JPH01229872A - 足ふきマットの脱塵装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、建物の入り口、部屋の入り口、自動車の車室
内あるいは航空機の客室内などに配置する足ふきマット
の脱塵装置に関する。

本発明は、多数の客先で使用され汚れた足ふきマットを
集めて洗浄し、再び客先に配布して使用に供するサービ
ス業務で利用する。特にそのサービス業務の洗浄工程の
うちの仕上げ工程で利用する。

〔概要〕

足ふきマットの表面に付着した廖を真空集塵装置で吸い
取る装置において、 ローラで移動させる被洗浄マットの表面を擦過する第一
の回転ブラシと、この回転ブラシに掛かった席を取る第
二の回転ブラシと、この第二の回転ブラシに掛かった塵
をとる櫛とを上記真空集塵装置の負圧雰囲気内に設ける
ことにより、連続的かつ自動的に小さい作業工数でマッ
トの脱座処理を小さい床面積で行うことができるように
したものである。

〔従来の技術〕

足ふきマットの洗浄工程においては、洗剤を用いて洗濯
を行い、マットに付着した汚れを除去したのち、乾燥し
て毛羽の形状をそろえる。

この洗濯の工程で、糸くずその他の小さい塵がマットの
毛羽にからみマットの表面に残る。したがって洗濯工程
の後にマットの表面に脱塵処理を行ってから出荷される
。

この脱塵処理は、塵が繊維片状のものはブラシを用いて
除去し、細かい塵は真空集塵装置で除去する。

従来、これらの処理を回転ブラシや真空集塵装置の吸込
口をコンベアで移動されるマットにあてて行う方法が試
みられたが、ブラシの刷毛に付着した塵の除去が十分で
なく、刷毛にたまった塵が処理したマットに再付着する
などの問題点があった。

そのため脱ａｔ作は、ブラシや真空集塵装置などを用い
て人為的に行っていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、前記のように足ふきマットの脱塵処理を人為的
に行うと作業が非連続的であり作業工数が増大する。ま
た、作業に必要な建屋の面積も大きくなり、さらに作業
者に対する度の吸肺防止の設備が大がかりのものを必要
とする。

本発明は、これらの欠点を解決して、連続的かつ自動的
に小さい作業工数で処理を行うことができ必要な作業面
積を小さくできる足ふきマットの脱塵装置を提供するこ
とを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、化学繊維質の毛羽が形成された足ふきマット
を一定の速度で移動させるローラと、このマットの表面
に付着する塵を吸い取る真空集塵装置とを備えた足ふき
マットの脱塵装置において、前記表面を前記速度より大
きい速度で擦過する第一の回転ブラシと、この第一の回
転ブラシに接する第二の回転ブラシと、この第二の回転
ブラシに接する櫛とを含むブラシ群を備え、このブラシ
群が前記真空集塵装置の負圧雰囲気内に配置されたこと
を特徴とする。

ブラシ群を２組、マットの移動方向に沿って縦続に配置
し、マットの移動方向の上流に配置されたブラシ群の第
一の回転ブラシは、その下流に配置されたブラシ群の第
一の回転ブラシよりその形状が大形とすることができる
。

２組のブラシ群の間にマットを搬送する搬送手段が設け
られたことが好ましい。

第一の回転ブラシおよび第二の回転ブラシの各回転軸は
ローラの回転軸に平行に配置され、第二の回転ブラシは
第一の回転ブラシの下方に設けられ、櫛はこの第二の観
点ブラシのさらに下方に設けられ、真空集塵装置の吸引
口はこの櫛より下方に設けることができる。

化学繊維質の毛羽が形成された表面に液状の薬剤を塗布
する手段がブラシ群よりマットの移動方向の下流側に配
置されることが好ましい。

ブラシ群と液状の薬剤を塗布する手段との間の搬送路に
、操作により設定可能でありその搬送路を通過するマッ
トを前記塗布する手段を通過しない側路に導く選択手段
を設けることができる。

処理済みのマットを排出口に搬送するベルトコンベアを
備え、このベルトコンベアは、ブラシ群および液状の薬
剤を塗布する手段の下段に設けられ、その搬送方向は前
記ブラシ群および液状の薬剤を塗布する手段の搬送方向
と逆方向であることが好ましい。

