JPH01234560A - 蒸着装置における低融点蒸発材の供給方法及び装置 - Google Patents

蒸着装置における低融点蒸発材の供給方法及び装置

Info

Publication number
JPH01234560A
JPH01234560A JP5641688A JP5641688A JPH01234560A JP H01234560 A JPH01234560 A JP H01234560A JP 5641688 A JP5641688 A JP 5641688A JP 5641688 A JP5641688 A JP 5641688A JP H01234560 A JPH01234560 A JP H01234560A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
melting
chamber
evaporation
supply pipe
vapor deposition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5641688A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Oshii
押井 清志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ulvac Inc filed Critical Ulvac Inc
Priority to JP5641688A priority Critical patent/JPH01234560A/ja
Publication of JPH01234560A publication Critical patent/JPH01234560A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J4/00Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
    • B01J4/008Feed or outlet control devices

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は蒸着装置における低融点蒸発材の供給方法及び
装置に関するものである。
[従来の技術] 従来の蒸発材の供給方法は、■固形の蒸発材をバッチ毎
に、蒸発源部を大気にして供給する。■蒸発源かロード
ロック式の場合、ペレッ1〜、ワイヤ等の形状のものを
供給するのいずれかによって行われていた。
上記■の方法では、供給毎に、蒸発源部の冷却、加熱を
繰返し、また大気圧の状態から真空状態にしなりればな
らす、■バッチ当りの処理時間か長くなる。
また上記■の方法による低融点蒸発材の供給装置は、第
3図に示すように、蒸着室1と蒸発室3とを仕切バルブ
2で仕切り、蒸発室3内に蒸発源(ルツボ)4及びこれ
に低融点蒸発材を供給するワイヤーフィーター11!′
!#5を配置している。なお蒸着室1と蒸発室3とは、
排気系6によりそれぞれ蒸着室排気バルブ7及び蒸発室
排気バルブ8を介して排気されている。
ワイヤーフィーター機構5は、金属蒸気がフィーターノ
ズルに14着してフィーダーノズルを閉塞するのを防止
するため、蒸着時は供給時と別の位置にフィーターノズ
ル部及びフィーター機構部を移動するようになっている
この従来の装置は、蒸着作業終了後、ワイヤーフィータ
ー機構5を使ってワイヤ状の蒸発材を蒸発源4に供給す
るものである。蒸発材を供給後、フィーダーノズル部、
あるいはフィーター機構を蒸気の飛ばないところへ活動
させる。
[発明が解決しようとする課題] ■バッチ式蒸着装置の場合は、蒸発材を固形物でバッチ
毎に供給しているため、供給のたひ蒸発源において、冷
却、大気、供給、真空排気、加熱溶融といった工程を経
なければならず、1バッチ当りの処理時間が長くなるも
のであった。また、固形状蒸発材が大気にさらされるな
めに、酸化物が発生して膜質に悪影響を及ぼしていた。
■蒸発源がロードロック式となっている、固形状蒸発材
供給機構を有する、第3図に示す蒸着装置の場合は、固
