JPH01232811A - 圧電振動子の製造方法 - Google Patents
圧電振動子の製造方法Info
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- JPH01232811A JPH01232811A JP63057370A JP5737088A JPH01232811A JP H01232811 A JPH01232811 A JP H01232811A JP 63057370 A JP63057370 A JP 63057370A JP 5737088 A JP5737088 A JP 5737088A JP H01232811 A JPH01232811 A JP H01232811A
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Landscapes
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
電子回路の発振用又はフィルタ等に用いられる圧電振動
子に関し、 圧電振動子の分極反転層作成の容易化を目的とし、 タンタル酸リチウム単結晶の0+15度回転X板からな
る圧電体の一方の面にプロトン交換処理を施した後、高
温熱処理して分極反転層を形成する工程を含んで成る圧
電振動子の製造方法において、上記高温熱処理工程は、
予め圧電体の両面に電極膜を形成しておき、該電極膜に
外部より電界を印加しながら熱処理するように構成する
。またニオブ酸リチウム単結晶の160±15度回転Y
板からなる圧電体の一方の面にチタン等の拡散処理を施
した後、熱処理して分極反転層を形成する工程を含んで
成る圧電振動子の製造方法において、上記熱処理工程は
、予め圧電体の片面もしくは両面に電極膜を形成してお
くか、又は白金板等の上に載置し電極膜の代用をさせて
熱処理するように構成する。
子に関し、 圧電振動子の分極反転層作成の容易化を目的とし、 タンタル酸リチウム単結晶の0+15度回転X板からな
る圧電体の一方の面にプロトン交換処理を施した後、高
温熱処理して分極反転層を形成する工程を含んで成る圧
電振動子の製造方法において、上記高温熱処理工程は、
予め圧電体の両面に電極膜を形成しておき、該電極膜に
外部より電界を印加しながら熱処理するように構成する
。またニオブ酸リチウム単結晶の160±15度回転Y
板からなる圧電体の一方の面にチタン等の拡散処理を施
した後、熱処理して分極反転層を形成する工程を含んで
成る圧電振動子の製造方法において、上記熱処理工程は
、予め圧電体の片面もしくは両面に電極膜を形成してお
くか、又は白金板等の上に載置し電極膜の代用をさせて
熱処理するように構成する。
本発明は電子回路の発振用又はフィルタとして用いられ
る圧電振動子の製造方法に関する。
る圧電振動子の製造方法に関する。
水晶やタンタル酸リチウム(LiTaOz)およびニオ
ブ酸リチウム(LiNbOz)等の圧電体の適当な駆動
電極を形成し、この電極に交流電界を印加すると圧電体
は印加電界と等しい周波数の応力を生じ、かつ、印加電
界の周波数が圧電体の固有周波数に一致すると共振し強
勢な振動が得られる。
ブ酸リチウム(LiNbOz)等の圧電体の適当な駆動
電極を形成し、この電極に交流電界を印加すると圧電体
は印加電界と等しい周波数の応力を生じ、かつ、印加電
界の周波数が圧電体の固有周波数に一致すると共振し強
勢な振動が得られる。
かかる現象を利用した振動子は、高性能であるため通信
装置の発振回路、フィルタ、遅延線等として広く利用さ
れている。
装置の発振回路、フィルタ、遅延線等として広く利用さ
れている。
電子機器の高性能化、小形化および軽量化が進む中で、
チップ化の要求が強まっている部品の一つに数M)lz
〜数十MHzの振動子があり、電気−機械結合係数の大
きいLiTaO3やLiNb0z単結晶を用いることに
より、水晶を用いたものでは不可能とされていた領域の
振動子が実現されるが、さらに該単結晶にてなる圧電体
に分極反転層を形成することで高周波の振動子の製造が
可能となる。
チップ化の要求が強まっている部品の一つに数M)lz
〜数十MHzの振動子があり、電気−機械結合係数の大
きいLiTaO3やLiNb0z単結晶を用いることに
より、水晶を用いたものでは不可能とされていた領域の
振動子が実現されるが、さらに該単結晶にてなる圧電体
に分極反転層を形成することで高周波の振動子の製造が
可能となる。
強誘電体結晶である(LiNbO3)単結晶又は(Li
NbOJ単結晶は、結晶全体が同一分極軸方向を向く単
分域材料であり、特にエネルギ閉じ込め特性に優れるL
