JPH01251176A - パターン位置認識装置 - Google Patents

パターン位置認識装置

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JPH01251176A
JPH01251176A JP63078774A JP7877488A JPH01251176A JP H01251176 A JPH01251176 A JP H01251176A JP 63078774 A JP63078774 A JP 63078774A JP 7877488 A JP7877488 A JP 7877488A JP H01251176 A JPH01251176 A JP H01251176A
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JP
Japan
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pattern
scanning
image
position recognition
gradation
Prior art date
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Pending
Application number
JP63078774A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasutaka Koga
康隆 古賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP63078774A priority Critical patent/JPH01251176A/ja
Publication of JPH01251176A publication Critical patent/JPH01251176A/ja
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、U板の位置認識に使用される位置認識用パタ
ーンのパターン位置認識装置に関する。
(従来の技術) 例えば、プリント配線基板(以下、基板と省略する)上
にチップ部品等を装着する場合、先ず基板が所定位置に
位置決めされる。かかる位置決めは基板上に位置認識用
パターンとして例えば第8図に示すような十字パターン
が付される。なお、この十字パターンはその形状及び寸
法が予め既知となっている。そして、基板がチップ部品
の装着に際して所定位置にセットされると、この十字パ
ターンがITV (工業用テレビジョン)カメラ等の撮
像装置によって撮像される。この撮像により得られた画
像データは画像メモリに記憶され、しかるのち基準十字
パターンを用いてパターンマツチングが行われたり、又
十字パターンの重心位置が求められる。このようなパタ
ーンマツチング又は重心位置の算出の結果、基準十字パ
ターンとの間の位置ずれ量が求められ、このずれ口に従
って基板の位置が補正される。なお、基板の位置ずれを
水平方向及び垂直方向のみで検出する場合は十字パター
ンを1つとし、又基板の位置ずれを垂直水平方向に加え
て回転ずれや基板のひずみも検出する場合は十字パター
ンを複数個使用する。
このような認識方法であれば、基板上の位置認識用パタ
ーンが銅箔の場合や金めつき、半田めっきのように表面
が比較的滑らかであれば、正確に十字パターンの位置を
認識できる。
しかし、基板に対してパターンを形成する際のHAL 
(Hot  Air  Leveler)処理が施され
ていたり、又十字パターンの銅箔が汚れていたりすると
、この十字パターンを撮像した場合、十字パターンの一
部が欠けたり又膨張された形状の画像データとして得ら
れてしまう。このため、パターンマツチングが出来なか
ったり、又十字パターンの重心位置を求めようとしても
変形した十字パターンからは正確な重心位置を求めるこ
とが出来なくなる。従って、基板を所定位置に精度高く
セットすることが難しく、チップ部品等の装着に不具合
が生じる。
(発明が解決しようとする課題) 以上のように基板にHAL処理が施されていたり汚れが
あると、位置認識用パターンを精度高く位置認識するこ
とが困難である。
そこで本発明は、基板の処理状態や汚れ等に影響されず
に高精度に位置認識用パターンの位置認識ができるパタ
ーン位置認識装置を提供することを目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、基板上に付されたxy力方向直線により形成
される位置認識用パターンの位置認識を行なうパターン
位置認識装置において、位置認識用パターンを撮像する
撮像装置と、この撮像装置の撮像により得られる複数階
調の画像データに対してxy力方向それぞれ複数のスキ
ャンを行なって各階調データを得るスキャン手段と、こ
のスキャン手段により得られる各階調データにおける最
大階調変化部及び位置認識用パターン幅の規定範囲から
位置認識用パターンの幅を抽出するパターン幅抽出手段
