JPH01242681A - 貯蔵安定な多孔性物体用微収縮性含浸剤及びこれを用いて被処理物の細孔を封止する方法 - Google Patents
貯蔵安定な多孔性物体用微収縮性含浸剤及びこれを用いて被処理物の細孔を封止する方法Info
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Landscapes
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- Powder Metallurgy (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は多孔性物体、特に鋳物、焼結金属、木材のよう
な物体。あるいは岩石、レンガやコンクリートなど無機
質物体中の細孔を封止するための微収縮性含浸剤及びこ
れを用いて被処理物の細孔を封止する方法に係るもので
ある。
な物体。あるいは岩石、レンガやコンクリートなど無機
質物体中の細孔を封止するための微収縮性含浸剤及びこ
れを用いて被処理物の細孔を封止する方法に係るもので
ある。
〔従来の技術及び間8点〕
多孔質物体、特に多孔質金属材は、たとえば鋳造物や焼
結金属部品など、封止剤を含浸させて目止め処理するこ
とが普通になっている。これはそれら材料の気体または
液体に対する耐腐蝕性あるいは耐圧性を向上させたり、
密度や強度を高めたすして製品の歩留りを向上させるの
に必要である。
結金属部品など、封止剤を含浸させて目止め処理するこ
とが普通になっている。これはそれら材料の気体または
液体に対する耐腐蝕性あるいは耐圧性を向上させたり、
密度や強度を高めたすして製品の歩留りを向上させるの
に必要である。
それらには亜鉛、銅、鉄、アルミニウム、黄銅。
及びそれら合金製材料の他に、木材やセラミックなども
重要な材料としてあげられる。
重要な材料としてあげられる。
従来、上記多孔質材料の目止め剤には、ケイ酸ナトリウ
ムやリン酸アルミニウムのような無機含、浸剤か、乾性
油などの天然ワニスなどの他に、ジ”t) 7リルフタレートやアルキド樹脂、エポキシ樹脂。
ムやリン酸アルミニウムのような無機含、浸剤か、乾性
油などの天然ワニスなどの他に、ジ”t) 7リルフタレートやアルキド樹脂、エポキシ樹脂。
フェノール樹脂などが使用あるいは提案されたが。
溶媒の使用により細孔の密閉が不完全だったり。
含浸後の熱処理に長時間を要したり、高粘度のだめ洗浄
工程での工数や含浸剤の損失が多いなど必らずしも満足
すべきものではなかった。これら工程上の欠点を除くも
のとして最近、メタクリル酸エステルもしくはアクリル
酸エステルを主成分とする多孔質物体の含浸剤が種々提
案された。
工程での工数や含浸剤の損失が多いなど必らずしも満足
すべきものではなかった。これら工程上の欠点を除くも
のとして最近、メタクリル酸エステルもしくはアクリル
酸エステルを主成分とする多孔質物体の含浸剤が種々提
案された。
しかし、これらの含浸剤の場合でも、熱処理に果が上が
らなかったり、過酸化物系、アゾニトリル系開始剤を含
む含浸剤を用いる方法では含浸剤のポットライフ(可使
寿命)が短かくなるため含浸工程を室温以下で行うため
の装置が必要となっており、それだけランニングコスト
及び設備費に問題を残している。
らなかったり、過酸化物系、アゾニトリル系開始剤を含
む含浸剤を用いる方法では含浸剤のポットライフ(可使
寿命)が短かくなるため含浸工程を室温以下で行うため
の装置が必要となっており、それだけランニングコスト
及び設備費に問題を残している。
本発明は上記の従来技術の問題点を解決するために提案
するもので、室温での含浸処理工程において数ケ月の可
使寿命を有するにもかかわらず70〜95℃のような比
較的低温で、しかも3〜15分の短時間内に硬化が完了
し、硬化時にほとんど体積収縮を伴わず、従って細孔内
に亀裂や隙間を生じないばかりかその他の物性値が従来
含浸剤並みか、それ以上に優れている長期可使寿命を有
する微収縮性含浸剤(以下単に含浸剤と称する)を完成
して、これを用いた室温での含浸工程を完成するにいた
ったものである。
するもので、室温での含浸処理工程において数ケ月の可
使寿命を有するにもかかわらず70〜95℃のような比
較的低温で、しかも3〜15分の短時間内に硬化が完了
し、硬化時にほとんど体積収縮を伴わず、従って細孔内
に亀裂や隙間を生じないばかりかその他の物性値が従来
含浸剤並みか、それ以上に優れている長期可使寿命を有
する微収縮性含浸剤(以下単に含浸剤と称する)を完成
して、これを用いた室温での含浸工程を完成するにいた
ったものである。
即ち2本発明は主として低収縮性もしくは非収縮性のア
クリル酸エステルまたは、メタクリル酸エステルなどエ
チレン性不飽和化合物を含む重合性ビニル単量体と重合
開始剤をサイクロデキストリン類にて処理して得られた
サイクロデキストリン類包接化合物とを構成成分とした
含浸剤によって前記問題点、特に収縮による含浸歩留り
の悪さや含浸工程で冷却設備が必要なためのランニング
コスト及び設備費の上昇等を解決することができたもの
である。
クリル酸エステルまたは、メタクリル酸エステルなどエ
チレン性不飽和化合物を含む重合性ビニル単量体と重合
開始剤をサイクロデキストリン類にて処理して得られた
サイクロデキストリン類包接化合物とを構成成分とした
含浸剤によって前記問題点、特に収縮による含浸歩留り
の悪さや含浸工程で冷却設備が必要なためのランニング
コスト及び設備費の上昇等を解決することができたもの
である。
本発明で用いられる低収縮性及び非収縮性メタクリル酸
エステル及びアクリル酸エステルとしては、一般式が で表わされる。ここでR’−Hまたはcns 、 R”
はニトロ基、シアノ基、ハロゲン基、アミノ基、カルボ
キシル基、カルボニル基、ヒドロキシル基、チカルバモ
イルオキシやN−プロピルカルバモイルオキシ及びN−
フヱニルカルバモイルオキシなどのようなカルバモイル
オキシ基及び炭素数1〜18の直鎖状または分校状のア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アルケノキシ基、アル
キノキシ基、アラルコキシ基、アラルケノキシ基、アラ
ルキノキシ基、アルキル−、アリール−、アルケニル−
。
エステル及びアクリル酸エステルとしては、一般式が で表わされる。ここでR’−Hまたはcns 、 R”
はニトロ基、シアノ基、ハロゲン基、アミノ基、カルボ
キシル基、カルボニル基、ヒドロキシル基、チカルバモ
イルオキシやN−プロピルカルバモイルオキシ及びN−
フヱニルカルバモイルオキシなどのようなカルバモイル
オキシ基及び炭素数1〜18の直鎖状または分校状のア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アルケノキシ基、アル
