JPH01231001A - 光ディスク用基板の製造方法 - Google Patents
光ディスク用基板の製造方法Info
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- JPH01231001A JPH01231001A JP63057400A JP5740088A JPH01231001A JP H01231001 A JPH01231001 A JP H01231001A JP 63057400 A JP63057400 A JP 63057400A JP 5740088 A JP5740088 A JP 5740088A JP H01231001 A JPH01231001 A JP H01231001A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 12
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 title claims abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 title abstract description 5
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 13
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 claims abstract description 13
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 10
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 39
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 claims description 17
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 8
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 7
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 abstract description 20
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 12
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract 3
- 239000006260 foam Substances 0.000 abstract 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 abstract 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 25
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 6
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 101100298222 Caenorhabditis elegans pot-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100298225 Caenorhabditis elegans pot-2 gene Proteins 0.000 description 1
- NTNWOCRCBQPEKQ-UHFFFAOYSA-N NG-mono-methyl-L-arginine Natural products CN=C(N)NCCCC(N)C(O)=O NTNWOCRCBQPEKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000004148 curcumin Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- RUJLHPZAKCVICY-UHFFFAOYSA-J thorium(4+);disulfate Chemical compound [Th+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O RUJLHPZAKCVICY-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Polymers & Plastics (AREA)
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、懸濁重合により得られかつ光ディスク等の基
板となる透明円板に用いられるメタクリル樹脂(ポリメ
チルメタクリレート、以下単にPMMAと称する)に関
する。
板となる透明円板に用いられるメタクリル樹脂(ポリメ
チルメタクリレート、以下単にPMMAと称する)に関
する。
背景技術
光ディスクの透明基板としては、プラスチック祠料、特
