JPH01236968A

JPH01236968A - 塗布方法

Info

Publication number: JPH01236968A
Application number: JP6360188A
Authority: JP
Inventors: Shinsuke Takahashi; 伸輔高橋; Tokuo Shibata; 徳夫柴田; Tsunehiko Sato; 佐藤　恒彦
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1988-03-18
Filing date: 1988-03-18
Publication date: 1989-09-21
Anticipated expiration: 2011-09-04
Also published as: JP2530202B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は塗布方法、特に、塗布型磁気記録媒体における
改良された塗布方法に関するものである。

（従来技術）本発明で言う塗布型磁気記録媒体とは、非磁性かつ可撓
性の帯状支持体（以下、「ウェブ」と称する。）を所定
の走行路に沿って連′続的に移送させながら、酸ウェブ
の表面に目的に応した塗布液を所望する厚さに塗着、乾
燥して成り、イオンブレーティング、スパフタリング、
真空蒸着等の方式による、所謂、非塗布型磁気記録媒体
とはその製造プロセスを著しく異にするものである。

オーディオ、ビデオあるいはデーター系の磁気記録媒体
の大部分は、依然として前記塗布型のものが多く生産、
販売され、それらは一般にグラビヤ、リバースロール、
ドクターブレード、エクストルージョン、等の塗布方式
によって製造されていた。

しかしながら、前述した従来の各塗布方式は、増産灯の
要請によりその塗布速度を大幅に上昇させることが困難
であった。

塗布速度の高速化を回能にしている要因は、主として、
前記支持体の厚さが掻めて薄いことと、各塗布液の内、
特に、強磁性層用の塗布液が′：４．磁変喚特性に大き
な影響を与える探度性、所謂、チキソトロピックな性質
を有していること、等が挙げられる。

又、前記強磁性層用の塗布液の流路に停滞個所が比較的
多く構成されている塗布方式では、前記探度性による異
常な粘度上昇や凝集が発生し易く、その結果、前記強も
ｎ性層の電磁変換特性、等が大きく変動することがあっ
た。この問題は従来より用いられているエクストルージ
ョン型塗布Ｗ　１においてエクストルーダーのスリード
（吐出口）から吐出される塗布ｉｔを絞るに従いエクス
トルーダの液溜りに給液する供給口とは反対側寄りにお
いて液（凝集が生じ易くなり、この液イ疑集による塗布
層の縦スジが多発し、反対に給Ｍｆｆｉを増して行くと
前記縦スジは減少する傾向にあるが塗布層の色ムラ（厚
みムラ）が塗布幅全域に広がる傾向があった・さらに前記色ムラや縦スジの発生原因については、前記
液溜めエクストルーダ長手方向の流速が前記ｌ？変性を
大きく支配していること、具体的には、比較的流速が大
なる給液側近傍の塗布液は剪断作用を受けて粘度が下り
易く、色ムラの発生原因となり、又、流速が略零まで下
る反給液側の塗布液は凝集し易り、縦スジの発生原因と
なるものと判断されている。

このような解析の結果、特公昭６０−５３６７４号公報
に示されるような１ｇがされている。これは、連続的に
移動している可撓性帯状支持体の表面に対向せしめたス
リット先端部から塗布液を連続的に排出することにより
前記支持体の表面に前記塗布液のＦｉ４膜を層設する塗
布方法において、前記スリットに連通ずるリフストルー
ダ−の液溜りに前記塗布液を前記支持体上の塗着量より
も多く供給するとともに、前記液溜り内の塗布液の一部
を前記液溜りの給液位置から前記支持体の幅方向に最も
離れた位置又はその近傍より前記スリットを介さずに流
出せしめることを特（衣とする塗布方法である。