と、このパターン幅抽出手段の幅抽出によって得られる
位置認識用パターンの形状からこの位置認識用パターン
の中心位置及び傾きを算出する位置算出手段とを備えて
上記目的を達成しようとするパターン位置認識装置であ
る。
(作用) このような手段を備えたことにより、撮像装置の撮像に
より得られた複数階調の画像データに対してスキャン手
段はxy力方向それぞれスキャンを行なって各階調デー
タを得、パターン幅抽出手段はこれら階調データにおけ
る最大階調変化部及び位置認ぷ用パターン幅の規定範囲
から位置認識用パターンの幅を抽出する。そして、この
パターン幅抽出手段の幅抽出によって得られる位置認識
用パターンの形状から位置算出手段は位置認識用パター
ンの中心位置及び傾きを算出する。
(実施例) 以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
第1図はパターン位置認識装置の構成図である。
同図において1は第8図に示すような位置認識用パター
ンとしての十字パターンが付された基板である。この基
板1の上方には十字パターンを撮像領域内に入るように
ITVカメラ2が配置されている。そして、このITV
カメラ2がら出力される画像信号がA/D (アナログ
/ディジタル)変換器3で複数階調に変換されて画像処
理装置4の画像メモリ5に画像データとして記憶される
ようになっている。
画像処理装置は十字パターンの位置つまり重心位置及び
傾きを求める機能を持ったもので、CPU (中央処理
装置)から成る主制御部6に対して画像メモリ5、幅設
定部7、スキャン部8、パターン幅抽出部9及び位置算
出手段1oが接続されたものとなっている。幅設定部7
には十字パターンの幅を抽出するための十字パターン幅
の規定範囲が予め設定されている。スキャン部8は画像
メモリ5に記憶された画像データに対して十字パターン
の部分が入る領域でxy力方向各スキャン数を設定し、
このスキャン数に従ってxy力方向対してスキャンを行
なってそれぞれそのスキャンラインにおける各階調デー
タを得る機能を持ったものである。パターン幅抽出部9
はスキャン部8により得られた各階調データにおける最
大階調変化部つまり階調レベルが急峻する部分及び十字
パターン幅の規定範囲から十字パターンの幅を抽出する
機能を持ったものである。位置算出手段10は、パター
ン幅抽出部9のパターン幅抽出によって得られる十字パ
ターンの形状からこの十字パターンの中心位置及び傾き
を算出する機能を持ったもので、中心ライン演算部11
及び位置算出部12から構成されている。中心ライン演
算部11はパターン幅抽出部9のパターン幅抽出によっ
て得られる十字パターンの形状から十字パターンの中心
ラインを求める機能を持ったものであり、また位置算出
部12はこの中心ラインから十字パターンの重心位置及
び基準位置からの傾きを算出する機能を持ったものであ
る。
次に上記の如く構成された装置の作用について第2図に
示す位置認識流れ図に従って説明する。
基板1が搬送されて所定位置にセットされ、この状態で
ITVカメラ2によって基板1上に付された十字パター
ンが撮像されると、この画像信号がITVカメラ2から
出力される。この画像信号はA/D変換器3で複数階調
のディジタル画像信号に変換されて画像メモリ5に画像
データとして記憶される。このように画像メモリ5に複
数階調の画像データが記憶されると、ステップslにお
いて主制御部6はスキャン部8にスキャン指令を発する
。このスキャン部8は画像メモリ5に記憶された画像デ
ータからxy力方向各スキャン数を設定する。例えば、
第3図に示すように十字パターンQがスキャン範囲に入
るようにX方向のスキャン数n s yh向のスキャン
数nが設定される。このようにxy力方向各スキャン数
が設定されると、スキャン部8はステップs2に移って
スキャン本数iを「1」としてX方向のスキャンを実行
する。
なお、このスキャンの順序は、先ずX方向に順次「1」
〜rnJの順で実行し、次にy方向に順次「1」〜rn
Jの順で実行するものとする。このスキャンによりスキ
ャン部8はステップS3において第4図に示すような1
本目のスキャンライン上における階調データdiを得、
この階調データ旧を画像メモリ5に一時記憶する。そし
て、ステップs4においてスキャンが先ずX方向に対し
て全て終了したかが判断され、今の状態では1本目のス
キャンしか終了していないのでステップS5に移ってス
キャン本数iを「2」としてステップS2に移る。
このステップs2においてスキャン部8はX方向におい
て2本目のスキャンを実行する。このようにステップ8
2〜s5が繰り返されることによってX方向の全スキャ
ン「1」〜rnJが終了する。第4図はX方向のスキャ
ンによって得た各階調データdl−dnであって、十字
パターンQをスキャンしているときの階調レベルが高く
なっている。以上のようにしてX方向の全スキャンが終
了すると、次にスキャン部8はX方向と同様にy方向に
対するスキャンをスキャン本数「1」〜[nJで実行し
てそのスキャン毎に階調データを得る。