形状蒸発材の供給のため、大量の蒸発材を繰返し供給す
るのか困雑である。例えは、鉛100μm蒸着では、ド
ーム径800+nmで300cc程度(約3.4kff
)の蒸発材が必要となるが、これは通常のワイヤーフィ
ーダーでは1個のスプールに巻いた全蒸発材と同程度で
ある。また蒸着中に蒸発材を供給することは、フィーダ
ーノズル部でのワイヤの固着などを引起こし、実際上不
可能である。フィーターを複数個段番フれば、蒸発源部
を大気にさらずことなく、数バッチ程度は蒸着を行なえ
るが、この場合、蒸発源まわりか著しく複雑となり、保
守か困難となる。
本発明は、蒸発材を溶融状態で供給することにより、前
記■、■項の欠点をなくした蒸着装置における低融点蒸
発材の供給方法及び装置を提供することを目的としてい
る。
[課題を解決するための手段] この目的を達成するため、本発明による蒸発材の供給方
法は、次のような手段を謁している。
1)蒸発材を溶融状態で蒸発源に供給する。
2)蒸発室とは別に蒸発材の融解を行う溶融槽を有する
溶融室を設ける。
3)蒸発源(通常はルツボ)上部に一方の開口部を有し
、溶融槽液面以下に他方の開口部を有する、蒸発材の融
点以上に加熱されたパイプで蒸発源と溶融槽とを結ぶ。
4)蒸発室と蒸着室とは、仕切バルブによって隔離する
5)溶融室には、室内加圧用の不活性ガス導入機構を設
ける。
6)溶融室には、室内排気用の排気系、すなわち−5〜 (〜10 ”Torrまでの排気用)を設ける。
[作用] 蒸発材を溶融状態で供給し、溶融室を蒸発室とは別にし
て、圧送によって供給しているなめ、1)蒸発室を大気
にすることなく、大量の蒸発材を繰返し供給できる。例
えば、溶融槽を30層とすれば、第2図に示す蒸着装置
では、蒸発室を大気にすることなく10バッヂ程度、蒸
発材を繰返し供給できる。
2)蒸発室には供給機構としてパイプのみが設けられる
ので、蒸発源まわりが単純になり、保守管理か容易とな
る。
3)不活性ガス流量を制御することにより、蒸発材の供
給速度をたやすく制御できる。
4)蒸発材の供給は、蒸着中でも可能である。
5)不活性ガスの導入を止め、溶融室内を再排気(〜1
00Torr程度)することにより、容易に供給を停止
できる。
6)溶融蒸発材は、パイプの中を流れるのみで、途中に
バルブ等の機械的な部材か介在しないので−〇 − 信頼性が高い。
7)#化物等の少ない状態で、蒸発材が蒸発源に供給さ
れるため、膜質か向上する。
[実施例] 本発明による低融点蒸発材の供給装置は、第1図に示す
ように、蒸着室1と蒸発室3とを仕切バルブ2で仕切り
、蒸発室3内には蒸発源(ルツボ)4が配置される。
蒸着室1と蒸発室3とは、4J[気系6によりそれぞれ
蒸着室排気バルブ7及び蒸発室排気バルブ8を介して排
気される。蒸発室3に隣接して溶融室9か配置され、蒸
発室と溶融室とは溶融室高真空排気バルブ18を介して
高真空排気パイプ1つにより連結されている。
溶融室9は更に、溶融室排気バルブ16を介して溶融室
排気系17により排気される。また溶融室9には、ガス
導入バルブ14を介してガス流量制御系15によりアル
ゴン等の不活性ガスが供給される。
溶融室9内部には溶融sioか設置され、この溶融槽の
下部には、溶融構内の蒸発材を溶融するだめの溶融槽ヒ
ーター13が設けられる。
蒸発室3の蒸発源(ルツボ)4と、溶融室9内の溶融!
10とは、供給パイプ11により連結される。この供給
パイプには、供給パイプヒーター12が取付けられて、
溶融蒸発材がパイプ内を円滑に通過できるようにしてい
る。供給パイプの一端は、蒸発源上部に開口し、またこ
のパイプの他端は溶融槽内の溶融蒸発材の液面以下に開
口している。
本発明の装置は次のように操作される。
1)仕切バルブ2を閉じる(蒸発室3は高真空に排気さ
れている)。
2)溶融室高真空排気バルブ18を閉じる。
3)溶融槽10及び供給パイプ11は、それぞれ溶融槽
ヒーター13及び供給パイプヒーター12によって、予
め蒸発材の融点以上の温度に加熱される。
4)ガス導入バルブ14を開けて、不活性ガスを溶融室
9内に導入し、室内を加圧する。不活性ガスの流量は、
ガス流星制御系15により一定に維持される。