〔作用〕

マットの表面を第一の回転ブラシがマットの移動速度よ
り大きい速度で擦過する。これにより崖は毛羽からはな
れ、負圧雰囲気内に吸引される。

このとき第一の回転ブラシに一部の塵がその刷毛にから
むことがある。これは、負圧により吸引されるがなお取
除けないものは、第二の回転ブラシと接することにより
除去される。多くの崖はこのとき負圧により吸引される
。しかし、第二の回転ブラシにさらに付着した座は櫛に
より除去され負圧により吸引される。

第一の回転ブラシとマット表面との間隔は狭いものであ
るので、この間を流れる負圧域の気流の速度は大きくな
る。したがって塵は強く吸引される。

第一および第二の回転ブラシの刷毛はつねに再洗浄化さ
れている。またこれらを含むブラシ群は真空集塵装置の
負圧雰囲気内に配置されているので、マットおよび各回
転ブラシならびに櫛より分離された塵はフィルタ部に集
塵される。

〔実施例〕

つぎに本発明の実施例について図面を用いて説明する。

第１図は本発明一実施例の断面説明図を示し、第２図は
同じく一部破断斜視図を示す。また第３図は第２図に示
す破線■の部分の拡大図である。

本実施例は、一方の表面ＩＡに化学繊維性の毛羽が形成
された足ふきマット１を挟みそのマ・ノドを一定の速度
で移動させる上ローラ２Ａ、２Ｃと下ローラ２Ｂを備え
る。この上ローラ２Ａと上ローラ２Ｃとは複数のローラ
ベル）２Ｄが掛けられ、その張力はテンサバ−２Ｅによ
り調整される構造である。

このローラベル）２Ｄのほぼ下方に開口部が配置された
負圧室３Ａ、フレキシブルダク）３Ｂ。

フィルタ３Ｃ，ブロア３Ｄおよび排気ダクト３Ｅとを備
えた真空集塵装置が設けられている。

この負圧室３Ａの開口部には足ふきマットｌの移送方向
に平行して複数のガートワイヤ４Ａが配置され、足ふき
マット１を下方より支えている。

ガードワイヤ４Ａはガードフレーム４Ｂに固定される。

ここで本発明の特徴とするところは、前記真空集塵装置
の負圧室３Ａの内部に足ふきマット１が移動する速度よ
り大きい速度で表面ＩＡを擦過する第一の回転ブラシ５
Ａと、この第一の回転ブラシ５Ａに接する第二の回転ブ
ラシ５Ｂと、この第二の回転ブラシ５Ｂに接する櫛５Ｃ
とを含むブラシ群５を備えたことにある。

さらにこのブラシ群５とほぼ同様の構造であってやや形
状が小さい第一の回転ブラシ６Ａと、これに接する第二
の回転ブラシ６Ｂと、これに接するｔ４’ａ　６　Ｃと
を含む第二のプラン群６が、前記ブラシ群５に対してマ
ットの移動方向に沿って縦続に配置されている。すなわ
ちこの移動方向の上流に配置されたブラシ群５の第一の
回転ブラシ５Ａはその下流に配置されたブラシ群６の第
一の回転ブラシ６Ａより大型の形状であり、このブラシ
群５と６との間にマットを搬送する搬送手段として上ロ
ーラ７Ａと下ローラ７Ｂとが設けられている。

前記ブラシ群６は、フレキシブルダクト１３Ｂにより前
記フィルタ３Ｃに連通する負圧室に１３Ａに収められる
。この負圧室１３Ａの上部に位置する開口部の上方には
ガードレール１４Ａが設けられ、上ローラ６Ｄで圧せら
れるマットの下面を支える構造である。

さらに第一の回転ブラシ５Ａ、６Ａと第二の回転ブラシ
５Ｂ、６Ｂとのそれぞれの回転軸は前記ローラ２Ａ、２
Ｂ、２Ｃの回転軸にそれぞれ平行に配置される。

一方、ブラシ群のマットの移動方向の下流側に足ふきマ
ット１０表面ＩＡに液状の薬剤を塗布する手段として、
表面ＩＡに薬剤を塗布する塗布ローラ８Ａ、これに対向
してマットを挟む押えローラ８Ｂ、塗布ローラ８Ａの表
面に薬剤を供給するスポンジ状物体８Ｃ，このスポンジ
状物体８Ｃに薬剤をしみ込ませる多数の細孔を備えたパ
イプ８Ｄ１これらのものをかこむドレンパン８Ｅが設ケ
られる。さらにこれに付帯してパイプ８Ｄに送液管８Ｇ
を介して薬剤を送出するポンプ８Ｆ、前記スポンジ状物
体８Ｃから滴下する薬剤を排出する返液管８Ｈおよびフ
ィルタを含みポンプ８Ｆに薬剤を供給する薬剤タンク８
Ｊが設けられる。