キノキシ基、アラルコキシ基、アラルケノキシ基、アラ
ルキノキシ基、アルキル−、アリール−、アルケニル−
。
アルキニル−、アラルキル−、アラルケニル−。
アラルキュルー。アルコキシ−、アリールオキシ−、ア
ルケノキシ−、アルキノキシ−、アラルコキシ−、アラ
ルケノキシー、アラルキノキシ−のカルボニル基及びカ
ルボキシル基を置換した。もしくは、置換しない炭素数
1〜18のたとえば。
ルケノキシ−、アルキノキシ−、アラルコキシ−、アラ
ルケノキシー、アラルキノキシ−のカルボニル基及びカ
ルボキシル基を置換した。もしくは、置換しない炭素数
1〜18のたとえば。
オクタデシル基などの直鎖状または分校状のアルキル基
、シクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロオクチル
などのようなシクロアルキル基、ベンジル、フェニルエ
チル、フェニルプロピルなどのアラルキル基、フェニル
、ビフェニル、ナフチルナトのアリール基、トリル、キ
シリル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ブチルフ
ェニルなどのアルカリール基、などである、また 1t
2は水素原子;上記R8に関して示した有機残基、また
はビニルα−メチルビニル、β−メチルビニル、α−エ
チルビニル及びプロペニルからオクタデセニルまでの直
鎖状または9分枝状のアルケニル基。
、シクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロオクチル
などのようなシクロアルキル基、ベンジル、フェニルエ
チル、フェニルプロピルなどのアラルキル基、フェニル
、ビフェニル、ナフチルナトのアリール基、トリル、キ
シリル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ブチルフ
ェニルなどのアルカリール基、などである、また 1t
2は水素原子;上記R8に関して示した有機残基、また
はビニルα−メチルビニル、β−メチルビニル、α−エ
チルビニル及びプロペニルからオクタデセニルまでの直
鎖状または9分枝状のアルケニル基。
ブチニル、2−メチル−プロピニルなどのアルキニル基
、2−フェニルエチニル、3−ナフチルプロペニルなど
のアラルケニルi、2−フェニ7L/ 7”ロビニル、
4−ナフチルブチニル−2−などのアラルキニル基、ア
クリロイルオキシメチルやメタクリロイルオキシメチル
基などの不飽和基置換アシルオキシメチル基及びビニル
ベンジルオキシメチルやビニルオキシメチル基などのよ
うな不飽和基置換オキシメチル基などである。
、2−フェニルエチニル、3−ナフチルプロペニルなど
のアラルケニルi、2−フェニ7L/ 7”ロビニル、
4−ナフチルブチニル−2−などのアラルキニル基、ア
クリロイルオキシメチルやメタクリロイルオキシメチル
基などの不飽和基置換アシルオキシメチル基及びビニル
ベンジルオキシメチルやビニルオキシメチル基などのよ
うな不飽和基置換オキシメチル基などである。
また9本発明に用いられる低収縮性あるいは非収縮性単
量体としては、一般式 し R4は水−素一原子の他、上記1ffiあるいはR
3に関して例示したような有機残基である。
量体としては、一般式 し R4は水−素一原子の他、上記1ffiあるいはR
3に関して例示したような有機残基である。
また、一般式
で表わされるスピロカルボナート単量体も有効である。
ここにR8はR1に関して示したような有機残基である
がたとえば、 W CHth−もしくは。
がたとえば、 W CHth−もしくは。
−f CHz)a C(−Cut)+ CHg)7で表
わされる残基でし また。−触式 で表わされるスピロオルソエステル類である。ここに
24. R’l、 l?s及びR9は水素原子R冨ある
いはR3に関して例示したような有機残基であり、その
中の少くとも1つはアルケニル基を含むものとする。
わされる残基でし また。−触式 で表わされるスピロオルソエステル類である。ここに
24. R’l、 l?s及びR9は水素原子R冨ある
いはR3に関して例示したような有機残基であり、その
中の少くとも1つはアルケニル基を含むものとする。
また RhとR1およびR?とR9とは各々一体化して
一つのメチレン基を形成し得る。更に R6とR7もし
くはHaとR9とは一体化して−R’C= CR’−あ
るいは、 −R”C= CR’−基を形成し得る。R
h、 R?、ill、 R′とは相互いに連結して単環
および多環を形成することもできる。ここで、Aは上記
Rh 、、、 R?に関して示した有機残基などである
。
一つのメチレン基を形成し得る。更に R6とR7もし
くはHaとR9とは一体化して−R’C= CR’−あ
るいは、 −R”C= CR’−基を形成し得る。R
h、 R?、ill、 R′とは相互いに連結して単環
および多環を形成することもできる。ここで、Aは上記
Rh 、、、 R?に関して示した有機残基などである
。
とラクトン0CAOとから製造されることは公知である
。具体的には、2−アクリロイルオキシ−もしくは2−
メタクリロイルオキシ−置換の−1,4゜6−トリオキ
サスピロ(4,4)ノナン、−3−メチル−1,4,6
−)リオキサスビロ(4,4)ノナン、−3−クロルメ
チル−1,4,6−)リオキサスビロ(4,43ノナン
、−3−フェノキシメチル−1,4,6−)リオキサス
ビロ〔4゜4〕ノナン、−1,4,6−トリオキサスピ
ロ〔4,5〕デカン、−3−クロルメチル−1,4゜6
−トリオキサスピロ(4,6)ウンデカン、−3−メチ
ル−1,4,6−トリオキサスピロ〔4゜6]ウンデク
叱1、−1.4.6−)リオキサスビロ(4,6)ウン
デカン、−3−フェニル−1゜4.6−トリオキサスピ
ロ(4,6)ウンデカン。
。具体的には、2−アクリロイルオキシ−もしくは2−
メタクリロイルオキシ−置換の−1,4゜6−トリオキ
サスピロ(4,4)ノナン、−3−メチル−1,4,6
−)リオキサスビロ(4,4)ノナン、−3−クロルメ
チル−1,4,6−)リオキサスビロ(4,43ノナン
、−3−フェノキシメチル−1,4,6−)リオキサス
ビロ〔4゜4〕ノナン、−1,4,6−トリオキサスピ
ロ〔4,5〕デカン、−3−クロルメチル−1,4゜6
−トリオキサスピロ(4,6)ウンデカン、−3−メチ
ル−1,4,6−トリオキサスピロ〔4゜6]ウンデク
叱1、−1.4.6−)リオキサスビロ(4,6)ウン
デカン、−3−フェニル−1゜4.6−トリオキサスピ
ロ(4,6)ウンデカン。
−3−メチレン−1,4,6−トリオキサスピロ(4,
4)ノナン、−3−メチレン−1,4,6−トリオキサ
スピロ(4,5)デカン、−3−メチレン−1,4,6
−1−リオキサスビロ(4,6)ウンデカンなどである
。また、2.3−ジメチレン−置換の−1,4,6−ト
リオキサスピロ〔4゜5]ノナン、−1,4,6−トリ