iTaO3単結晶のO±15度回転板回転板iNb0z
単結晶160°±15°回転Y板から切り出した圧電体
は、電気−機械結合係数におよび機械的品質係数Qが大
きく、温度特性の安定性に優れることから厚み振動子と
して有用である。
NbOJ単結晶は、結晶全体が同一分極軸方向を向く単
分域材料であり、特にエネルギ閉じ込め特性に優れるL
iTaO3単結晶のO±15度回転板回転板iNb0z
単結晶160°±15°回転Y板から切り出した圧電体
は、電気−機械結合係数におよび機械的品質係数Qが大
きく、温度特性の安定性に優れることから厚み振動子と
して有用である。
このようなLiTa0.又はLiNb0+の単結晶を使
用した振動子の発振周波数は、厚み振動を利用する関係
上圧電体の厚さに反比例し、例えば、LiTa0*の場
合共振周波数が20MHzの圧電体は厚さが約1100
pであるのに対し、共振周波数が44MHzの振動子で
は圧電体の厚さが約45趨程度となり、周波数が高くな
るに従って板厚は薄くなる。そのため共振周波数が高く
なるに従って厚さが100μ以下になると半波長共振で
ある圧電体は、その製造に高精度が要求され製造が困難
になるが、プロトン交換処理を利用して該圧電体の片面
から、例えばその厚さの1/2の深さに分極反転層を形
成させることによって1波長共振になる圧電体は、厚さ
が2倍となり、高周波振動子の製造が可能となる。
用した振動子の発振周波数は、厚み振動を利用する関係
上圧電体の厚さに反比例し、例えば、LiTa0*の場
合共振周波数が20MHzの圧電体は厚さが約1100
pであるのに対し、共振周波数が44MHzの振動子で
は圧電体の厚さが約45趨程度となり、周波数が高くな
るに従って板厚は薄くなる。そのため共振周波数が高く
なるに従って厚さが100μ以下になると半波長共振で
ある圧電体は、その製造に高精度が要求され製造が困難
になるが、プロトン交換処理を利用して該圧電体の片面
から、例えばその厚さの1/2の深さに分極反転層を形
成させることによって1波長共振になる圧電体は、厚さ
が2倍となり、高周波振動子の製造が可能となる。
第3図はプロトン交換処理を利用して分極反転層を形成
させる従来の圧電振動子を製造する主要工程を説明する
ための図である。
させる従来の圧電振動子を製造する主要工程を説明する
ための図である。
第3図(a)において、LiTa0.単結晶のO±15
度回転X板より切り出した圧電体1は、一方の主面(+
X′面)laより他方の主面(−X′面)lbに向けた
分極P3を有する。そこで第3図(b)に示すように±
X′面1aに、例えばスピンコードにより厚さ5−程度
のポリイミド層(ポリイミドマスク)2を形成したのち
、例えば250℃に加熱したプロトン交換処理液に1時
間程度度浸積すると第3図(c)に示すように、−X′
面lbからプロトン交換層3が形成される。
度回転X板より切り出した圧電体1は、一方の主面(+
X′面)laより他方の主面(−X′面)lbに向けた
分極P3を有する。そこで第3図(b)に示すように±
X′面1aに、例えばスピンコードにより厚さ5−程度
のポリイミド層(ポリイミドマスク)2を形成したのち
、例えば250℃に加熱したプロトン交換処理液に1時
間程度度浸積すると第3図(c)に示すように、−X′
面lbからプロトン交換層3が形成される。
次いで第3図(d)に示すようにプロトン交換層3の上
に後工程のりアクティブイオンエツチング(RIE)に
対する耐性を有するマスク、例えばAlにてなるマスク
4を被着したのち、イオンエツチングにて第3図(e)
に示すように、ポリイミド層2を除去してから第3図(
f)に示すようにAlマスク4を除去する。
に後工程のりアクティブイオンエツチング(RIE)に
対する耐性を有するマスク、例えばAlにてなるマスク
4を被着したのち、イオンエツチングにて第3図(e)
に示すように、ポリイミド層2を除去してから第3図(
f)に示すようにAlマスク4を除去する。
次いでLiTa0zのキュリー点(620℃)以下の高
温、例えば560〜610℃の温度で適宜の時間だけ加
熱すると第3図(g)に示すように、−X′面1bがら
圧電体1の厚さの172の深さに、分極P、と逆向きの
分極p、/が形成された分極反転層1cが形成され、そ
の圧電体1の対向主面(+X′面と−X′面)la、l
bに駆動電極5.6を形成し、第3図(h)に示す圧電
振動子7が完成する。
温、例えば560〜610℃の温度で適宜の時間だけ加
熱すると第3図(g)に示すように、−X′面1bがら
圧電体1の厚さの172の深さに、分極P、と逆向きの
分極p、/が形成された分極反転層1cが形成され、そ
