JPH01231001A - 光ディスク用基板の製造方法 - Google Patents

光ディスク用基板の製造方法

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JPH01231001A
JPH01231001A JP63057400A JP5740088A JPH01231001A JP H01231001 A JPH01231001 A JP H01231001A JP 63057400 A JP63057400 A JP 63057400A JP 5740088 A JP5740088 A JP 5740088A JP H01231001 A JPH01231001 A JP H01231001A
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内田 博行
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雙木 和明
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/14Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、懸濁重合により得られかつ光ディスク等の基
板となる透明円板に用いられるメタクリル樹脂(ポリメ
チルメタクリレート、以下単にPMMAと称する)に関
する。
背景技術 光ディスクの透明基板としては、プラスチック祠料、特
に有機ガラスとして知られているPMMAか広(用いら
れている。これは、P M M Aが無機ガラスに比し
て光゛y特性等に劣るものの、割れに<<、型成形がで
きて量産性に優れているためである。
P M M Aは、型成形加工方法に応じて、モノマー
(注型成形)あるいはペレット状(射出成形)として供
給されている。注型成形方法においては、成型された基
板が三次元架t! +!’T造重合体重合体耐熱性、表
面硬度に優れたものとなるか、重合反応において体積収
縮や重合発熱を伴う故に重合歪みを低くするために、反
応をゆっくり進行させる必要がある。従って、成型の効
率が悪くなり生産コストか増加する欠点かある。
そこで、近年では、従来のPMMA材料の製造方法の主
流を成す懸濁重合方法から得られるポリマーをベレット
状にしたものを用い射出成形して透明基板を製造するこ
とが行なわれている。
懸71!8重合方法は、モノマを溶解しない媒体(主に
水)にモノマを分散させて、重合開始剤、安定剤を添加
して、懸濁したモノマの微小滴内でラジカル付加重合さ
せる方法である。この重合方法は、重合によって生じる
反応熱を媒体によって除くことかでき、生成するポリマ
ーか撹拌後、粒状又は粉状となって沈降して分離が容品
なので工業的に広く用いられている。
このように、かかる懸濁重合方法では原料として例えば
〜IMA (メチルメタクリレート)及びEA(エチル
アクリレート)又はMA(メチルアクリレート)のモノ
マを水に分散又は乳化状態としながら重合を行うので、
重合時には前記した原料の外に触媒、分散剤、重合安定
助剤も原料と共に一定量を添加する。これらの添加は安
定的に重合されたポリマーを得るために!Ii要である
。重合が進みビーズ(パウダー)状の生成品が出来たと
ころで反応物を重合釜等の反応容器から取出し、水によ
り洗浄するのである。
第2図にかかる懸濁重合方法に於ける標■的プロセスの
概略図を示す。
まず、原料となるMMA及びEA若しくはMAのモノマ
と、懸濁重合のための添加剤と、触媒と、を重合釜1の
純水内に投入して撹拌する。ここで、反応体を均一に分
散させるための界面活性剤及び反応系を安定させるため
の重合安定助剤として、硫酸ナトリウム(Na2 SO
a )又はリン酸ナトリウムも重合釜1に添加する。所
定温度にて重合か進行してポリマー粒子か出来る。
その後、スラリー状の反応体を洗浄)1!!12へ移送
させて、パウダー状のポリマー粒子の表面等に残る分散
剤等の不ザ物質を水洗により洗い流す。