以上のようにしてxy力方向全スキャンが終了すると、
ステップs6に移って主制御部6はパターン幅抽出部9
に対して抽出指令を発する。このパターン抽出部9はス
キャン順に従って各階調データを順次画像メモリ5から
読み出し、階調データにおける階調レベルの急峻変化す
る2部分を検出する。例えば、X方向の階調データd3
について第5図を参照して説明すると、階調レベルは十
字パターンの各エツジに対応する部分、っまりa及びb
の2部分で最大の急峻変化を示している。なお、C部分
においても急峻な変化を示しているが、この急峻変化の
大きさはa及びb部分の変化よりも小さいので省かれる
。このように最大急峻部分a1bが検出されると、パタ
ーン幅抽出部9は階調データd3において十字パターン
の幅は階調レベルの急峻する点Fa、Fbの間として判
断する。しかして、このようにしてパターン幅の抽出が
全階調データに対して行われて十字パターンQの幅が判
断される。次にステップs7に移ってパターン幅抽出部
9は幅設定部7に設定されている十字パターンの規定範
囲を読み出し、この規定範囲の最小規定値から最大規定
値までの間に上記各階調データから判断した各パターン
幅が入っているがを判断する。そして、この111断に
よって規定範囲内にパターン幅が入っていなければ、こ
のパターン幅は除外される。これにより、例えば第5図
に示す階調レベルの急峻部分Cが大きく、この部分Cと
b部分とからパターン幅が判断されたとしても、このパ
ターン幅は最小規定値よりも小さくなるので除外される
。この結果、各階調データから判断された各パターン幅
の中から規定範囲内にあるパターン幅のみが選択され、
これら選択されたパターン幅から位置認識用パターンQ
の全体のパターン幅が抽出される。
このように十字パターンQの全体のパターン幅が抽出さ
れると、ステップs8に移って主制御部6は位置算出手
段10に演算指令を発する。これにより、中心ライン演
算部11はパターン幅抽出部9で抽出された各パターン
幅つまり第5図に示す位置Fa、Fbを受け、これら位
置Fa、Fbの中間位置をそれぞれ各パターン幅ごとに
求めて第6図に示すように十字パターンQの中心ライン
rl。
「2を演算し求める。次にステップs9に移って位置算
出部12は求められた各中心ラインr1. r2の交点
Rを求め、この交点Rの位置を十字パターンQの重心位
置とする。さらに、位置算出部12は中心ライン「lと
基準ラインPとの成す角度θを求め、この角度θを十字
パターンQの傾きとする。
かくして、十字パターンQの中心位置及び基僧ラインP
に対する傾きが求められると、これら中心位置及び傾き
に基づいて基板1の位置が補正されて所定位置に位置決
めされる。
このように上記一実施例においては、撮像装置2の撮像
により得られた画像データに対してxyh向にそれぞれ
スキャンを行なって各階調データを得、これら階調デー
タにおける最大階調変化部及び十字パターン幅の規定範
囲から十字パターンQの幅を抽出してこの十字パターン
Qの中心位置及び傾きを求める構成としたので、十字パ
ターンQが膨張されて撮像されたり又19れて欠如され
たように撮像されてもこの部分はパターン幅抽出部9の
作用によって削除されて影響を受けることがない。従っ
て、抽出されるパターン幅は実際の十字パターンQの幅
と非常に近似した値のみとなり、この結果高精度に十字
パターンQを認識できてその中心位置及び傾きは正確な
値となる。かくして、基板かHAL処理されていたり汚
れていたり、さらに照射される光の強度が不均一であっ
ても精度高く十字パターンQの位置認識ができる。
なお、本発明は上記一実施例に限定されるものでなくそ
の主旨を逸脱しない範囲で変形してもよい。例えば、位
置認識用パターンは十字パターンに限らずxyh向の各
直線で形成される形状、例えば第7図に示すような四辺
形であってもよい。
[発明の効果〕 以上詳記したように本発明によれば、基板の処理状態や
汚れ等に影響されずに高精度に位置認識用パターンの位
置認識ができるパターン位置認識装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第6図は本発明に係わるパターン位置認識装
置の一実施例を説明するための図であって、第1図は構
成図、第2図は位置認識流れ図、第3図はスキャン動作
を示す図、第4図は各階調データを示す図、第5図はパ
ターン幅抽出作用を説明するための模式図、第6図は位
置算出作用を説明するための図、第7図は位置認識用パ
ターンの変形例を示す図、第8図は十字パターンを示す
図である。 1・・・基板、2・・・ITVカメラ、3・・・A/D
変換器、4・・・画像処理装置、5・・・画像メモリ、
6・・・主制御部、7・・・幅設定部、8・・・スキャ
ン部、9・・・パターン幅抽出部、10・・・位置算出
手段、11・・・中心ライン演算部、12・・・位置算
出部。 出願人代理人 弁理士  鈴江武彦 筋 2 図 第 3 l 1号 4 因 F’a    F’b :丁 5 図 F?AI 116図 7:;  7  Z