オキサスピロ〔485〕デカン、−1,4,6−トリオ
キサスピロ(4,6)ウンデカンなどである0本発明で
使用されるスビロオロソエステル類は、上記原料のエポ
キシ化合物のエポキシ基が、原料ラクトンと反応してい
ない未反応エポキシ基を含んでいても良い。
4)ノナン、−3−メチレン−1,4,6−トリオキサ
スピロ(4,5)デカン、−3−メチレン−1,4,6
−1−リオキサスビロ(4,6)ウンデカンなどである
。また、2.3−ジメチレン−置換の−1,4,6−ト
リオキサスピロ〔4゜5]ノナン、−1,4,6−トリ
オキサスピロ〔485〕デカン、−1,4,6−トリオ
キサスピロ(4,6)ウンデカンなどである0本発明で
使用されるスビロオロソエステル類は、上記原料のエポ
キシ化合物のエポキシ基が、原料ラクトンと反応してい
ない未反応エポキシ基を含んでいても良い。
本発明の組成物には必要に応じて、含浸剤、シール剤に
使用されている公知の重合性単量体はすべて添加される
。即ちアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルと
しては次式を有するものCHx−C(R’)COOR” ここでR1はHまたはC11,、RオはC,H□11゜
、あるいはC,I(1,OR3,べCHtCHR’0)
−C,Hx−や、あるいは(CHICIll’O)+5
(C1lICHR5O)、C,Hlm、1 (但し、こ
こでnは1〜1B、好ましくは4〜14 、113.R
’、R’はR5またはハロゲン、シアノ、アミノ、エー
テル。
使用されている公知の重合性単量体はすべて添加される
。即ちアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルと
しては次式を有するものCHx−C(R’)COOR” ここでR1はHまたはC11,、RオはC,H□11゜
、あるいはC,I(1,OR3,べCHtCHR’0)
−C,Hx−や、あるいは(CHICIll’O)+5
(C1lICHR5O)、C,Hlm、1 (但し、こ
こでnは1〜1B、好ましくは4〜14 、113.R
’、R’はR5またはハロゲン、シアノ、アミノ、エー
テル。
シクロアルキル基などを置換した。あるいは置換しない
炭素数1〜18のアルキル3アリール基であり、 m、
j!はO〜10である)、たとえばアクリシヘキシ
ル、3−クロル−2−ヒドロキシプロピル、3−ブロモ
−2−ヒドロキシプロピル、ポリヒドロキシエチル、ポ
リヒドロキシプロピル、フェニル、ナフチル、ヒドロキ
シフェニル、シクロヘキシル、テトラヒドロフルフリル
、シアノエチル、ブチルアミノエチル、クロロエチル、
トリフロロエチル、テトラフロロプロピル、グリシジル
エステルなどであるが、限定されるものではない。
炭素数1〜18のアルキル3アリール基であり、 m、
j!はO〜10である)、たとえばアクリシヘキシ
ル、3−クロル−2−ヒドロキシプロピル、3−ブロモ
−2−ヒドロキシプロピル、ポリヒドロキシエチル、ポ
リヒドロキシプロピル、フェニル、ナフチル、ヒドロキ
シフェニル、シクロヘキシル、テトラヒドロフルフリル
、シアノエチル、ブチルアミノエチル、クロロエチル、
トリフロロエチル、テトラフロロプロピル、グリシジル
エステルなどであるが、限定されるものではない。
では、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、
プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、グ
リセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン、
ペンタエリスリトールなど多価アルコール及びビスフェ
ノールA、レゾルシンなど多価フェノール類のジーある
いはトリー及びポリアクリレートもしくはポリメタクリ
レートなとである。
プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、グ
リセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン、
ペンタエリスリトールなど多価アルコール及びビスフェ
ノールA、レゾルシンなど多価フェノール類のジーある
いはトリー及びポリアクリレートもしくはポリメタクリ
レートなとである。
これらは高揮発性を避けると共に低粘性の要求?
前溝たすために2適当な選択が必要である。また。
封止効果を高めるには、少なくとも充分な量の多官能性
単量体を加えなければならない、その使用割合は被処理
物に要求される耐溶剤性及び耐熱性の度合によって変る
が、含浸液の2〜70%好ましくは2〜40%、最も好
ましくは10〜25%の範囲内である。
単量体を加えなければならない、その使用割合は被処理
物に要求される耐溶剤性及び耐熱性の度合によって変る
が、含浸液の2〜70%好ましくは2〜40%、最も好
ましくは10〜25%の範囲内である。
また9本発明では一般式(CIよCR’C01CHtC
I(OH)CHx)JR” (R’はR9あるいは炭素
数1〜6のアルキル基 yXは炭素数1〜6のアルキル
基またはヒドロキシアルキル基もしくはシアノ及びシア
ノアルキル基からなる)で示される公知の単量体の中か
ら選ばれた1種または2種以上をも含有させることがで
きる。
I(OH)CHx)JR” (R’はR9あるいは炭素
数1〜6のアルキル基 yXは炭素数1〜6のアルキル
基またはヒドロキシアルキル基もしくはシアノ及びシア
ノアルキル基からなる)で示される公知の単量体の中か
ら選ばれた1種または2種以上をも含有させることがで
きる。
公知のようにフタル酸ジアリルあるいはマレイン酸、フ
マル酸類のエステルのような他の重合性単量体を少量含
んでも良い、また、フタル酸あるいはテレフタル酸のエ
ステルのような非重合性伸展剤を含めてもよいが、含浸
材料の耐溶剤性を低下しないような量でなければならな
い。
マル酸類のエステルのような他の重合性単量体を少量含
んでも良い、また、フタル酸あるいはテレフタル酸のエ
ステルのような非重合性伸展剤を含めてもよいが、含浸
材料の耐溶剤性を低下しないような量でなければならな
い。
本発明に使用される重合開始剤はすでにこの種の含浸剤
に公知のものならすべて単独あるいは2種以上組合せて
配合できる。過酸化物系としてはメチルエチルケトンペ
ルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシドなどのケト
ンペルオキシFIII。
に公知のものならすべて単独あるいは2種以上組合せて
配合できる。過酸化物系としてはメチルエチルケトンペ
ルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシドなどのケト
ンペルオキシFIII。