次に、スラリーを脱水機3へ移送させて脱水し、続けて
乾燥機4により乾燥後、押出し機5を介してペレタイザ
ー6によりポリマー粒子を11f塑化ベレット状に加工
する。
このペレット状のPMMAを用いて射出成形により光デ
ィスクの透明爪板を形成する。
しかしながら、このように射出成形により得られたP 
M M A製透明基板上に【。号記りA而を形成して、
例えばVD(ビデオディスク)を製造した場合、VDの
再生画像において、時たまカラーフラッシュ(CF)と
呼ばれる“ちらつき”が発生することがある。
このカラーフラッシュの原因を追及した結果、これは、
基板の信号面部に転写不良の欠陥、特に、基板表面に残
る微小気泡であることを見い出した。
光ディスクのピットの大きさは1.0μ程度であるので
、第3図に示す如く、光デイスク透明基板11の反射層
12のビット部分13に微小気泡や異物等の光学的変質
層14が存在すると、レーザスポット15によりビット
が1[確に読みとれなくなり、再生画像にカラーフラッ
シュが生じるのである。
発明の概要 本発明の目的は、光ディスク等の基板材料である懸濁重
合方法によるPMMAベレットの製造において基板形成
後の微小気泡の発生を抑制した光デイスク用メタクリル
樹脂を提供することにある。
本発明の光デイスク用メタクリル樹脂は、メチルメタク
リレート及びエチルアクリレート若しくはメチルアクリ
レートのモノマ100重ユ部に対して硫酸ナトリウム又
はリン酸ナトリウムからなる重合安定助剤0.15〜0
.25重足部を含む反応体により懸濁重合を行って得ら
れたことを特徴とする。
実施例 そこで、以下、本発明の実施例を比較例とともに説明す
る。
かかる微小気泡等の光学的変質層の発生原因を追及する
ために、実験を繰り退した結果、例えばインラインスク
リュー式射出成j1′/機を用いてベレットのホッパー
投入皿やヒーター温度等の射出成形条件を同一条件とし
た場ごてあっても、懸濁重合下F′lて使用されている
重合安定助剤(硫酸ナトリウム又は陽酸ナトリウム)の
添加量多いときに、成形後の基板では同一成形条件にか
がイ)らず微小気泡か多く発生することを見い出した。
PMMA製造における懸濁重合方法では、反応体に添加
される重合安定助剤としては硫酸ナトリウム、又はリン
酸すトリウムであるか、この重合安定助剤は得られるポ
リマー粒子内に分散、残留している。この残留組へ安定
助剤か、射出成形され透明基板となった後、透明基板中
の微小気泡の光学的異常部分を発生させる。このことに
鑑み、懸濁重合法における添加された重合安定助剤量と
微小気泡の発生とは相関関係を有していることを見い出
した。この関係に基づき、PMMAが安定的に得られ、
かつPMMA製基板によるビデオディスクの再生画質が
許容範囲に入る懸濁重合法における重合安定助剤の添加
量の範囲を明らかにした。
懸濁重合法は回分式の懸濁重合方法を行った。
まず、三菱レーヨン(株)製の未重合PMMAであるD
400を用意して、かかる未重合PMMAの成分中の重
合安定助剤である硫酸ナトリウムの添加量を種々変化さ
せた。
D400においては、MMAが91重量部、EAが9重
量部として固定して、その油添加剤、組合用触媒、界面
活性剤などは公知の添加割合で11■成されている。M
MA91重量部及びEA9重量部の100重足部に対し
て硫酸ナトリウムを0゜15〜0.5正足部の範囲で含
有量を変化させた。
通常、D400では、M M A及びEA(7)100
重量部に対して硫酸すトリウム0. 5重量部の割合の
含有量である。このようにPMMAの懸Qi3合過程に
て添加される物質の量(!fi合安定助剤の量を除く)
について通常の懸濁重合と全く同しものとした。PMM
Aとして使用される際に+イ料の光学的異物純度(樹脂
以外の異物の大きさ(μ)と量/樹脂量)が製品性能に
大きく影響するがらである。
上記の如き仕込で、懸濁重合を行った。
生成ポリマーはスラリ状で得られるので、スーパーデカ
ンタ等の連続式遠心脱水機を用いて脱水後、フラッシュ
ッドラヤ装置等の乾燥機にて乾燥させ均一な粒状ポリマ
