JPH01230595A - 環状含ケイ素保護基の選択的脱離方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は環状ケイ素基の新規な脱離方法に関するもので
ある。更に詳しく言えば、ヌクレオシド誘導体中の環状
ケイ素基について、酸又はアルカリを用いて、２ケ所の
シロキサン結合のうち、１ヶＭを優先的に加水分解して
水酸基を復元し、他方にケイ素基が残るように部分脱離
させ、遺伝子工学や医薬品工業における合成中間体とし
て利用しうるちのに変換する方法に関するものである。

従来の技術 ヌクレオシドは核酸類の基本的骨格を構成する重要な生
体物質であって、°近年遺伝子工学の発展にともない、
核酸類の化学合成における出発物質あるいは中間体とし
て盛んに研究されており、またそれ自身も興味ある化合
物として医薬品分野において研究されている。

従来、製造工業にかかわるケイ素系の保護基としては、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基などの単官能性のケ
ーイ蕪基がよく利用されており、フッ化テトラブチルア
ンモニウムを作用させることにより容易に脱離除去され
ている。本発明者は核酸類の合成化学において利用可能
な二官能性ケイ素系保護基を各種検討し、ジアルキルシ
ランジイル基のような環状ケイ素基が好適であることを
見いだした。脱保護に関する検討の結果、環状ケイ素基
は従来の単官能性ケイ素基と同様に、フッ化テトラブチ
ルアンモニウムの作用により、２ケ所の結合点が大差な
く共に脱離することが明らかとなった。

発明が解決しようとする問題点 本発明者らは先に二官能性ケイ素化合物をヌクレオシド
の糖水酸基を保護する試薬に適用することを提案し、そ
れによってヌクレオシドの３”位および５′位の水酸基
の水素をケイ素基で同時に置換した前記一般式〔１〕で
示されるような化合物を得た。合成の進行に伴って３′
位又は５”位の水酸基のどちらか一方を再び反応点とし
て選択的に必要とする場合がしばしば起こるが、従来の
フッ化テトラブチルアンモニウムを用いる脱離方法では
、環状ケイ素基の２ケ所のシロキサン結合が大差なく分
解するため目的を達成することが出来なかった。

本発明は、環状ケイ素基を部分的に脱離して、３′位又
は５′位の水酸基の一方を優先的に復元することを目的
としてなされたものである。

問題を解決するための手段 本発明者は、前記一般式〔１〕で表される化合物中のケ
イ素基を部分的に脱離させる手段について鋭意研究を行
った結果、酸あるいはアルカリを作用させることにより
、２ケ所のシロキサン結合のうち、一方を選択性良く加
水分解して水酸基を復元させ、他方にケイ素基を残すこ
とができることを見いだし、これに基づいて本発明を完
成させるに至った。

すなわち、本発明は環状ケイ素基を部分脱離させる方法
を提供するものである。

本発明方法において用いる環状シランジイル基の置換基
には、フェニル基又は炭素数３以上の分岐状アルキル基
が用いられるが、とくにｔｅｒｔ−ブチル基が好適であ
る。

本発明方法において用いる環状ケイ素化ヌクレオシド誘
導体は、未保護の、またはアミ７基やアミド基等の官能
基が保護された核酸塩基を含む化合物であり、このよう
なものを構成するヌクレオシド成分としては、例えば、
チミジン、ウリジン、アデノシン、シチジン、グアノシ
ンなど及びこれらのＮ−ベンゾイルやＮ−インブチリル
置換体、２′−〇−修飾体などが好ましくあげられる。

酸としては塩酸、硝酸、硫酸などの無機の酸及びトリフ
ルオロメタンスルホン酸等の有機酸を用いることが出来
る。

アルカリとしては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムな
どの無機アルカリ化合物及び水酸化テトラブチルアンモ
ニウムなどの有機アルカリ化合物を用いることが出来る
。