1−1−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン
や2.2−ビス(t−ブチルペルオキシ)ブタンなどの
ベルオキシケクール頬;クメンヒドロペルオキシドやt
−ブチルヒドロペルオキシドルキルペルオキシド類;ア
セチルペルオキシドやベンゾイルペルオキシドなどのジ
アシルペルオキシド類;ジーブロビルペルオキシジカー
ボナートやジー2−エチルヘキシルペルオキシジカルボ
ナートなどのベルオキシジカーボナート1ift−プチ
ルペルオ牛ジアセテートやt−ブチルペルオキシベンゾ
エートなどのペルオキシエステル類;アセチルシクロへ
キシルスルホニルペルオキシドなどである。
や2.2−ビス(t−ブチルペルオキシ)ブタンなどの
ベルオキシケクール頬;クメンヒドロペルオキシドやt
−ブチルヒドロペルオキシドルキルペルオキシド類;ア
セチルペルオキシドやベンゾイルペルオキシドなどのジ
アシルペルオキシド類;ジーブロビルペルオキシジカー
ボナートやジー2−エチルヘキシルペルオキシジカルボ
ナートなどのベルオキシジカーボナート1ift−プチ
ルペルオ牛ジアセテートやt−ブチルペルオキシベンゾ
エートなどのペルオキシエステル類;アセチルシクロへ
キシルスルホニルペルオキシドなどである。
また、アゾ化合物としては、2.2’−アゾビスイソブ
チロニトリル、2.2’ −アゾビス−2゜4−ジメチ
ルバレロニトリル、1.1’−アゾヒスシクロヘキサン
−1−カルボニトリル、2,4゜4−トリメチル−2−
フェニルアゾバレロニトリル、2.2’−アゾビス−4
−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、1.1
’−アゾビス−1−シクロブタンニトリル、2.2’
−アゾビス−2−メチルブチロニトリル、2.2’−ア
ゾビス−2−エチルプロピオニトリル、1.1’−アゾ
ビス−1−シクロペンタンニトリル、2.2’〜アゾビ
ス−2−シクロプロピルプロピオニトリルなどのアゾニ
トリル1;4,4’−アゾビス(4−メチルペンタン、
酸)やジメチル2.2′−アゾビスイソブチレートなど
アゾカルボン酸及びアブエステル類;(1−フェニルエ
チル)アゾジフェニルメタンや2,2′−アゾビス(2
−メチルプロパン)などアゾアルカンやアゾアレン類;
2゜3′−アゾビス(イソブチラミド)や2.2’−ア
ゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プ
ロピオナミド〕などのアゾアミド類;2゜2′−アゾビ
ス(2−アミジノプロパン)や2゜2′−アゾビス(N
、N’ −ジメチレンイソブチラミジン)などのアゾア
ミジン類などである。
チロニトリル、2.2’ −アゾビス−2゜4−ジメチ
ルバレロニトリル、1.1’−アゾヒスシクロヘキサン
−1−カルボニトリル、2,4゜4−トリメチル−2−
フェニルアゾバレロニトリル、2.2’−アゾビス−4
−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、1.1
’−アゾビス−1−シクロブタンニトリル、2.2’
−アゾビス−2−メチルブチロニトリル、2.2’−ア
ゾビス−2−エチルプロピオニトリル、1.1’−アゾ
ビス−1−シクロペンタンニトリル、2.2’〜アゾビ
ス−2−シクロプロピルプロピオニトリルなどのアゾニ
トリル1;4,4’−アゾビス(4−メチルペンタン、
酸)やジメチル2.2′−アゾビスイソブチレートなど
アゾカルボン酸及びアブエステル類;(1−フェニルエ
チル)アゾジフェニルメタンや2,2′−アゾビス(2
−メチルプロパン)などアゾアルカンやアゾアレン類;
2゜3′−アゾビス(イソブチラミド)や2.2’−ア
ゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プ
ロピオナミド〕などのアゾアミド類;2゜2′−アゾビ
ス(2−アミジノプロパン)や2゜2′−アゾビス(N
、N’ −ジメチレンイソブチラミジン)などのアゾア
ミジン類などである。
なお1重合開始剤類の添加割合は重合単量体に対して0
.01〜10重量%の範囲が適し、好ましくは0.2〜
5重量%である。
.01〜10重量%の範囲が適し、好ましくは0.2〜
5重量%である。
特に本発明では不安定なジアシルペルオキシド類、ペル
オキシエステル類の大部分を有効に使用′冒、1(j α、βまたはTサイクロデキストリン及びそれらの置換
サイクロデキストリンである。置換サイクロデキストリ
ンは、その構成グルコースの2.3及び6位水酸基の水
素の少なくとも一部をアルキル基例えば炭素数1〜16
.好ましくは1〜6の直鎖または分枝鎖状アルキル基を
置換したもので公知であるが、公知の方法に従って製造
することができる。たとえばヘキサキス−2,6−0−
ジメチル−α−シクロデキストリン、ヘキサキス−2,
3,6−0−)ジメチル−α−シクロデキストリン、ヘ
プタキス−2,6−0−ジメチル−β−シクロデキスト
リン、ヘプタキス−2,3,6−〇−トリメチルーβ−
シクロデキストリン、オクタキス−2,6−0−ジメチ
ル−T−シクロデキストリン、オクタキス−2,3,6
−0−)リメチルーγ−シクロデキストリン、2.6−
ジカルボキシメチル−α−1β−及びγ−サイクロデキ
ストリンi2,3.6−トリ力ルボキシメチル−α−1
β−及びγ−サイクロデキストリンなどが挙げられる。
オキシエステル類の大部分を有効に使用′冒、1(j α、βまたはTサイクロデキストリン及びそれらの置換
サイクロデキストリンである。置換サイクロデキストリ
ンは、その構成グルコースの2.3及び6位水酸基の水
素の少なくとも一部をアルキル基例えば炭素数1〜16
.好ましくは1〜6の直鎖または分枝鎖状アルキル基を
置換したもので公知であるが、公知の方法に従って製造
することができる。たとえばヘキサキス−2,6−0−
ジメチル−α−シクロデキストリン、ヘキサキス−2,
3,6−0−)ジメチル−α−シクロデキストリン、ヘ
プタキス−2,6−0−ジメチル−β−シクロデキスト
リン、ヘプタキス−2,3,6−〇−トリメチルーβ−
シクロデキストリン、オクタキス−2,6−0−ジメチ
ル−T−シクロデキストリン、オクタキス−2,3,6
−0−)リメチルーγ−シクロデキストリン、2.6−
ジカルボキシメチル−α−1β−及びγ−サイクロデキ
ストリンi2,3.6−トリ力ルボキシメチル−α−1
β−及びγ−サイクロデキストリンなどが挙げられる。
また1分枝サイクロデキストリンたとえば、グルコース
6位にグルコースあるいはマルトースがα−1,6−結
合により結合した分枝α−サイクロデキストリン及びマ
ルトシル−β−サイクロデキストリンなど含浸剤の安定
性や硬化特性に悪影響を与えない位1の置換基を含んで
もよい、また、エピクロルヒドリンやメタクリルアミド
など架橋した。あるいは架橋しないサイクロデキストリ