上記特公昭６０−５３６７４号に示された方法により、
縦スジ、色ムラをかなり改善することができ、強磁性層
の電磁変換特性の向上を図ることができた。

しかし、１１ｉ記塗布液の塗布時における探度性とエク
ストルーダ内の液溜めへの給液２ＬＭｔの関係について
更に検討、改良すべき課題が残されていた。

、Ｌ記課題とは、特公昭６０−５３６７４号公報に示さ
れたく裏布ノズル以外の排出口から塗布液を流出する流
出型エクストルーダにおいては、ある給液量（液溜めに
供給する糖）に対して、塗布量と流出量（排出口からの
流出量）のバランスは、エクストルーダの塗布ノズル及
び排出口の塗布液に生じる圧力バランスにより決定され
る。すなわち、エクストルーダの形状や送液系、塗布液
の物性などの諸条件によって塗布■ならびに流出量の設
定が制限を受けるために、色ムラ、縦スジを少なくする
ために行う流出量の調節範囲が狭いという課題があった
。又塗布工程中において、塗布液の物性は、例えば製造
ロットによって厳密にみれば変動するものであり、この
変動によって塗布液の圧力に変動を生じたり、流速にも
変化が生じているものと考えられる。

（発明の目的）゛本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、色ムラ
や縦スジの発生を広範囲の製造条件下に適用でき電磁変
換特性にすぐれた磁気記録媒体を安定製造可能な塗布液
の塗布方法を提供することを目的とするものである。

（発明の構成）本発明の係る目的は、連続的に移動している可撓性帯状
の支持体の表面に対向せしめたスリット先端部から塗布
液を連続的に排出することにより前記支持体の表面に前
記塗布液のｙｉ膜を層設する塗布方法において、前記ス
リットに連通ずるエクストルーダの液溜めに前記塗布液
を前記支持体上の塗−１ｆｆｉよりも過剰量供給すると
ともに、前記液溜め内の塗布液の一部を前記液溜めの給
液位置から前記支持体の幅方向に最も離れた位置又はそ
の近傍の排出口から外部排液手段による強制的に抜き取
ることを特徴とする塗布方法により達成される。

以下、添付した図面に基づいて本発明方法の実施態様を
説明する。

第１図及び第２図は本発明方法を実施するためのエクス
トルーダを示すものであり、バッキングロール７により
支持されて一定速度で移送される支持体４の表面に対し
、下方より僅少の間隙（通常、２〜１５０ｍｍ）をもっ
てエクストルーダー４０のスリット２の先端部を垂直に
対向させるとともに、前記支持体４の表面に対する塗着
ＩＱ１よりも多い供給量Ｑ０をもって、給液ノズル１２
から塗布液３を液溜めｌＯ内に連続して圧送すると、該
塗布液３は前記液溜め１０内全域に充満した後、その液
圧分布が前記支持体４の幅方向にほぼ均一化されながら
、その一部は前記給液ノズル１２から前記支持体４の幅
方向に最も離れた位置即ち前記液溜め１０の他方端に取
付けた排液ノズル４１から器外に、後述する外部排液手
段である引抜ポンプＰ！により前記液溜めＩＯ内の過剰
塗布液を強制的に抜き取るようにする。

第３図におけるエクストルーダー６０は、第１図及び第
２図におけるエクストルーダー４０と比べ、給液ノズル
６２の位置と液溜め６１の形状が若干異なるものである
。

このエクストルーダー６０は前記給液ノズル６２がほぼ
中央に位置した、所謂、中央供給方式型であり、前述し
た片側供給方式のエクストルーダー４０よりも前記縦ス
ジや色ムラが発生し難いものであるが、前記塗布液３の
物性によって、前記舟底型の液溜り６１の両端部近傍と
中央部で前述した電磁変換特性のバラツキをもたらす縦
スジや色ムラが発生しやすい傾向にあるが、前記液溜り
６１の両端部に夫々排液ノズル６３．６４を取付け、前
述した如く塗布液３の一部を流出せしめることにより、
幅方向に均一な品質の塗膜を得ることができる。