の圧電体1の対向主面(+X′面と−X′面)la、l
bに駆動電極5.6を形成し、第3図(h)に示す圧電
振動子7が完成する。
なおLiNbO3の場合はプロトン交換の代りにTi等
の拡散層を形成している。
の拡散層を形成している。
上記の方法では、LiTa0.単結晶の0°±15°回
転X板(Y軸回転)の場合は、分極方向がウェハ面とほ
ぼ平行であるため、分極反転層形成部分が単一分極域と
なりにくく、そのため振動子とした場合の特性が悪くな
る。またLiNb0.単結晶の160゜±15°回転Y
板(X軸回転)の場合は分極方向が傾いている為に分極
反転層形成が深く (厚く)均一に形成できないという
問題があった。
転X板(Y軸回転)の場合は、分極方向がウェハ面とほ
ぼ平行であるため、分極反転層形成部分が単一分極域と
なりにくく、そのため振動子とした場合の特性が悪くな
る。またLiNb0.単結晶の160゜±15°回転Y
板(X軸回転)の場合は分極方向が傾いている為に分極
反転層形成が深く (厚く)均一に形成できないという
問題があった。
本発明は圧電振動子の分極反転層作成の容易化を目的と
する。
する。
上記目的を達成するために、本発明の圧電振動子の製造
方法は、タンタル酸リチウムの0±15度回転X板から
なる圧電体10の一方の面にプロトン交換処理を施した
後、高温熱処理して分極反転N13を形成する工程を含
んで成る圧電振動子の製造方法において、上記高温熱処
理工程は、予め圧電体10の両面に電極膜12 、12
’を形成しておき、該電極膜12 、12 ’に外部
より電界を印加しながら熱処理する。
方法は、タンタル酸リチウムの0±15度回転X板から
なる圧電体10の一方の面にプロトン交換処理を施した
後、高温熱処理して分極反転N13を形成する工程を含
んで成る圧電振動子の製造方法において、上記高温熱処
理工程は、予め圧電体10の両面に電極膜12 、12
’を形成しておき、該電極膜12 、12 ’に外部
より電界を印加しながら熱処理する。
またニオブ酸リチウム単結晶の160±15度回転Y板
からなる圧電体20の一方の面にチタン等の拡散処理を
施した後、熱処理して分極反転N24を形成する工程を
含んで成る圧電振動子の製造方法において、上記熱処理
工程は、予め圧電体20の片面もしくは両面に電極膜2
3を形成してお(か、又は白金板等の上に載置し電極膜
の代用をさせて熱処理する。
からなる圧電体20の一方の面にチタン等の拡散処理を
施した後、熱処理して分極反転N24を形成する工程を
含んで成る圧電振動子の製造方法において、上記熱処理
工程は、予め圧電体20の片面もしくは両面に電極膜2
3を形成してお(か、又は白金板等の上に載置し電極膜
の代用をさせて熱処理する。
タンタル酸リチウムの0±15度回転X板の圧電体10
の両面に電極膜12 、12 ’を形成し、該電極膜1
2 、12 ’に外部より電界を印加しながら高温熱処
理することにより、焦電効果に印加電界の作用が加わり
、焦電効果のみを利用した場合よりも容易に深いところ
まで分極反転することができる。
の両面に電極膜12 、12 ’を形成し、該電極膜1
2 、12 ’に外部より電界を印加しながら高温熱処
理することにより、焦電効果に印加電界の作用が加わり
、焦電効果のみを利用した場合よりも容易に深いところ
まで分極反転することができる。
またニオブ酸リチウムの160±15度回転Y板の圧電
体20の片面もしくは両面に電極膜を形成又は白金板上
に載置して熱処理することにより、面内を均一状態にす
ることができ、分極反転層を深く均一に形成することが
できる。
体20の片面もしくは両面に電極膜を形成又は白金板上
に載置して熱処理することにより、面内を均一状態にす
ることができ、分極反転層を深く均一に形成することが
できる。
第1図は本発明の第1の実施例を説明するための図であ
る。
る。
本実施例は先ず第1図(a)に示すようにLiTaO3
単結晶のO±15°回転X板回転軸板転)からなる圧電
体10(分極P1が形成されている)を例えば250℃
に加熱したプロトン交換処理液(例えばリン酸)に1時
間程度浸漬して一方の面にプロトン交換層11を形成す
る。なお一方の面にのみプロトン交換層を形成するには
、両面に形成されたプロトン交換層の一方を除去するか
、あるいはプロトン交換処理液に漬浸する前に一方の面
に保護膜を形成しておけば良い。またこのプロトン交換
処理によりプロトン交換部のキューリー点の温度は第1
図(b)に示すように低下する。
単結晶のO±15°回転X板回転軸板転)からなる圧電
体10(分極P1が形成されている)を例えば250℃
に加熱したプロトン交換処理液(例えばリン酸)に1時