5)溶融槽10内の圧力が、第1図の1]に相当する圧
力(9g11)以上になると、溶融した蒸発材が供給パ
イプ11を通って蒸発源4に供給される。
6)溶融した蒸発材を所定量供給した後、不活性ガス導
入バルブ14を閉じて、溶融室排気バルブ16を開け、
溶融室9内を〜0.2Torr程度に排気する( h 
= 100+nであれば、釦で77Torr程度に排気
すれば供給は停止する)。
7)溶融室排気バルブ16を閉じ、溶融室高真空排気バ
ルブ18を開りて、溶融室9を高真空に排気する。
[発明の効果] 本発明の装置は、このような構成により次のような効果
を奏する。
1)蒸発源部をロードロック式とすることにより、大量
の蒸発材を繰返し供給することかでき、また蒸発源部を
大気にさらさないので、蒸着中にも蒸発材を供給するこ
とかできる。また高温部に機械−つ − 的な駆動部を持たないため、信頼性か高い。
2)蒸発材を溶融状態で供給するため、不純物の混入及
び蒸発材の酸化を防止することができる。
3)」1記1)により生産性が向」二する。
4)上記2)により蒸着膜の品質が向」二する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明による蒸発材の供給装置の概略的な図
式図である。 第2図は、従来の装置の概略的な図式図である。 図中、1・・・蒸着室、2・・・仕切バルブ、3・・・
蒸発室、4・・・蒸発源(ルツボ)、6・・・排気系、
7・・・蒸着室排気バルブ、8・・・蒸発室排気バルブ
、9・・・溶融室、10・・・溶融槽、11・・・供給
パイプ、12・・・供給パイプヒーター、13・・・溶
融槽ヒーター、14・・・ガス導入バルブ、15・・・
ガス流量制御系、16・・・溶融室排気バルブ、17・
・・溶融室排気系、18・・・高真空排気バルブ、1つ
・・高真空排気パイプ−1,0−−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、蒸発室と溶融室とを別個に設けた蒸着装置における
    低融点蒸発材の供給方法において、蒸発室の蒸発源と溶
    融室内の溶融槽とを供給パイプでつなぎ、該供給パイプ
    を蒸発材の融点以上に加熱し、また該溶融室を不活性ガ
    スで加圧することにより、溶融槽内の蒸発材を溶融状態
    で蒸発源に供給することを特徴とする蒸発材の供給方法
    。 2、該供給パイプの一端が蒸発源上部に開口し、また該
    パイプの他端が溶融槽内の溶融蒸発材の液面以下に開口
    する請求項1に記載の方法。 3、蒸発室と溶融室とを別個に設けた蒸着装置における
    低融点蒸発材の供給装置において、蒸発室の蒸発源と溶
    融室内の溶融槽との間に連通する供給パイプと、該供給
    パイプに沿って配置される供給パイプヒーターと、該溶
    融室を不活性ガスで加圧する手段とを備えたことを特徴
    とする蒸発材の供給装置。 4、該供給パイプの一端が蒸発源上部に開口し、また該
    パイプの他端が溶融槽内の溶融蒸発材の液面以下に開口
    する請求項3に記載の装置。 5、該加圧手段がガス導入バルブとガス流量制御系より
    成る請求項3に記載の装置。
JP5641688A 1988-03-11 1988-03-11 蒸着装置における低融点蒸発材の供給方法及び装置 Pending JPH01234560A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5641688A JPH01234560A (ja) 1988-03-11 1988-03-11 蒸着装置における低融点蒸発材の供給方法及び装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5641688A JPH01234560A (ja) 1988-03-11 1988-03-11 蒸着装置における低融点蒸発材の供給方法及び装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01234560A true JPH01234560A (ja) 1989-09-19