に有機ガラスとして知られているPMMAか広(用いら
れている。これは、P M M Aが無機ガラスに比し
て光゛y特性等に劣るものの、割れに<<、型成形がで
きて量産性に優れているためである。
に有機ガラスとして知られているPMMAか広(用いら
れている。これは、P M M Aが無機ガラスに比し
て光゛y特性等に劣るものの、割れに<<、型成形がで
きて量産性に優れているためである。
P M M Aは、型成形加工方法に応じて、モノマー
(注型成形)あるいはペレット状(射出成形)として供
給されている。注型成形方法においては、成型された基
板が三次元架t! +!’T造重合体重合体耐熱性、表
面硬度に優れたものとなるか、重合反応において体積収
縮や重合発熱を伴う故に重合歪みを低くするために、反
応をゆっくり進行させる必要がある。従って、成型の効
率が悪くなり生産コストか増加する欠点かある。
(注型成形)あるいはペレット状(射出成形)として供
給されている。注型成形方法においては、成型された基
板が三次元架t! +!’T造重合体重合体耐熱性、表
面硬度に優れたものとなるか、重合反応において体積収
縮や重合発熱を伴う故に重合歪みを低くするために、反
応をゆっくり進行させる必要がある。従って、成型の効
率が悪くなり生産コストか増加する欠点かある。
そこで、近年では、従来のPMMA材料の製造方法の主
流を成す懸濁重合方法から得られるポリマーをベレット
状にしたものを用い射出成形して透明基板を製造するこ
とが行なわれている。
流を成す懸濁重合方法から得られるポリマーをベレット
状にしたものを用い射出成形して透明基板を製造するこ
とが行なわれている。
懸71!8重合方法は、モノマを溶解しない媒体(主に
水)にモノマを分散させて、重合開始剤、安定剤を添加
して、懸濁したモノマの微小滴内でラジカル付加重合さ
せる方法である。この重合方法は、重合によって生じる
反応熱を媒体によって除くことかでき、生成するポリマ
ーか撹拌後、粒状又は粉状となって沈降して分離が容品
なので工業的に広く用いられている。
水)にモノマを分散させて、重合開始剤、安定剤を添加
して、懸濁したモノマの微小滴内でラジカル付加重合さ
せる方法である。この重合方法は、重合によって生じる
反応熱を媒体によって除くことかでき、生成するポリマ
ーか撹拌後、粒状又は粉状となって沈降して分離が容品
なので工業的に広く用いられている。
このように、かかる懸濁重合方法では原料として例えば
〜IMA (メチルメタクリレート)及びEA(エチル
アクリレート)又はMA(メチルアクリレート)のモノ
マを水に分散又は乳化状態としながら重合を行うので、
重合時には前記した原料の外に触媒、分散剤、重合安定
助剤も原料と共に一定量を添加する。これらの添加は安
定的に重合されたポリマーを得るために!Ii要である
。重合が進みビーズ(パウダー)状の生成品が出来たと
ころで反応物を重合釜等の反応容器から取出し、水によ
り洗浄するのである。
〜IMA (メチルメタクリレート)及びEA(エチル
アクリレート)又はMA(メチルアクリレート)のモノ
マを水に分散又は乳化状態としながら重合を行うので、
重合時には前記した原料の外に触媒、分散剤、重合安定
助剤も原料と共に一定量を添加する。これらの添加は安
定的に重合されたポリマーを得るために!Ii要である
。重合が進みビーズ(パウダー)状の生成品が出来たと
ころで反応物を重合釜等の反応容器から取出し、水によ
り洗浄するのである。
第2図にかかる懸濁重合方法に於ける標■的プロセスの
概略図を示す。
概略図を示す。
まず、原料となるMMA及びEA若しくはMAのモノマ
と、懸濁重合のための添加剤と、触媒と、を重合釜1の
純水内に投入して撹拌する。ここで、反応体を均一に分
散させるための界面活性剤及び反応系を安定させるため
の重合安定助剤として、硫酸ナトリウム(Na2 SO
a )又はリン酸ナトリウムも重合釜1に添加する。所
定温度にて重合か進行してポリマー粒子か出来る。
と、懸濁重合のための添加剤と、触媒と、を重合釜1の
純水内に投入して撹拌する。ここで、反応体を均一に分
散させるための界面活性剤及び反応系を安定させるため
の重合安定助剤として、硫酸ナトリウム(Na2 SO
a )又はリン酸ナトリウムも重合釜1に添加する。所
定温度にて重合か進行してポリマー粒子か出来る。
その後、スラリー状の反応体を洗浄)1!!12へ移送
させて、パウダー状のポリマー粒子の表面等に残る分散
剤等の不ザ物質を水洗により洗い流す。
させて、パウダー状のポリマー粒子の表面等に残る分散
剤等の不ザ物質を水洗により洗い流す。
次に、スラリーを脱水機3へ移送させて脱水し、続けて
乾燥機4により乾燥後、押出し機5を介してペレタイザ
ー6によりポリマー粒子を11f塑化ベレット状に加工
する。
乾燥機4により乾燥後、押出し機5を介してペレタイザ
ー6によりポリマー粒子を11f塑化ベレット状に加工
する。
このペレット状のPMMAを用いて射出成形により光デ
ィスクの透明爪板を形成する。
ィスクの透明爪板を形成する。
しかしながら、このように射出成形により得られたP
M M A製透明基板上に【。号記りA而を形成して、
例えばVD(ビデオディスク)を製造した場合、VDの
再生画像において、時たまカラーフラッシュ(CF)と
呼ばれる“ちらつき”が発生することがある。