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  基板上に付されたxy方向の直線により形成される位
    置認識用パターンの位置認識を行なうパターン位置認識
    装置において、前記位置認識用パターンを撮像する撮像
    装置と、この撮像装置の撮像により得られる複数階調の
    画像データに対してxy方向にそれぞれ複数のスキャン
    を行なって各階調データを得るスキャン手段と、このス
    キャン手段により得られる各階調データにおける最大階
    調変化部及び前記位置認識用パターン幅の規定範囲から
    前記位置認識用パターンの幅を抽出するパターン幅抽出
    手段と、このパターン幅抽出手段の幅抽出によって得ら
    れる前記位置認識用パターンの形状からこの位置認識用
    パターンの中心位置及び傾きを算出する位置算出手段と
    を具備したことを特徴とするパターン位置認識装置。
JP63078774A 1988-03-31 1988-03-31 パターン位置認識装置 Pending JPH01251176A (ja)

Priority Applications (1)

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JP63078774A JPH01251176A (ja) 1988-03-31 1988-03-31 パターン位置認識装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP63078774A JPH01251176A (ja) 1988-03-31 1988-03-31 パターン位置認識装置

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Publication Number Publication Date
JPH01251176A true JPH01251176A (ja) 1989-10-06

Family

ID=13671251

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63078774A Pending JPH01251176A (ja) 1988-03-31 1988-03-31 パターン位置認識装置

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JP (1) JPH01251176A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011047674A (ja) * 2009-08-25 2011-03-10 Nec Engineering Ltd 十字パターンの中心検出装置及び中心検出方法
JP2016080598A (ja) * 2014-10-20 2016-05-16 レーザーテック株式会社 座標検出装置、検査装置、及び座標検出方法
US9786057B2 (en) 2014-09-19 2017-10-10 Lasertec Coporation Inspection apparatus, coordinate detection apparatus, coordinate detection method, and wavefront aberration correction method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011047674A (ja) * 2009-08-25 2011-03-10 Nec Engineering Ltd 十字パターンの中心検出装置及び中心検出方法
US9786057B2 (en) 2014-09-19 2017-10-10 Lasertec Coporation Inspection apparatus, coordinate detection apparatus, coordinate detection method, and wavefront aberration correction method
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