ン類の重合体も含まれる。
6位にグルコースあるいはマルトースがα−1,6−結
合により結合した分枝α−サイクロデキストリン及びマ
ルトシル−β−サイクロデキストリンなど含浸剤の安定
性や硬化特性に悪影響を与えない位1の置換基を含んで
もよい、また、エピクロルヒドリンやメタクリルアミド
など架橋した。あるいは架橋しないサイクロデキストリ
ン類の重合体も含まれる。
本発明ではこれら4種の中のいずれを用いてもよいし、
これらの混合物を用いてもよい。また。
これらの混合物を用いてもよい。また。
これらサイクロデキストリン類の側鎖に更に適当な化学
基を導入した修飾サイクロデキストリンたとえば6位同
士を−oc % co−。
基を導入した修飾サイクロデキストリンたとえば6位同
士を−oc % co−。
イoc−〈=〉−一−チーyco 、+OtS +
−→←丁 。
−→←丁 。
(0,S→D→ゴ0.(0□S→ユH1CHt−。
0 * S + CI −C11<Σ−−5O1−など
の基で連結したα−2β−及びT−サイクロデキストリ
ンキャップ化合物;アミノアルキル基、アミツノアルキ
ルX丁フィト基などを有するポリα−1β−及びγ−サ
イクロデキストリンなども、包接化を妨げずかつ含浸剤
の安定性や硬化特性に悪影響を与えない限り用いること
ができる。
の基で連結したα−2β−及びT−サイクロデキストリ
ンキャップ化合物;アミノアルキル基、アミツノアルキ
ルX丁フィト基などを有するポリα−1β−及びγ−サ
イクロデキストリンなども、包接化を妨げずかつ含浸剤
の安定性や硬化特性に悪影響を与えない限り用いること
ができる。
本発明では使用されるサイクロデキストリン及びその誘
導体は種々の化合物と包接化合物を作り該化合物を安定
化させたり、溶解性を変えたりすることは知られている
。本発明においては、用いる重合開始剤とサイクロデキ
ストリンあるいはサイクロデキストリン誘導体とをあら
かじめ公知の方法によって処理し、包接化合物もしくは
安定な配合物を形成させておく。たとえば、サイクロデ
キストリンと重合開始網(必要ならば水などの不活性な
溶媒を加えてもよい)とを種々の装置たとえばらいかい
機、ボールミル、デイスパーミル。
導体は種々の化合物と包接化合物を作り該化合物を安定
化させたり、溶解性を変えたりすることは知られている
。本発明においては、用いる重合開始剤とサイクロデキ
ストリンあるいはサイクロデキストリン誘導体とをあら
かじめ公知の方法によって処理し、包接化合物もしくは
安定な配合物を形成させておく。たとえば、サイクロデ
キストリンと重合開始網(必要ならば水などの不活性な
溶媒を加えてもよい)とを種々の装置たとえばらいかい
機、ボールミル、デイスパーミル。
乳化機などで充分に混練する。あるいはサイクロデキス
トリン類の水または不活性溶媒溶液(通常0.05〜1
0重量倍)を作り、これに重合開始剤を加えて30分−
12時間、好ましくは1−4時間撹拌して、包接化合物
を沈澱として得る方法などが用いられる。ヒドロペルオ
キシドのβサイクロデキストリン包接化合物はこの溶液
法で得られることは公知である。
トリン類の水または不活性溶媒溶液(通常0.05〜1
0重量倍)を作り、これに重合開始剤を加えて30分−
12時間、好ましくは1−4時間撹拌して、包接化合物
を沈澱として得る方法などが用いられる。ヒドロペルオ
キシドのβサイクロデキストリン包接化合物はこの溶液
法で得られることは公知である。
本発明の含浸剤のシェルフライフ(貯蔵寿命)を保つた
めには公知の重合抑制剤もしくは禁止剤を加えるのが有
効である。
めには公知の重合抑制剤もしくは禁止剤を加えるのが有
効である。
フェノール系重合抑制剤としてはハイドロキノン、ピロ
ガロール、ハイドロキノンモノメチルエーテル、メチル
フェノール、2,6−ジーt−ブ1(4−エチル−6−
t−ブチルフェノール)、4゜4′−チオビス(3−メ
チル−6−ブチルフェノール)、4.4’−ブチリデン
ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、ベン
ゾキノン。
ガロール、ハイドロキノンモノメチルエーテル、メチル
フェノール、2,6−ジーt−ブ1(4−エチル−6−
t−ブチルフェノール)、4゜4′−チオビス(3−メ
チル−6−ブチルフェノール)、4.4’−ブチリデン
ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、ベン
ゾキノン。
2.5−ジ−t−アミルハイドロキノン、ナフトキノン
などがある。
などがある。
また、アミン系重合抑制網としては、N、N’−ジー2
−ナフチル−1,4−フェニレンジアミイソプロピル−
N′−フェニル−1,4−フ二二しンジアミン、フェノ
チアヂンなどが含まれる。
−ナフチル−1,4−フェニレンジアミイソプロピル−
N′−フェニル−1,4−フ二二しンジアミン、フェノ
チアヂンなどが含まれる。
この抑制剤の含浸剤中に用いられる種類と割合は他の含
浸剤組成物との組合せによって変化するが、その含有割
合は10〜2000ppm好ましくは100〜1200
ppmである。
浸剤組成物との組合せによって変化するが、その含有割
合は10〜2000ppm好ましくは100〜1200
ppmである。
本発明では必要ならば公知の非重合性または重合性シラ
ンカップリング剤やチタンカップリング剤を併用するこ
とも可能である。
ンカップリング剤やチタンカップリング剤を併用するこ
とも可能である。
本発明では必要ならば公知の重合促進剤たとえば、N−
アミノロダニンや、メルカプトカルボン酸またはそのエ
ステルと、有機アミン類との配合物などドデシルメルカ
プタン、チオグリコール酸。
アミノロダニンや、メルカプトカルボン酸またはそのエ
ステルと、有機アミン類との配合物などドデシルメルカ
プタン、チオグリコール酸。
チオベンジルアルコール、2硫化ジベンタメチレンエチ
ラウムなどR5A(AはHまたはSR’ 、 R及びR
1は炭素数10までの炭化水素基でありチオール及びチ
オエーテルの性能に悪影響を与えない任意の置換物また
は鎖交物3炭化水素とその他を含んでもよい)などを添
加して硬化時間を調整することもできる。必要量は含浸
剤配合物中の他の成分の種類及びそれらが含まれる割合
によって変化するが、−船釣には配合物中の約0.01
〜10.0重量%、好ましくは0.2〜5.0重量%で
ある。
ラウムなどR5A(AはHまたはSR’ 、 R及びR
1は炭素数10までの炭化水素基でありチオール及びチ
オエーテルの性能に悪影響を与えない任意の置換物また
は鎖交物3炭化水素とその他を含んでもよい)などを添
加して硬化時間を調整することもできる。必要量は含浸
剤配合物中の他の成分の種類及びそれらが含まれる割合
によって変化するが、−船釣には配合物中の約0.01
〜10.0重量%、好ましくは0.2〜5.0重量%で
ある。