M M A製透明基板上に【。号記りA而を形成して、
例えばVD(ビデオディスク)を製造した場合、VDの
再生画像において、時たまカラーフラッシュ(CF)と
呼ばれる“ちらつき”が発生することがある。
このカラーフラッシュの原因を追及した結果、これは、
基板の信号面部に転写不良の欠陥、特に、基板表面に残
る微小気泡であることを見い出した。
基板の信号面部に転写不良の欠陥、特に、基板表面に残
る微小気泡であることを見い出した。
光ディスクのピットの大きさは1.0μ程度であるので
、第3図に示す如く、光デイスク透明基板11の反射層
12のビット部分13に微小気泡や異物等の光学的変質
層14が存在すると、レーザスポット15によりビット
が1[確に読みとれなくなり、再生画像にカラーフラッ
シュが生じるのである。
、第3図に示す如く、光デイスク透明基板11の反射層
12のビット部分13に微小気泡や異物等の光学的変質
層14が存在すると、レーザスポット15によりビット
が1[確に読みとれなくなり、再生画像にカラーフラッ
シュが生じるのである。
発明の概要
本発明の目的は、光ディスク等の基板材料である懸濁重
合方法によるPMMAベレットの製造において基板形成
後の微小気泡の発生を抑制した光デイスク用メタクリル
樹脂を提供することにある。
合方法によるPMMAベレットの製造において基板形成
後の微小気泡の発生を抑制した光デイスク用メタクリル
樹脂を提供することにある。
本発明の光デイスク用メタクリル樹脂は、メチルメタク
リレート及びエチルアクリレート若しくはメチルアクリ
レートのモノマ100重ユ部に対して硫酸ナトリウム又
はリン酸ナトリウムからなる重合安定助剤0.15〜0
.25重足部を含む反応体により懸濁重合を行って得ら
れたことを特徴とする。
リレート及びエチルアクリレート若しくはメチルアクリ
レートのモノマ100重ユ部に対して硫酸ナトリウム又
はリン酸ナトリウムからなる重合安定助剤0.15〜0
.25重足部を含む反応体により懸濁重合を行って得ら
れたことを特徴とする。
実施例
そこで、以下、本発明の実施例を比較例とともに説明す
る。
る。
かかる微小気泡等の光学的変質層の発生原因を追及する
ために、実験を繰り退した結果、例えばインラインスク
リュー式射出成j1′/機を用いてベレットのホッパー
投入皿やヒーター温度等の射出成形条件を同一条件とし
た場ごてあっても、懸濁重合下F′lて使用されている
重合安定助剤(硫酸ナトリウム又は陽酸ナトリウム)の
添加量多いときに、成形後の基板では同一成形条件にか
がイ)らず微小気泡か多く発生することを見い出した。
ために、実験を繰り退した結果、例えばインラインスク
リュー式射出成j1′/機を用いてベレットのホッパー
投入皿やヒーター温度等の射出成形条件を同一条件とし
た場ごてあっても、懸濁重合下F′lて使用されている
重合安定助剤(硫酸ナトリウム又は陽酸ナトリウム)の
添加量多いときに、成形後の基板では同一成形条件にか
がイ)らず微小気泡か多く発生することを見い出した。
PMMA製造における懸濁重合方法では、反応体に添加
される重合安定助剤としては硫酸ナトリウム、又はリン
酸すトリウムであるか、この重合安定助剤は得られるポ
リマー粒子内に分散、残留している。この残留組へ安定
助剤か、射出成形され透明基板となった後、透明基板中
の微小気泡の光学的異常部分を発生させる。このことに
鑑み、懸濁重合法における添加された重合安定助剤量と
微小気泡の発生とは相関関係を有していることを見い出
した。この関係に基づき、PMMAが安定的に得られ、
かつPMMA製基板によるビデオディスクの再生画質が
許容範囲に入る懸濁重合法における重合安定助剤の添加
量の範囲を明らかにした。
される重合安定助剤としては硫酸ナトリウム、又はリン
酸すトリウムであるか、この重合安定助剤は得られるポ
リマー粒子内に分散、残留している。この残留組へ安定
助剤か、射出成形され透明基板となった後、透明基板中
の微小気泡の光学的異常部分を発生させる。このことに
鑑み、懸濁重合法における添加された重合安定助剤量と
微小気泡の発生とは相関関係を有していることを見い出
した。この関係に基づき、PMMAが安定的に得られ、
かつPMMA製基板によるビデオディスクの再生画質が
許容範囲に入る懸濁重合法における重合安定助剤の添加
量の範囲を明らかにした。
懸濁重合法は回分式の懸濁重合方法を行った。
まず、三菱レーヨン(株)製の未重合PMMAであるD
400を用意して、かかる未重合PMMAの成分中の重
合安定助剤である硫酸ナトリウムの添加量を種々変化さ
せた。
400を用意して、かかる未重合PMMAの成分中の重
合安定助剤である硫酸ナトリウムの添加量を種々変化さ
せた。
D400においては、MMAが91重量部、EAが9重
量部として固定して、その油添加剤、組合用触媒、界面
活性剤などは公知の添加割合で11■成されている。M
MA91重量部及びEA9重量部の100重足部に対し
て硫酸ナトリウムを0゜15〜0.5正足部の範囲で含
有量を変化させた。
量部として固定して、その油添加剤、組合用触媒、界面
活性剤などは公知の添加割合で11■成されている。M
MA91重量部及びEA9重量部の100重足部に対し
て硫酸ナトリウムを0゜15〜0.5正足部の範囲で含
有量を変化させた。
通常、D400では、M M A及びEA(7)100