溶媒には各種の有機溶媒及びその混合物を用いることが
できるが、次に述べるように溶媒は脱離の位置を決定す
る要因の一つであるので適宜選択することが必要である
。

本発明方法による位置選択性については、発明者らの詳
細な検討の結果、使用する加水分解触媒の種類及び溶媒
の組成によって概ね規定されるものであることが明らか
となった。すなわち、酸性条件下では、５′側シロキサ
ン結合が優先的に開裂し、主生成物として３゛−シリル
誘導体を生成する。

一方、アルカリ性条件下では、溶媒の組成によってシロ
キサン結合の開裂位置が変化し、アルコール性の溶媒中
では、５“側シロキサン結合が優先的に開裂し、非プロ
トン性溶媒中では、３′側シロキサン結合の開裂が優先
する傾向にあることがわかった。

発明の効果 本発明により環状ケイ素基によって保護された化合物か
らケイ素基を高い選択性を持って部分脱離させることが
出来るようになり、本性は各種のヌク′ｊ′ドー導体を
製造する際１こ必要とされる位置選択性を持った合成中
間体を得るのに極めて有用である。

実施例 次に実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明は、これらの例によってなんら限定されるもので
はない。

実施例１ ３゛、５°−ロー（ジーｔｅｒｔ−ブチルシランジイル
）チミジンを、１０ｍｇ／ｒｎｆの濃度で１モル塩酸水
溶液−メタノール（ｌ：４、ｖ／ｖ）中に溶解して加水
分解処理すると、５゛側シロキサン結合の開裂反応が優
先し、収率８１％で３′−〇−ジーｔｅｒｔ−ブチルヒ
ドロキシシリルチミジンが生成した。このものの構造は
、別途合成された標品と各種クロマトグラフィー上の挙
動を比較することにより確認された。

実施例２ ３°、５°−ロー（ジーｔｅｒｔ−ブチルシランジイル
）デオキシアデノシンを、ｌＯ■／−の濃度で１モル水
酸化ナトリウム水溶液−ジオキサン−メタノール（１：
２：２、ｖ／ｖ）中に溶解して加水分解処理すると、５
°側シロキサン結合の開裂反応が優先し、収率８３％で
３°−シリル誘導体が生成した。このものの構造は、別
途合成された標品と各種クロマトグラフィー上の挙動を
比較することにより確認された。

実施例３ ３°、５°−０−（ジーｔｅｒｔ−ブチルシランジイル
）ウリジンを、１０ｍｇ／ｍｌの濃度で２モル水酸化す
）ＩＪウム水溶液−ジメチルホルムアミド（２：９８、
ｖ／ｖ）中に溶解して加水分解処理すると、３′側シロ
キサン結合の開裂反応が優先し、収率９５％で５″−シ
リル誘導体が生成した。このものの構造は、別途合成さ
れた標品と各種クロマトグラフィー上の挙動を比較する
ことにより確認された。

実施例４ ２°−０−メトキシテトラヒドロピラニル−３゛、５°
−〇−（ジーｔｅｒｔ−ブチルシランジイル）アデノシ
ンを、５ｍｇ／−の濃度で２５％水酸化テトラブチルア
ンモニウム水溶液−ジオキサン（２０：８０、Ｖ／Ｖ＞
中に溶解して加水分解処理すると、５°側シロキサン結
合の開裂反応が優先し、収率７５％で３゛−シリル誘導
体が生成した。このものの構造は、メトキシテトラヒド
ロピラニル基を除去して既知化合物に導いた後、標品と
各種クロマトグラフィー上の挙動を比較することにより
確認された。

特許出願人　工業技術院長　　飯　塚　幸　三１［１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中のＢは未保護の、又は保護された核酸塩基、Ｒ及
   びＲ′はそれぞれフェニル基又は炭素数３以上の分岐状
   アルキル基、Ｒ″は水素原子又は未保護の、又は保護さ
   れた水酸基である） で表される環状ケイ素化誘導体を酸又はアルカリを用い
   た加水分解処理に付し、２ヶ所のシロキサン結合のうち
   、１ヶ所を優先的に切断することを特徴とするケイ素基
   を部分脱離させる方法。