必要ならば未硬化含浸剤の水洗性を向上させるために含
浸剤中に界面活性剤ないし乳化剤、湿潤剤、洗浄剤を含
むこともできる。界面活性剤としては陽イオン系及び陰
イオン系の界面活性剤も使用できるが、非イオン系界面
活性剤が好ましい。
浸剤中に界面活性剤ないし乳化剤、湿潤剤、洗浄剤を含
むこともできる。界面活性剤としては陽イオン系及び陰
イオン系の界面活性剤も使用できるが、非イオン系界面
活性剤が好ましい。
これは未硬化含浸剤に自己乳化性もしくは洗浄性を与え
、含浸後の多孔性物体を水洗して余分な。
、含浸後の多孔性物体を水洗して余分な。
あるいは未硬化の含浸剤を除去するのに有効となる。そ
れらは重合性単量体組成物に可溶であり。
れらは重合性単量体組成物に可溶であり。
組成物の安定性や硬化特性及び硬化した含浸多孔性物体
の諸物性に悪影響を与えないものでなければならない。
の諸物性に悪影響を与えないものでなければならない。
必要ならば公知のように金属イオンキレート剤の一種ま
たはそれ以上を配合することもできる。
たはそれ以上を配合することもできる。
たとえば配位原子が窒素であるジピリジル、トリービス
(6′−メチル−2′−ピリジルメチレンアミノ)エタ
ン(MPE)などがある、また、配位原子が窒素と酸素
から成るキレート剤としてはテトラナトリウムエチレン
ジアミンテトラ酢酸などのアミノポリカルボキシレート
、O−アミノフェノール、8−ヒドロキシキノリン、サ
リシルアルデヒドなどの置換ヒドロキシアリール類など
が含まれる。金属イオンキレート剤の含浸剤中の配合割
合は使用するキレート剤と他の含浸剤組成物との組合せ
によって変化するが通常1〜11000pp (重量
部)であり、好ましくは10〜5001)I)Itであ
る。
(6′−メチル−2′−ピリジルメチレンアミノ)エタ
ン(MPE)などがある、また、配位原子が窒素と酸素
から成るキレート剤としてはテトラナトリウムエチレン
ジアミンテトラ酢酸などのアミノポリカルボキシレート
、O−アミノフェノール、8−ヒドロキシキノリン、サ
リシルアルデヒドなどの置換ヒドロキシアリール類など
が含まれる。金属イオンキレート剤の含浸剤中の配合割
合は使用するキレート剤と他の含浸剤組成物との組合せ
によって変化するが通常1〜11000pp (重量
部)であり、好ましくは10〜5001)I)Itであ
る。
次に1本発明の含浸剤の使用が、従来の含浸剤のそれよ
り著しく優れたものであることを説明するために、以下
に数実施例を示すが1本発明はこれに限定されるもので
はない、また、特に記載されていない限り、下記の例に
おける%並びに比はすべて重量基準である。
り著しく優れたものであることを説明するために、以下
に数実施例を示すが1本発明はこれに限定されるもので
はない、また、特に記載されていない限り、下記の例に
おける%並びに比はすべて重量基準である。
(実施例1)
1−メタクリロイルオキシ−4−メチル−2゜6.7−
)リオキサビシクロ(2,2,2)オクタン30;ヒド
ロキシエチルメタクリレート50;ジエチレングリコー
ルジメタクリレート10;トリメチロールプロパントリ
メタクリレートlO;ハイドロキノン0.01;キレー
ト(MPE)剤0.05にジブロビルペルオキシジカル
ボナートのαサイクロデキストリン包接体5を加えた含
浸剤の95°C140°Cでの硬化時間は各2分、3ケ
月以上であった。また、95°C′?!10分硬化した
後1日放置して測定した体積収縮率は5%であり試験管
テストの外観は気泡、亀裂もなく良好で均一硬化物を得
ることができた。比較のためヒドロキシエチルメタクリ
レート86;ジエチレングリコールジメタクリレート7
;トリメチロールプロパントリメタクリレート7;ハイ
ドロキノン0.01iキレート剤0.05に包接体の代
りに同一の開始剤1を加えた含浸剤の上記温度での硬化
時間は各1゜5分、3日であった。また、上記同条件で
の体製が生じていた0本含浸剤の95℃での硬化時間は
あまりおそくならないにもかかわらず可使時間(40℃
)が大巾に改善され体積収縮率も小さく優秀な含浸剤で
あることがわかる。
)リオキサビシクロ(2,2,2)オクタン30;ヒド
ロキシエチルメタクリレート50;ジエチレングリコー
ルジメタクリレート10;トリメチロールプロパントリ
メタクリレートlO;ハイドロキノン0.01;キレー
ト(MPE)剤0.05にジブロビルペルオキシジカル
ボナートのαサイクロデキストリン包接体5を加えた含
浸剤の95°C140°Cでの硬化時間は各2分、3ケ
月以上であった。また、95°C′?!10分硬化した
後1日放置して測定した体積収縮率は5%であり試験管
テストの外観は気泡、亀裂もなく良好で均一硬化物を得
ることができた。比較のためヒドロキシエチルメタクリ
レート86;ジエチレングリコールジメタクリレート7
;トリメチロールプロパントリメタクリレート7;ハイ
ドロキノン0.01iキレート剤0.05に包接体の代
りに同一の開始剤1を加えた含浸剤の上記温度での硬化
時間は各1゜5分、3日であった。また、上記同条件で
の体製が生じていた0本含浸剤の95℃での硬化時間は
あまりおそくならないにもかかわらず可使時間(40℃
)が大巾に改善され体積収縮率も小さく優秀な含浸剤で
あることがわかる。
なお1本実施例における含浸剤を孔径10μ端。
100μm2種類の焼結金属に含浸硬化させたものはシ
ールテストで合格であった。
ールテストで合格であった。
(実施例2)
1−アクリロイルオキシ−4−エチル−2,6゜7−ト
リオキサビシクロ(2,2,2)オクタン40;ヒドロ
キシプロピルメタクリレート50;1.2−プロピレン
グリコールジメタクリレート10に2.6−t−ブチル
クレゾール0.09 :ベンゾイルベルオキシドのβ−
サイクロデキストリン包接体3を加えた含浸剤の95°
C540℃での硬化時間は各3分、3ケ月以上であった
。また90℃で8分硬化した後1日放置した硬化物の体
積収縮率は6%であった。比較のためヒドロキシプロピ
ルメタクリレート83;1,2−プロピレングリコール
ジメタクリレート17;2.6−t−ブチルクレゾール
0. Q 9 ;ベンゾイルペルオキシド0、5を含む
含浸剤の上記温度での硬化時間は各2.5分、14日で
あり1体積収縮率は19%であった。なお本実施例にお
ける含浸剤を孔径10μ−1100μ箇2種類の焼結金
属に含浸硬化させたものは、シールテストで合格であっ
た。
リオキサビシクロ(2,2,2)オクタン40;ヒドロ
キシプロピルメタクリレート50;1.2−プロピレン
グリコールジメタクリレート10に2.6−t−ブチル
クレゾール0.09 :ベンゾイルベルオキシドのβ−
サイクロデキストリン包接体3を加えた含浸剤の95°
C540℃での硬化時間は各3分、3ケ月以上であった
。また90℃で8分硬化した後1日放置した硬化物の体
積収縮率は6%であった。比較のためヒドロキシプロピ