重量部に対して硫酸すトリウム0. 5重量部の割合の
含有量である。このようにPMMAの懸Qi3合過程に
て添加される物質の量(!fi合安定助剤の量を除く)
について通常の懸濁重合と全く同しものとした。PMM
Aとして使用される際に+イ料の光学的異物純度(樹脂
以外の異物の大きさ(μ)と量/樹脂量)が製品性能に
大きく影響するがらである。
重量部に対して硫酸すトリウム0. 5重量部の割合の
含有量である。このようにPMMAの懸Qi3合過程に
て添加される物質の量(!fi合安定助剤の量を除く)
について通常の懸濁重合と全く同しものとした。PMM
Aとして使用される際に+イ料の光学的異物純度(樹脂
以外の異物の大きさ(μ)と量/樹脂量)が製品性能に
大きく影響するがらである。
上記の如き仕込で、懸濁重合を行った。
生成ポリマーはスラリ状で得られるので、スーパーデカ
ンタ等の連続式遠心脱水機を用いて脱水後、フラッシュ
ッドラヤ装置等の乾燥機にて乾燥させ均一な粒状ポリマ
ーを得た。さらに、続けて押出機及びベレタイザを使用
してP M M Aのベレットを得た。
ンタ等の連続式遠心脱水機を用いて脱水後、フラッシュ
ッドラヤ装置等の乾燥機にて乾燥させ均一な粒状ポリマ
ーを得た。さらに、続けて押出機及びベレタイザを使用
してP M M Aのベレットを得た。
かかるベレットを用いて、同一射出条件にて射出成形機
により所定の30cm直径の先ディスク用の透明基板を
成形した。
により所定の30cm直径の先ディスク用の透明基板を
成形した。
以上の方法により、同一仕込条件(重合安定助剤を除く
)及び同一反応条件の下で重合安定助剤の量のみを変化
させて種々の基板を作成した。第2表及び第1図に示す
如〈実施例C5D−1及びD−2の他に比較例^−I
5A−2及びBとして、反応体(MMA及びEA)に対
して重合安定助剤を0゜5重量部、0.35重量部とし
て懸濁重合を行って得たP rvi M Aによる基板
も作成した。
)及び同一反応条件の下で重合安定助剤の量のみを変化
させて種々の基板を作成した。第2表及び第1図に示す
如〈実施例C5D−1及びD−2の他に比較例^−I
5A−2及びBとして、反応体(MMA及びEA)に対
して重合安定助剤を0゜5重量部、0.35重量部とし
て懸濁重合を行って得たP rvi M Aによる基板
も作成した。
第2表
第1図は重合安定助剤投入皿に対する基板中の微小気泡
数量の変化を示すグラフである。横軸に重合安定助剤の
量を変化させた各懸濁重合回分(比較例A−1、A−2
及びB並びに実施例C、D−1及びD−2)の同一の回
分から6枚の基板を作成した各サンプル枚数口(実施例
及び比較例)を示し、縦軸に30cm径透明基板の半径
13cm地点における1/4周中における気泡数発生割
合を示す。グラフ中・及びOは各基板における気泡数を
示し、さらに口は、各回分における6枚の基板の平均値
(第2表を参照)を示している。図示するように、重合
安定助剤を0.25重量部以下にすると格段に基板中の
微小気泡が減少することが分る。
数量の変化を示すグラフである。横軸に重合安定助剤の
量を変化させた各懸濁重合回分(比較例A−1、A−2
及びB並びに実施例C、D−1及びD−2)の同一の回
分から6枚の基板を作成した各サンプル枚数口(実施例
及び比較例)を示し、縦軸に30cm径透明基板の半径
13cm地点における1/4周中における気泡数発生割
合を示す。グラフ中・及びOは各基板における気泡数を
示し、さらに口は、各回分における6枚の基板の平均値
(第2表を参照)を示している。図示するように、重合
安定助剤を0.25重量部以下にすると格段に基板中の
微小気泡が減少することが分る。
しかしながら、重合安定助剤の添加量を減少させ過ぎて
も懸7115重合が良好に反応しないので、その添加量
の下限として0.15重量部以上は必要である。
も懸7115重合が良好に反応しないので、その添加量
の下限として0.15重量部以上は必要である。
このようにして、懸濁重合におけるM M A及びEA
の100重量部に対して重合安定助剤である硫酸ナトリ
ウムを0.15〜0.25重量部を含む場6、PMMA
中の残存陽イオンか0.5〜0゜83ppI11となり
、微小気泡の発生か抑制された透明、!!仮が得られる
。
の100重量部に対して重合安定助剤である硫酸ナトリ
ウムを0.15〜0.25重量部を含む場6、PMMA
中の残存陽イオンか0.5〜0゜83ppI11となり
、微小気泡の発生か抑制された透明、!!仮が得られる
。
また、上記実施例てはM〜IA及びEAを出発物質とし
て重合安定助剤が硫酸ナトリウムの場合の懸濁重合を行
ったが、重合安定助剤をリン酸ナトリウムとして行って
もく、更にMMA及びMAを出発物質として重合安定助
剤を硫酸ナトリウム又はリン酸ナトリウムとして行って
もよい。これらの場合、MMAを90〜92重量部、E
A若しくはMAを7〜9重量部として変化させて100
重量部となし、上記の重合安定助剤の含a量で懸濁重合
を行っても同様の効果が得られる。
て重合安定助剤が硫酸ナトリウムの場合の懸濁重合を行
ったが、重合安定助剤をリン酸ナトリウムとして行って
もく、更にMMA及びMAを出発物質として重合安定助
剤を硫酸ナトリウム又はリン酸ナトリウムとして行って
もよい。これらの場合、MMAを90〜92重量部、E