Family

ID=13026519

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5641688A Pending JPH01234560A (ja) 1988-03-11 1988-03-11 蒸着装置における低融点蒸発材の供給方法及び装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01234560A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008500454A (ja) * 2004-05-27 2008-01-10 ズィードラーベ インコーポレイテッド 金属及び合金の蒸発による真空蒸着方法及び真空蒸着装置
KR20140145168A (ko) * 2012-03-30 2014-12-22 타타 스틸 네덜란드 테크날러지 베.뷔. 용융금속을 증발기 장치로 공급하는 방법 및 장치
JP2016540892A (ja) * 2013-12-06 2016-12-28 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 堆積アレンジメント、堆積装置、及びこれらの操作方法
JP2020176291A (ja) * 2019-04-17 2020-10-29 株式会社アルバック 材料供給装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5321089A (en) * 1976-08-10 1978-02-27 Minolta Camera Kk Vacuum evaporation process for nonsublimable compound
JPS6137336A (ja) * 1984-07-30 1986-02-22 Ricoh Co Ltd パイプロ−ルの加工方法
JPS6233762A (ja) * 1985-08-06 1987-02-13 Hitachi Ltd 真空蒸着装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5321089A (en) * 1976-08-10 1978-02-27 Minolta Camera Kk Vacuum evaporation process for nonsublimable compound
JPS6137336A (ja) * 1984-07-30 1986-02-22 Ricoh Co Ltd パイプロ−ルの加工方法
JPS6233762A (ja) * 1985-08-06 1987-02-13 Hitachi Ltd 真空蒸着装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008500454A (ja) * 2004-05-27 2008-01-10 ズィードラーベ インコーポレイテッド 金属及び合金の蒸発による真空蒸着方法及び真空蒸着装置
KR20140145168A (ko) * 2012-03-30 2014-12-22 타타 스틸 네덜란드 테크날러지 베.뷔. 용융금속을 증발기 장치로 공급하는 방법 및 장치
JP2016540892A (ja) * 2013-12-06 2016-12-28 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 堆積アレンジメント、堆積装置、及びこれらの操作方法
JP2020176291A (ja) * 2019-04-17 2020-10-29 株式会社アルバック 材料供給装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0645256A (ja) ガスパルスの供給方法およびこれを用いた成膜方法
KR102137181B1 (ko) 증착 배열체, 증착 장치 및 그의 동작 방법들
EP1156135B1 (en) Vacuum processing apparatus
JPH01234560A (ja) 蒸着装置における低融点蒸発材の供給方法及び装置
JP4197204B2 (ja) 酸化マグネシウムの作製装置
KR101323249B1 (ko) 초전도 선재 제조장치 및 제조방법
JPH02118064A (ja) 真空蒸着装置
JPS63243264A (ja) 薄膜製造装置
JP2719283B2 (ja) 低温用クヌ−ドセンセル
KR100628929B1 (ko) 박막증착장치
JP2000204472A (ja) ガス処理装置およびそれに用いられる原料供給系のパ―ジ機構
JP2878462B2 (ja) 有機金属化合物気化供給装置用のシリンダ容器
KR100424524B1 (ko) 인젝터에 의한 대면적 기판의 유기디스플레이 증착장치 및방법
JPH0219460A (ja) 真空蒸着方法およびそれを用いた真空蒸着装置
JPH02145769A (ja) 薄膜形成法および薄膜形成装置
JPH11152582A (ja) ガスデポジション方法及びその装置
JP2002121668A (ja) グラファイトナノファイバー薄膜形成用熱cvd装置
JP2808734B2 (ja) 微粒子膜の製造装置
JPH02118072A (ja) 真空蒸着装置
UA73290C2 (uk) Електронно-променевий пристрій для нанесення покриття шляхом конденсації з парової фази (варіанти)
JPH01147056A (ja) 真空薄膜形成装置
JPH0544019A (ja) ガス・デボジシヨン法による膜の形成法およびその形成装置
JPH01208456A (ja) 真空容器における電子銃の交換方法
JP2000306902A (ja) 半導体製造装置
JPH07150339A (ja) 真空蒸着用材料供給装置