ルメタクリレート83;1,2−プロピレングリコール
ジメタクリレート17;2.6−t−ブチルクレゾール
0. Q 9 ;ベンゾイルペルオキシド0、5を含む
含浸剤の上記温度での硬化時間は各2.5分、14日で
あり1体積収縮率は19%であった。なお本実施例にお
ける含浸剤を孔径10μ−1100μ箇2種類の焼結金
属に含浸硬化させたものは、シールテストで合格であっ
た。
(実施例3)
3−メチレン−1,5,7,10−テトラオキサスピロ
(5,4)デカン50;ブチルメタクリレート20;ブ
タンジオールジメタクリレート10;ジエチレングリコ
ールモノメタクリレート20;メチルハイドロキノン0
.038ジクロロベンゾイルペルオキシドの2.6−ジ
メチルβ−サイクロデキストリン包接体8を含む含浸剤
の95°C940°Cでの硬化時間は各3分、3ケ月で
あった。
(5,4)デカン50;ブチルメタクリレート20;ブ
タンジオールジメタクリレート10;ジエチレングリコ
ールモノメタクリレート20;メチルハイドロキノン0
.038ジクロロベンゾイルペルオキシドの2.6−ジ
メチルβ−サイクロデキストリン包接体8を含む含浸剤
の95°C940°Cでの硬化時間は各3分、3ケ月で
あった。
また、80°Cで5分、90℃で3分硬化後、室温で1
日放置した硬化物の体積収縮率は4%であった。比較の
ため3−メチレン−1,5,7,10−テトラオキサス
ピロ(5,4)デカンを含ます上記温度での硬【待゛1
は各3分、14日であり。
日放置した硬化物の体積収縮率は4%であった。比較の
ため3−メチレン−1,5,7,10−テトラオキサス
ピロ(5,4)デカンを含ます上記温度での硬【待゛1
は各3分、14日であり。
同条件での硬化物の体積収縮率は15%であった。
(実施例4)
2−メチレン−1,4,6−)リオキサスピロ〔4,6
〕ウンデカン40;2エチルへキシルメタクリレート4
0;グリセリントリメタクリレート10;ジエチレング
リコールジメタクリレート10;2.5−ジ−t−ブチ
ルハイドロキノン0.08; 2.2’−アゾビス(
2,4−ジメチルバレロニトリル)の2.6−ジメチル
β−サイクロデキストリン包接体6を加えた含浸剤の銅
ブロツク共存下の95°C940°Cでの硬化時間は各
2分、3ケ月であり、95°Cで4分硬化後室温で1日
放置した硬化物の体積収縮率は5%であり試験管テスト
の外観は気泡や亀裂もなく良好で均一硬化物を得ること
ができた。比較のため2−メチレン−1,4,6−)リ
オキサスビロ(4,6)ウンデカンを含ます包接体の代
りに同一の開始剤1を加えた配合物の上記条件での硬化
時間は各2分。
〕ウンデカン40;2エチルへキシルメタクリレート4
0;グリセリントリメタクリレート10;ジエチレング
リコールジメタクリレート10;2.5−ジ−t−ブチ
ルハイドロキノン0.08; 2.2’−アゾビス(
2,4−ジメチルバレロニトリル)の2.6−ジメチル
β−サイクロデキストリン包接体6を加えた含浸剤の銅
ブロツク共存下の95°C940°Cでの硬化時間は各
2分、3ケ月であり、95°Cで4分硬化後室温で1日
放置した硬化物の体積収縮率は5%であり試験管テスト
の外観は気泡や亀裂もなく良好で均一硬化物を得ること
ができた。比較のため2−メチレン−1,4,6−)リ
オキサスビロ(4,6)ウンデカンを含ます包接体の代
りに同一の開始剤1を加えた配合物の上記条件での硬化
時間は各2分。
10日体積収縮率は、18%であり、上記試験管テスト
では不連続亀裂が生じていた。なお9本実施例における
含浸剤を孔径10am、100μm2種類の焼結金属へ
含浸硬化させたものはシールテストで合格であった。
では不連続亀裂が生じていた。なお9本実施例における
含浸剤を孔径10am、100μm2種類の焼結金属へ
含浸硬化させたものはシールテストで合格であった。
(実施例5)
1−ビニル−4−エチル−2,6,”7−トリオキサビ
シクロ(2,2,2)オクタン40;オクチルメタクリ
レート10;エチルメタクリレート40;1,2−プロ
ピレングリコールジメタクリレート10;ハイドロキノ
ン0.03;2−t−アミルハイドロキノン0.04
Bジクミルペルオキシドのγ−サイクロデキストリン包
接体9とを含む含浸剤の95°C140℃での硬化時間
は各6分。
シクロ(2,2,2)オクタン40;オクチルメタクリ
レート10;エチルメタクリレート40;1,2−プロ
ピレングリコールジメタクリレート10;ハイドロキノ
ン0.03;2−t−アミルハイドロキノン0.04
Bジクミルペルオキシドのγ−サイクロデキストリン包
接体9とを含む含浸剤の95°C140℃での硬化時間
は各6分。
3ケ月以上及び90″Cで5分硬化後室温で1日放置し
た硬化物の体積収縮率は3%であった。比較のため1−
ビニル−4−エチル−2,6,7−トリオキサビシクロ
(2,2,2)オクタンを含まず包接体の代りに同一の
開始剤1を加えた配合物の上記条件での硬化時間は各5
分、10日体積収縮率は、14%で本□9また。
た硬化物の体積収縮率は3%であった。比較のため1−
ビニル−4−エチル−2,6,7−トリオキサビシクロ
(2,2,2)オクタンを含まず包接体の代りに同一の
開始剤1を加えた配合物の上記条件での硬化時間は各5
分、10日体積収縮率は、14%で本□9また。
1.1
〔発明の効果〕−一−
本発明による含浸剤は、低収縮性もしくは非収縮性の重
合性単量体を含み更に重合開始剤を包接することによっ
て該開始剤を含む含浸剤の貯蔵寿命及び可使時間を長く
しながら、加熱時には包接から重合開始剤がぬけ出て分
解し重合を開始し硬化時において体積収縮を防ぐことが
できる。
合性単量体を含み更に重合開始剤を包接することによっ
て該開始剤を含む含浸剤の貯蔵寿命及び可使時間を長く
しながら、加熱時には包接から重合開始剤がぬけ出て分
解し重合を開始し硬化時において体積収縮を防ぐことが
できる。
更に1本発明による含浸剤を金属鋳物及び焼結金属等に
含浸するには、被処理物を含浸剤に浸漬後、これらの入
った含浸タンクを密閉して真空含浸を行うかあるいは、
被処理物を空の含浸タンクに入れて真空にしてから含浸
剤を吸入させて行うこともできるが、真空加圧含浸法が
もっとも効果が高い、即ち、含浸タンクに被処理物を入
れ、真空ポンプで通常29amHg以下の真空度とし、
10分間以上保持した後、含浸剤を含浸タンクに吸入さ
せ、被処理物が含浸剤中に浸漬するようにする。
含浸するには、被処理物を含浸剤に浸漬後、これらの入
った含浸タンクを密閉して真空含浸を行うかあるいは、
被処理物を空の含浸タンクに入れて真空にしてから含浸
剤を吸入させて行うこともできるが、真空加圧含浸法が
もっとも効果が高い、即ち、含浸タンクに被処理物を入
れ、真空ポンプで通常29amHg以下の真空度とし、
10分間以上保持した後、含浸剤を含浸タンクに吸入さ
せ、被処理物が含浸剤中に浸漬するようにする。