A若しくはMAを7〜9重量部として変化させて100
重量部となし、上記の重合安定助剤の含a量で懸濁重合
を行っても同様の効果が得られる。
発明の効果
以上の如く、本発明によれば、P M M Aの懸濁重
合方式の重合工程におけるモノマのメチルメタクリレー
ト及びエチルアクリレート若しくはメチルアクリレート
100重量部に対して、重合安定助剤の硫酸ナトリウム
又はリン酸ナトリウム0゜15〜0.25重量部を含む
反応体により懸濁重合を行って得ている故に、得られた
PMMAを用いた基板はカラーフラッンユの要因と成る
微小気泡数か大111に低下した基板かiljられる。
合方式の重合工程におけるモノマのメチルメタクリレー
ト及びエチルアクリレート若しくはメチルアクリレート
100重量部に対して、重合安定助剤の硫酸ナトリウム
又はリン酸ナトリウム0゜15〜0.25重量部を含む
反応体により懸濁重合を行って得ている故に、得られた
PMMAを用いた基板はカラーフラッンユの要因と成る
微小気泡数か大111に低下した基板かiljられる。
第1図は本実施例及び比較例によるメタクリル樹脂から
なる透明基板中の微小気泡の存在を示すグラフ、第2図
は懸濁重合によるメタクリル樹脂の製造方法を示す概略
図、第3図は透明基板中の微小気泡の存在を示す1通路
部分断面図である。 主要部分の符号の説明 1・・・・・重合釜 2・・・・・・洗浄槽 3・・・・・・脱水機 4・・・・・押出し機 6・・・・・ペレタイザー 出願人 パイオニア株式会社 出願人 パイオニアビデオ株式会社代理人 弁
理士 藤村元ノ5
なる透明基板中の微小気泡の存在を示すグラフ、第2図
は懸濁重合によるメタクリル樹脂の製造方法を示す概略
図、第3図は透明基板中の微小気泡の存在を示す1通路
部分断面図である。 主要部分の符号の説明 1・・・・・重合釜 2・・・・・・洗浄槽 3・・・・・・脱水機 4・・・・・押出し機 6・・・・・ペレタイザー 出願人 パイオニア株式会社 出願人 パイオニアビデオ株式会社代理人 弁
理士 藤村元ノ5
Claims (1)
- メチルメタクリレート及びエチルアクリレート若しくは
メチルアクリレートのモノマ100重量部に対して硫酸
ナトリウム又はリン酸ナトリウムからなる重合安定助剤
0.15〜0.25重量部を含む反応体により懸濁重合
を行って得られたことを特徴とする光ディスク用メタク
リル樹脂。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63057400A JP2542034B2 (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | 光ディスク用基板の製造方法 |
US07/443,831 US5093444A (en) | 1988-03-11 | 1989-12-01 | Acrylic resin for optical elements |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63057400A JP2542034B2 (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | 光ディスク用基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01231001A true JPH01231001A (ja) | 1989-09-14 |
JP2542034B2 JP2542034B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=13054587
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63057400A Expired - Lifetime JP2542034B2 (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | 光ディスク用基板の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5093444A (ja) |
JP (1) | JP2542034B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012093464A1 (ja) | 2011-01-06 | 2012-07-12 | 株式会社カネカ | メタクリル酸メチル重合体の製造方法 |
JP6237886B1 (ja) * | 2016-01-04 | 2017-11-29 | 三菱ケミカル株式会社 | アクリル系重合体粒子とその製造方法、インキ組成物、および塗料組成物 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5777011A (en) * | 1995-12-01 | 1998-07-07 | Hach Company | Stabilized formazin composition |
KR100822392B1 (ko) * | 2005-06-17 | 2008-04-16 | 주식회사 선진화학 | 단분산 고가교 고분자 플라스틱 비드의 제조방법 |