なお、前記排液ノズル４１．６３．６４は前記液溜め１
０．６１の端部に限らず、その近傍のエクストルーダー
ブロックに流路を透設しても良い。

なお、第２図においては、前記エクストルーダー４０を
一ヒ向きに設けたものを図示したが、必要に応し前記エ
クストルーダー４０．６０を垂直下向きに前記支持体４
に対向せしめることも可能であることは勿論である。

更に、前記エクストルーダー４０．６０はそのスリット
２の先端部を前記バッキングローラー７から離れた位置
にある前記支持体４の表面に直接接触するように対設し
、塗着した前記塗布液３の液圧により前記支持体４を前
記スリット２の先端部から若干離脱せしめるような塗布
も可能である。

上記のように構成されたエクストルーダー４０．６０を
用いた本実施態様の送液系の概略図を第４図に示す。

ストックタンク２０内に貯蔵されている前記塗布液３は
給液ポンプＰ１により送り出され、このとき流量計ＦＭ
、にて計量しつつフィルタｆを通り前記エクストルーダ
ー４０．６０に送り込まれる。又これと同時に、前記排
液ノズル４１　（６３，６４）からエクストルーダー内
の塗布液３の一部は給液系とは別系統の外部排液手段で
ある引抜ポンプＰ２により流量計ＦＭ、で計量されつつ
引き抜かれる。

従って、前記スリット２から流出する前記塗布液３のＩ
（Ｑｌ）は、前記流量針ＦＭ、　　とＦＭ、との流量差
（ＱＯＱりで現される量が前記支持体４に塗布されるこ
とになる１、そして、送ｉ＆　ｆｆｉは前記流量計ＦＭ
、によって計測された計測値に基づいて、制御盤２１に
より送液ポンプＰ１の回転をコントロールできるように
なされている。一方、前記排液ノズル４１　（６３，６
４）からの引き抜き液量は、前記流量計ＦＭ、によって
計測された値に基づいて制御盤２２による引抜きポンプ
Ｐ２の回転をコントロールして引抜き型を適宜変えるこ
とができる。

なお、送液ポンプＰ、ならびに引抜ポンプＰ２について
は、送液が滑らかで安定したものが望ましく、どのよう
な型式のポンプでもよく特に限定するものではない。特
に、前記引抜ポンプＰ２においては、前記排液ノズル４
１　（６３，６４）から塗布液３を引き抜く作用を有す
る手段であれば、塗布液３の循環用のポンプであっても
よく、ヌ他の送府下段であってもよい。

Ｌ記のような塗布方法に従うと、前記エクストルーダー
４０　（６０）のノズル２から吐出する液量は弓１挨ポ
ンプＰ２によってもコントロールできるので、従来のエ
クストルーダーのように送液ポンプ［）１　による送液
圧力及び排液ノズル４１　（６３，６４）に取り付けた
バルブ■（第９図参照）の調節により決定されていたの
に比べて、塗布量の調整が広い範囲において安定調整可
能となり、色ムラや縦スジなどの発生し難い範囲を広く
することができる。すなわち、前記引抜ポンプＰ２の引
抜き力は、前記液溜め１０．６１内における前記塗布？
＆３の流速を全域において均一化し、前記液溜めｌＯ内
の塗布液３に生しる圧力変動や過剰圧力の発生を抑え、
且つ塗布液３の実効的な流動性を高めた状態を保つこと
ができ、前記スリット２から吐出される前記塗布液３の
挙動安定化を図ることができる。又、異なった観点から
見ると、同じ塗布量を得る場合でも、前記送液ポンプＰ
、　と前記引抜ポンプＰ２の運転状態を適宜変えること
によって、前記塗布液３の異なった送液条件とすること
ができ、送液量などの条件設定の自由度が高められる。

第４図に示す実施態様に、おいては、制御盤２１．２２
により送液側と引抜き側とを別々に制御したが、所望の
流量差を得られるように設定できる他の制御手段により
両ポンプＰ＋、Ｐｚを同時制御シてもよい。又、本発明
方法はこれに限るものではなく、例えば第５図〜第８図
に示すように変更することもできる。