間程度浸漬して一方の面にプロトン交換層11を形成す
る。なお一方の面にのみプロトン交換層を形成するには
、両面に形成されたプロトン交換層の一方を除去するか
、あるいはプロトン交換処理液に漬浸する前に一方の面
に保護膜を形成しておけば良い。またこのプロトン交換
処理によりプロトン交換部のキューリー点の温度は第1
図(b)に示すように低下する。
次に第1図(c)に示すように圧電体10の両面にAl
の電極12 、12 ’を形成し、この電極12 、1
2 ’間に第1図(d)に示すように約20Vの電圧を
印加しながらキューリー点(約620℃)以下の温度(
約595℃)で適宜の時間N2中20%0□含有雰囲気
中で熱処理することにより、第1図(e)の如く圧電体
10の厚さの1/2の深さに、分極P、と逆向きの分極
P3′を有する分極反転層13が形成される。
の電極12 、12 ’を形成し、この電極12 、1
2 ’間に第1図(d)に示すように約20Vの電圧を
印加しながらキューリー点(約620℃)以下の温度(
約595℃)で適宜の時間N2中20%0□含有雰囲気
中で熱処理することにより、第1図(e)の如く圧電体
10の厚さの1/2の深さに、分極P、と逆向きの分極
P3′を有する分極反転層13が形成される。
次いで第1図(f)に示すように電極12 、12 ’
を除去したのち、第1図(g)に示すように駆動電極1
4および15を形成すると、1波長共振の圧電振動子が
完成する。
を除去したのち、第1図(g)に示すように駆動電極1
4および15を形成すると、1波長共振の圧電振動子が
完成する。
本実施例によれば、第1図(d)のように圧電体10に
電界を印加することにより、圧電体10の両面のチャー
ジ電荷が増大し、分極反転層13の形成が容易となる。
電界を印加することにより、圧電体10の両面のチャー
ジ電荷が増大し、分極反転層13の形成が容易となる。
次に本発明の第2の実施例を第2図により説明する。
本実施例は先ず第2図(a)に示すように、LiNb0
z単結晶の160±15°回転Y板(X軸回転)からな
る圧電体20 (分極P5が形成されている)の+C軸
面にTi等の拡散用金属膜21を形成したのち、拡散温
度まで加熱して第2図(b)の如く拡散層22を形成す
る。
z単結晶の160±15°回転Y板(X軸回転)からな
る圧電体20 (分極P5が形成されている)の+C軸
面にTi等の拡散用金属膜21を形成したのち、拡散温
度まで加熱して第2図(b)の如く拡散層22を形成す
る。
次に第2図(c)に示すように、圧電体20の片面(も
しくは両面でも良い)に白金等の高融点、低拡散定数材
料の電極膜23を形成する。次いで第2図(d)に示す
ようにキューリー点付近の温度で適宜の時間熱処理する
ことにより圧電体20の厚さの1/2の深さに、分極P
、と逆向きの分極P5′を有する分極反転層24が形成
される。
しくは両面でも良い)に白金等の高融点、低拡散定数材
料の電極膜23を形成する。次いで第2図(d)に示す
ようにキューリー点付近の温度で適宜の時間熱処理する
ことにより圧電体20の厚さの1/2の深さに、分極P
、と逆向きの分極P5′を有する分極反転層24が形成
される。
次いで第2図(e)に示すように電極膜23を除去した
のち、第2図(f)に示すように駆動電極25および2
6を形成して1波長共振の圧電振動子が形成される。な
お電極膜23の代りに、白金板の上に載置しても良い。
のち、第2図(f)に示すように駆動電極25および2
6を形成して1波長共振の圧電振動子が形成される。な
お電極膜23の代りに、白金板の上に載置しても良い。
本実施例によれば分極反転層形成の熱処理時に圧電体2
0の片面もしくは両面に白金等の高融点、低拡散定数材
料を電極膜23として形成しておくことで、圧電体23
の面内を均一状態とすることができ、それにより分極反
転層24を深く均一に形成することができる。
0の片面もしくは両面に白金等の高融点、低拡散定数材
料を電極膜23として形成しておくことで、圧電体23
の面内を均一状態とすることができ、それにより分極反
転層24を深く均一に形成することができる。
以上説明した様に本発明によれば、LiTa0.のO±
15°回転板又はLiNbO5の160±15°回転板
の分極反転層の形成を容易とし、共振周波数の高い圧電
振動子の製造に寄与する効果がある。
15°回転板又はLiNbO5の160±15°回転板
の分極反転層の形成を容易とし、共振周波数の高い圧電
振動子の製造に寄与する効果がある。
第1図は本発明の第1の実施例を説明するための図、
第2図は本発明の第2の実施例を説明するための図、
第3図は従来方法による圧電振動子の主要工程を説明す