ーを得た。さらに、続けて押出機及びベレタイザを使用
してP M M Aのベレットを得た。
かかるベレットを用いて、同一射出条件にて射出成形機
により所定の30cm直径の先ディスク用の透明基板を
成形した。
以上の方法により、同一仕込条件(重合安定助剤を除く
)及び同一反応条件の下で重合安定助剤の量のみを変化
させて種々の基板を作成した。第2表及び第1図に示す
如〈実施例C5D−1及びD−2の他に比較例^−I 
5A−2及びBとして、反応体(MMA及びEA)に対
して重合安定助剤を0゜5重量部、0.35重量部とし
て懸濁重合を行って得たP rvi M Aによる基板
も作成した。
第2表 第1図は重合安定助剤投入皿に対する基板中の微小気泡
数量の変化を示すグラフである。横軸に重合安定助剤の
量を変化させた各懸濁重合回分(比較例A−1、A−2
及びB並びに実施例C、D−1及びD−2)の同一の回
分から6枚の基板を作成した各サンプル枚数口(実施例
及び比較例)を示し、縦軸に30cm径透明基板の半径
13cm地点における1/4周中における気泡数発生割
合を示す。グラフ中・及びOは各基板における気泡数を
示し、さらに口は、各回分における6枚の基板の平均値
(第2表を参照)を示している。図示するように、重合
安定助剤を0.25重量部以下にすると格段に基板中の
微小気泡が減少することが分る。
しかしながら、重合安定助剤の添加量を減少させ過ぎて
も懸7115重合が良好に反応しないので、その添加量
の下限として0.15重量部以上は必要である。
このようにして、懸濁重合におけるM M A及びEA
の100重量部に対して重合安定助剤である硫酸ナトリ
ウムを0.15〜0.25重量部を含む場6、PMMA
中の残存陽イオンか0.5〜0゜83ppI11となり
、微小気泡の発生か抑制された透明、!!仮が得られる
また、上記実施例てはM〜IA及びEAを出発物質とし
て重合安定助剤が硫酸ナトリウムの場合の懸濁重合を行
ったが、重合安定助剤をリン酸ナトリウムとして行って
もく、更にMMA及びMAを出発物質として重合安定助
剤を硫酸ナトリウム又はリン酸ナトリウムとして行って
もよい。これらの場合、MMAを90〜92重量部、E
A若しくはMAを7〜9重量部として変化させて100
重量部となし、上記の重合安定助剤の含a量で懸濁重合
を行っても同様の効果が得られる。
発明の効果 以上の如く、本発明によれば、P M M Aの懸濁重
合方式の重合工程におけるモノマのメチルメタクリレー
ト及びエチルアクリレート若しくはメチルアクリレート
100重量部に対して、重合安定助剤の硫酸ナトリウム
又はリン酸ナトリウム0゜15〜0.25重量部を含む
反応体により懸濁重合を行って得ている故に、得られた
PMMAを用いた基板はカラーフラッンユの要因と成る
微小気泡数か大111に低下した基板かiljられる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本実施例及び比較例によるメタクリル樹脂から
なる透明基板中の微小気泡の存在を示すグラフ、第2図
は懸濁重合によるメタクリル樹脂の製造方法を示す概略
図、第3図は透明基板中の微小気泡の存在を示す1通路
部分断面図である。 主要部分の符号の説明 1・・・・・重合釜 2・・・・・・洗浄槽 3・・・・・・脱水機 4・・・・・押出し機 6・・・・・ペレタイザー 出願人   パイオニア株式会社 出願人   パイオニアビデオ株式会社代理人   弁
理士 藤村元ノ5

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. メチルメタクリレート及びエチルアクリレート若しくは
    メチルアクリレートのモノマ100重量部に対して硫酸
    ナトリウム又はリン酸ナトリウムからなる重合安定助剤
    0.15〜0.25重量部を含む反応体により懸濁重合
    を行って得られたことを特徴とする光ディスク用メタク
    リル樹脂。
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