第５図に示す場合は、前記送液ポンプＰ１を一定回転で
運転しておき、前記流量計ＦＭ、　　とＦｌｙｉ。

との測定値に基づき送液量（Ｑｏ）と引抜きＩ（ｑｚ）
との流量差を所望に保つべく、制御盤２３により前記引
抜ポンプＰ２だけをコントロールする。

第６図に示す場合は、第５図に示した場合とは逆に前記
引抜ポンプＰ、を一定回転で運転し、前記制御盤２３に
より前記送液ポンプＰ１だけをコントロールする方法を
示す。

第７図に示す場合は、第４図に示すものと同様の制御盤
２１．２２に実って送液量と引抜き液量とを適宜コント
ロールするが、第４図に示した場合とは送液経路が異な
り、引抜いた塗布液３を前記流量計ＦＭ、　　と前記エ
クストルーダ４０　（６０）の間に再び戻るようにする
。従って、前記エクストル−ター４０（６０）内をＩＪ
１過するＡ；ｊ記塗布＊３（７）密ヘイされたｖ８環系
が引抜ポンプｐｇ　により形成されて餘り、前記塗布液
３は常に安定した応力が加えられ粘度、流動性が安定に
保たれる。なお、この場合、前記引抜ポンプＰ２に定量
性の高いポンプを用いれば自記流量計ＦＭ、を省略する
ことも可能である。

第８図に示す場合は、第６図に示した方法と同様に、ｉ
ｊｉ記引抜ポンプＰ２を一定回転で運転し、前記制（’
［Ｕ盤２３により前記送液ポンプＰ、をコントロールす
ると共に、前記引抜ポンプＰ２により引き抜いた前記塗
布液３を前記送液ポンプＰ１　と前記、ｋ　’１１計と
の間に戻す循環系を形成するようにしである。

（発明の効果）以上述べたように、本発明の方法はエクストルーダーの
液溜りに塗布量よりも過剰量の塗布液を供給すると共に
液溜りの適所に設けた排出口から前記塗布液の一部を強
制的に抜き取るようにしたので、塗布量が送り込み側の
送液量に大きく依存していた従来の塗布方法に比べて、
塗布量の調整は塗布液の送り込み側と引抜き側との両方
の流量コントロールにより行うことができ、例えば同し
塗布量の設定においても送り込み量と引抜き量との差を
所望に保った状態で送流系全体を流れる流量を変化する
ことができる等の如く設定条件の選択範囲が広くなり、
従来よりもより安定かつ高精度の塗布条件とすることが
できる。又前記塗布液の探度性の観点からみて本発明の
如く、前記排出口からポンプ等により強制的に抜き取る
ようにすることにより、エクストルーダー内の流速を均
一化することができ、粘度や流動性などの液物性の安定
状態を作り出すことができるので、咳？！物性の変動に
起因した色ムラや縦スジの防止効果を向上させることが
できる。

次に、実施例及び比較例により本発明方法の新現な効果
を一層明確にする。

（実施例）第１表に示す組成の各成分をボールミルに入れて１分に
混合分散させたのち、エポキシ樹脂（エポキシ当量５０
０）を３０重１部を加えて均一に混合分１１シさせて磁
性塗布液とした。

第　　１　　表こうして得られた磁性塗布液の平衡粘度を島津製作所の
島津レオメータＲＭ−１により測定したところ剪断速度
が１０ｓｅｃ−’において７　ｐｏｉｓｅを示した。

上記磁性塗布液を第１図及び第２図に示すエクストルー
ダー４０を用いて第４図に示した方法によりポリエチレ
ンテレフタレートフィルム支持体に塗布した。なお、塗
布条件については第２表に示す。