るための図である。 図において、 10はLiTa0.圧電体、 11はプロトン交換層、 12.12’、23は電極膜、 13・、24は分極反転層、 14 、15 、25 、26は駆動電極、20はL
i NbO3圧電体、 21は金属膜、 22は拡散層 を示す。
るための図である。 図において、 10はLiTa0.圧電体、 11はプロトン交換層、 12.12’、23は電極膜、 13・、24は分極反転層、 14 、15 、25 、26は駆動電極、20はL
i NbO3圧電体、 21は金属膜、 22は拡散層 を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、タンタル酸リチウム単結晶の0±15度回転X板か
らなる圧電体(10)の一方の面にプロトン交換処理を
施した後、高温熱処理して分極反転層(13)を形成す
る工程を含んで成る圧電振動子の製造方法において、 上記高温熱処理工程は、予め圧電体(10)の両面に電
極膜(12,12′)を形成しておき、該電極膜(12
,12′)に外部より電界を印加しながら熱処理する圧
電振動子の製造方法。 2、ニオブ酸リチウム単結晶の160±15度回転Y板
からなる圧電体(20)の一方の面にチタン等の拡散処
理を施した後、熱処理して分極反転層(24)を形成す
る工程を含んで成る圧電振動子の製造方法において、 上記熱処理工程は、予め圧電体(20)の片面もしくは
両面に電極膜(23)を形成しておくか、又は白金板等
の上に載置し電極膜の代用をさせて熱処理する圧電振動
子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63057370A JPH01232811A (ja) | 1988-03-12 | 1988-03-12 | 圧電振動子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63057370A JPH01232811A (ja) | 1988-03-12 | 1988-03-12 | 圧電振動子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01232811A true JPH01232811A (ja) | 1989-09-18 |
Family
ID=13053704
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63057370A Pending JPH01232811A (ja) | 1988-03-12 | 1988-03-12 | 圧電振動子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01232811A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5679291A (en) * | 1995-01-13 | 1997-10-21 | Fujitsu Limited | Method of fabricating optical waveguide device |
WO1999046127A1 (en) * | 1998-03-11 | 1999-09-16 | Xaar Technology Limited | Droplet deposition apparatus and method of manufacture |
-
1988
- 1988-03-12 JP JP63057370A patent/JPH01232811A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5679291A (en) * | 1995-01-13 | 1997-10-21 | Fujitsu Limited | Method of fabricating optical waveguide device |
WO1999046127A1 (en) * | 1998-03-11 | 1999-09-16 | Xaar Technology Limited | Droplet deposition apparatus and method of manufacture |
US6505918B1 (en) | 1998-03-11 | 2003-01-14 | Xaar Technology Limited | Piezoelectric material and method of polarizing the same |
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