びR_6は低級アルキル、置換低級アルキル、シクロア
ルキル、フェニル、置換フェニルアルキルおよびフェニ
ルアルキルからなる群から選択されるが、置換基R_3
、R_4、R_5およびR_6のうち1分子当たり少な
くとも2個はビニルでなければならない)で示される物
質からなることを特徴とする請求項16記載の製品。 (18)前記ヒドリドシロキサンは、 (A) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2、R_5およびR_6はビニル
以外の基から選択され、R_7は水素またはジアルキル
ヒドロシルオキシであり、R_8は低級アルキル、置換
低級アルキルまたはジアルキルヒドロシルオキシである
。);および、 (B) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_7、R_1_0およびR_1_1は各々水
素またはジアルキルヒドロシルオキシから選択され、R
_1_2は水素、ジアルキルヒドロシルオキシ、低級ジ
アルキルヒドロシルオキシ、低級アルキルまたは置換低
級アルキルから選択され、1分子当たり少なくとも2個
のSi−H基が存在し、かつ、唯1個の水素が何れかの
Si原子に結合されている。)からなる群から選択され
る物質であることを特徴とする請求項17記載の製品。 (19)R_5およびR_6は存在せず、そして、前記
ヒドリドシロキサンは環状であることを特徴とする請求
項18記載の製品。 (20)前記ビニル樹脂は次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5およ
びR_6は低級アルキル、置換低級アルキル、シクロア
ルキル、フェニル、置換フェニルアルキルおよびフェニ
ルアルキルからなる群から選択されるが、置換基R_3
、R_4、R_5およびR_6のうち1分子当たり少な
くとも2個はビニルでなければならない)で示される物
質からなることを特徴とする請求項11記載の製品。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16926588A | 1988-03-17 | 1988-03-17 | |
US169265 | 1998-10-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01256544A true JPH01256544A (ja) | 1989-10-13 |
Family
ID=22614914
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1028830A Pending JPH01256544A (ja) | 1988-03-17 | 1989-02-09 | 物品の製造方法および製品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01256544A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6504583B2 (en) * | 1998-10-02 | 2003-01-07 | 3M Innovative Properties Company | Anti-microbial touch panel and method of making same using homeotropic liquid crystal silanes |
US6504582B1 (en) | 1998-10-02 | 2003-01-07 | 3M Innovative Properties Co | Scratch resistant display and method of making same using homeotrophic liquid crystal silanes |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6114235A (ja) * | 1984-06-29 | 1986-01-22 | Toray Silicone Co Ltd | シリコ−ン硬化物から水素ガスの発生を抑制する方法 |
JPS63168346A (ja) * | 1987-01-06 | 1988-07-12 | 株式会社資生堂 | 改質固体材料 |
-
1989
- 1989-02-09 JP JP1028830A patent/JPH01256544A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6114235A (ja) * | 1984-06-29 | 1986-01-22 | Toray Silicone Co Ltd | シリコ−ン硬化物から水素ガスの発生を抑制する方法 |
JPS63168346A (ja) * | 1987-01-06 | 1988-07-12 | 株式会社資生堂 | 改質固体材料 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US6504582B1 (en) | 1998-10-02 | 2003-01-07 | 3M Innovative Properties Co | Scratch resistant display and method of making same using homeotrophic liquid crystal silanes |
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