次いで、0.5〜1.5kg/cdの圧縮空気で、10
分間以上加圧する。含浸した被処理物は必要ならぼ表面
洗浄する。含浸した被処理物は加熱した熱媒体中に浸漬
するか、熱風乾燥機のような加熱室内に入れて昇温させ
て、浸透させた含浸剤を硬化させると被処理物の細孔を
確実に封止することができる。
分間以上加圧する。含浸した被処理物は必要ならぼ表面
洗浄する。含浸した被処理物は加熱した熱媒体中に浸漬
するか、熱風乾燥機のような加熱室内に入れて昇温させ
て、浸透させた含浸剤を硬化させると被処理物の細孔を
確実に封止することができる。
Claims (6)
- (1) (A)▲数式、化学式、表等があります▼ (B)▲数式、化学式、表等があります▼ (C)▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(A)で表わされるビシクロオルソエステル基〔
但し、R^1はCH_2=C(R^8)CO_2R^9
−(ここでR^8はHまたはCH_3、R^9は該化合
物を安定に存在せしめ、且つ重合反応を妨げない任意の
有機残基である)またはCH_2=CHで表わされるエ
チレン性不飽和基などであり、また、R^2は水素原子
及びR^9と同様の該化合物を安定に存在せしめ、且つ
重合反応を妨げない任意の有機残基である〕(B)で表
わされるスピロカルボナート基(但し、R^3は該化合
物を安定に存在せしめ、且つ重合反応を妨げない任意の
有機残基である)(C)で表わされるスピロオルソエス
テル基(但し、R^4〜R^7は水素原子及び、該化合
物を安定に存在せしめ、且つ重合反応を妨げない任意の
有機残基などであり、その中の少なくとも一つはアルケ
ニル基を含む。また、R^4とR^6及びR^5とR^
7とは各々一体化して一つのメチレン基を形成し得る、
更に、R^4とR^5もしくはR^6とR^7とは一体
化して−R^6C=CR^7−あるいは、−R^4C=
CR^5−基を形成し得る。更に、また、R^4〜R^
7とは相互に連結して単環および多環を形成することも
できる。また、ここでAは該化合物を安定に存在せしめ
、且つ重合反応を妨げない任意の有機残基である)など
を少なくとも1個有するエチレン性不飽和化合物の中か
ら選ばれた少なくとも1種及び2種以上の化合物を含む
重合性ビニル単量体と重合開始剤をサイクロデキストリ
ン類にて処理して得られたサイクロデキストリン類包接
化合物とを構成成分としたことを特徴とする多孔性物体
用微収縮性含浸剤。 - (2)重合開始剤が過酸化物の1種またはそれ以上の化
合物からなる請求項(1)記載の微収縮性含浸剤。 - (3)重合開始剤がアゾ化合物の1種またはそれ以上の
化合物からなる請求項(1)記載の微収縮性含浸剤。 - (4)サイクロデキストリン類が、α−、およびβ,γ
−サイクロデキストリンまたはそれらから得られる置換
サイクロデキストリン類の中から選ばれた1種またはそ
れ以上の化合物からなる請求項(1)記載の微収縮性含
浸剤。 - (5)重合禁止剤、金属キレート剤、重合促進剤、カッ
プリング剤、界面活性剤、乳化剤、湿潤剤、洗浄剤の1
種またはそれ以上の化合物を含む請求項(1)記載の微
収縮性含浸剤。 - (6)ビシクロオルソエステル基、スピロカルボナート
基、スピロオルソエステル基などを少なくとも1個有す
るエチレン性不飽和化合物の中から選ばれた少なくとも
1種及び2種以上の化合物を主成分とし、これに過酸化
物系あるいはアゾニトリル系その他のフリーラジカル触
媒のサイクロデキストリンあるいはその誘導体との包接
化合物を添加することにより得られた微収縮性含浸剤を
、多孔性物体の細孔に充満させ、該材料の表面を水洗し
過剰の含浸剤を除去し、その後該材料を熱水もしくは乾
熱処理して、細孔中の含浸剤を硬化させることを特徴と
する請求項(1)記載の微収縮性含浸剤を用いて被処理
物の細孔を封止する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6929588A JPH01242681A (ja) | 1988-03-25 | 1988-03-25 | 貯蔵安定な多孔性物体用微収縮性含浸剤及びこれを用いて被処理物の細孔を封止する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6929588A JPH01242681A (ja) | 1988-03-25 | 1988-03-25 | 貯蔵安定な多孔性物体用微収縮性含浸剤及びこれを用いて被処理物の細孔を封止する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01242681A true JPH01242681A (ja) | 1989-09-27 |
JPH0548794B2 JPH0548794B2 (ja) | 1993-07-22 |
Family
ID=13398439
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6929588A Granted JPH01242681A (ja) | 1988-03-25 | 1988-03-25 | 貯蔵安定な多孔性物体用微収縮性含浸剤及びこれを用いて被処理物の細孔を封止する方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01242681A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016505683A (ja) * | 2012-12-27 | 2016-02-25 | シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイShell Internationale Research Maatschappij Beslotenvennootshap | 組成物 |
-
1988
- 1988-03-25 JP JP6929588A patent/JPH01242681A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016505683A (ja) * | 2012-12-27 | 2016-02-25 | シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイShell Internationale Research Maatschappij Beslotenvennootshap | 組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0548794B2 (ja) | 1993-07-22 |
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