第　　２　　表上記のような塗布条件において、５００ｍ塗布し一旦装
置の作動を停止させ、その３時間後に再び同し条件下に
おいて５００ｍ塗布を行った。その結果は第３表の通り
であった。

（比較例）第１表に示す磁性塗布液と同じものを第９図に示す塗布
方法により、第２表に示す条件に従って塗布を行った。

なお、第９図に示す方法は、給液ポンプＰ、により送り
出された塗布液３は、ｍｌ計ＦＭ、　で計量されてエク
ストルーダ４０に入る。

このエクストルーダ４０の排液ノズル４１側には手動操
作により流量変化可能な可変バルブ■が設けられ、前記
塗布液３の一部が流出する。そしてこの流出量は流量計
ＦＭ！により計量されている。

上記のように実施例とほぼ同様な条件において、５００
　ｍ　２布し、−旦装置の作動を停止させ、３時間後に
再び同じ条件下において５００ｍの塗布を行った。その
結果は第３表の通りであった。

第　　３　　表なお、第３表に示す平均膜厚の測定には東京主１１書（
掬ミニコム接触弐膜厚計（Ｅ−Ｍ４３Ｋ）を用いた。θ
り定方性としては塗布された標本サンプルの膜工γを測
定後、測定部の塗厚を溶剤を用いてはがし支持体１７を
測定する。そして、両者の差を求め、塗膜厚を算出する
ものである。以上の測定を幅方向に５カ所、長手方向に
２ｍごと４カ所の計２０カ所について行ない、平均膜厚
を求めた。

また、賽スジについては目視による観察を行った。

第３表から明らかなように、初朋設定時における平均／
舎布ｊ￥および縦スジについては、比較例と実迩例とは
同様に良好な結果を示すが、塗布工程を一定時間停止さ
せることにより、塗布液の探度性に起因した液物性変化
が生じたときにおいては、比較例では粘度、流動性の変
化が直接塗布精度の悪化として現れているが、本発明に
基づいた実施例においては常に安定した塗布が行うこと
ができた。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図、第３図は夫々本発明の塗布方法を実施
するための装置の要部を示す概略図、第４図〜第８図は
それぞれ本発明の塗布方法にょる送液制御を示すための
概略図、第９図は従来の塗布方法を示した概略図である
。２・・・スリット　　　　　　３・・・塗布液、４・・
・支持体、　　　　　７・・・バッキングロール、１０
．６１・・・液溜め、　　　１２．６２・・・供給ノズ
ル、２０・・・ストックタンク、　２１．２２．２３・
・・制御盤、４０．６０・・・エクストルーダ、６３．６４・・・排液ノズル。 −丁　続　ネｉｔｉ　　正　ｐｌｉ、　　＝ｒ、ｎの表示昭和６３　ｉ＋特工１願第６３６０１号２、　発明の名
称塗布方法３、　補正をするに１ｉｆｔとの関係：特４出願人名称　（５２０）富士写ロフィルム株式会社４、代理人住所　〒１００東京都千代田区霞が関３１目２番５号　霞が関ビル２９
階４が閏ビル内郵便局私書箱第４９号５、　補正命令の日付；　（自　発）（１）明細」第３頁１３行目「スリード」を１スリツト
」と補Ｊ【する。（２）同店第７頁９行目［２〜＋５０ｍ５＋Ｊをｌ’　
５ｓｍ以下」と補正する。

Claims

【特許請求の範囲】

連続的に移動している可撓性帯状の支持体の表面に対向
せしめたスリット先端部から塗布液を連続的に排出する
ことにより前記支持体の表面に前記塗布液の薄膜を層設
する塗布方法において、前記スリットに連通するエクス
トルーダの液溜めに前記塗布液を前記支持体上の塗着量
よりも過剰量供給するとともに、前記液溜め内の塗布液
の一部を前記液溜めの給液位置から前記支持体の幅方向
に最も離れた位置又はその近傍の排出口から外部排液手
段により強制的に抜き取ることを特徴とする塗布方法。