CN117659255B (zh) * | 2023-12-11 | 2024-05-31 | 英德市捷成化工有限公司 | 一种用于油墨的水性丙烯酸树脂及其制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5733446A (en) * | 1980-07-31 | 1982-02-23 | Daicel Chem Ind Ltd | High-density information recording carrier |
JPS6045649A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-03-12 | 日精株式会社 | 炭素繊維を含む高張力繊維の編成或は撚り合せ方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3218302A (en) * | 1960-06-08 | 1965-11-16 | Rohm & Haas | Suspension polymerization |
GB1125992A (en) * | 1966-03-23 | 1968-09-05 | Kanegafuchi Chemical Ind | Improvements in and relating to the suspension polymerization of ª-ethylenically unsaturated monomers |
US3931133A (en) * | 1970-12-31 | 1976-01-06 | Aquitaine Total Organico | Suspension polymerization process for ethylenic monomers |
-
1988
- 1988-03-11 JP JP63057400A patent/JP2542034B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-12-01 US US07/443,831 patent/US5093444A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5733446A (en) * | 1980-07-31 | 1982-02-23 | Daicel Chem Ind Ltd | High-density information recording carrier |
JPS6045649A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-03-12 | 日精株式会社 | 炭素繊維を含む高張力繊維の編成或は撚り合せ方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012093464A1 (ja) | 2011-01-06 | 2012-07-12 | 株式会社カネカ | メタクリル酸メチル重合体の製造方法 |
US9133282B2 (en) | 2011-01-06 | 2015-09-15 | Kaneka Corporation | Method for producing methyl methacrylate polymer |
JP5938351B2 (ja) * | 2011-01-06 | 2016-06-22 | 株式会社カネカ | メタクリル酸メチル重合体の製造方法 |
JP6237886B1 (ja) * | 2016-01-04 | 2017-11-29 | 三菱ケミカル株式会社 | アクリル系重合体粒子とその製造方法、インキ組成物、および塗料組成物 |
RU2678101C1 (ru) * | 2016-01-04 | 2019-01-23 | Мицубиси Кемикал Корпорейшн | Частицы акрилового полимера, способ их производства, композиция печатной краски и покрывная композиция |
US10472433B2 (en) | 2016-01-04 | 2019-11-12 | Mitsubishi Chemical Corporation | Acrylic polymer particles, production process therefor, ink composition, and coating composition |
US11472893B2 (en) | 2016-01-04 | 2022-10-18 | Mitsubishi Chemical Corporation | Acrylic polymer particles, production process therefor, ink composition, and coating composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5093444A (en) | 1992-03-03 |
JP2542034B2 (ja) | 1996-10-09 |
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