前記ブラシ群６と薬剤を塗布する手段との間の搬送路に
、点線で示す位置をとることによりブラシ群６から出て
搬送路を通過したマットを薬剤を塗布する手段を通過し
ない側路に導くためレバー９Ａ、このレバー９Ａの操作
により点線の位置に移動するフレーム９Ｂおよびこのフ
レーム９Ｂに固定された複数のガードワイヤ９Ｃを備え
た選択手段がある。この選択手段が点線の位置をとると
きブラシ群６より、移動されるトマットは第１図の下方
に落下し薬剤が塗布されないようになる。

同様に前記薬剤ローラ８Ａより移動されるマットは反転
ガイド１０により反転して表面が上むきになるように落
下する。これら落下した処理済みのマットを排出口１１
に搬送するベルトコンベア１２Ａが設けられる。このベ
ルトコンベア１２Ａはブラシ群５．６および薬剤を塗布
する手段の下段に設けられ、駆動モータ１２Ｂで前記の
ブラシ群や薬剤を塗布する手段に対する搬送方向と逆方
向に搬送され、入口と同じ向きにある下段の出口に現わ
れるようになっている。

本実施例装置に表面ＩＡを下側に向けられた足ふきマッ
ト１は、上ローラ２Ａ、２Ｃにより駆動されるローラベ
ルト２Ｄと下ローラ２Ｂとにより挟まれて、ガードワイ
ヤ４Ａの上側に移送され第一の回転ブラシ５Ａでその移
送速度より大きい速度で表面ＩＡが擦過される。そのた
め、マットの毛羽からの塵の分離が容易である。この回
転ブラシは大型の形状のもので、マットの表面ＩＡの大
きい塵を除去する。除去された塵を含んだ負圧室３Ａの
空気はその下方に設けられたフレキシブルダク）３Ｂを
介してフィルタ３Ｃで集塵され、ブロア３Ｄで排気され
、排気ダク）３Ｅにより作業に支障のない場所に放出さ
れる。

前記第一の回転ブラシ５Ａがマットの表面ＩＡより分離
した塵は負圧により吸引され除去される。

さらに回転ブラシ５Ａに付着した塵は、第二の回転ブラ
シ５Ｂにより除去される。これも負圧により吸引される
。さらにこの第二の回転ブラシ５Ｂにより付着して残っ
た座は櫛５Ｃにより除去される。このようにして第一の
回転ブラシ５Ａはつねにクリーニングされた状態でマッ
トの表面ＩＡを擦過する。すなわちブラシ群５からの塵
が再びマットの表面ＩＡに付着することはない。

つぎにマットは上ローラ７Ａと下ローラ７Ｂによりブラ
シ群６を収める負圧室１３Ａの上方に搬送され、上ロー
ラ６Ｄとガートワイヤ１４Ａの間に挟まれて、第一の回
転ローラ６Ａで擦過される。この回転ローラ６Ａは前記
回転ローラ５Ａより小型の形状となっている。すなわち
前記ブラシ群５では除去できなかった細かい塵を除去で
きる。ブラシ群６における第二の回転ブラシ６Ｂおよび
模６Ｃの作用はブラシ群５のそれぞれと同様である。

また負圧室１３Ａ内の塵を含んだ空気はフレキシブルダ
クト１３Ｂによりフィルタ３Ｃに導かれ前記と同様に排
気放出される。

マットの表面ＩＡには帯電剤のように度をマットの表面
に吸着させる薬剤が塗布される。このような薬剤が塗布
されたマットは、客先において使用のさいに静電気によ
り履物の塵をよく吸いとる。

この薬剤は最初薬剤タンク８Ｊからポンプ８Ｆにより送
液管８Ｇを介してパイプ８Ｄに圧送され、パイプ８Ｄの
側壁に設けられた多数の細孔（図示せず）よりスポンジ
状物体８Ｃに滲み込み、このスポンジ状物１．ｔ８ｃに
ゆるく圧接する塗布ローラ８Ａに移り、押えローラ８Ｂ
により押えつけられたマントの表面に塗布される。この
塗布ローラ８Ａおよびスポンジ状物体８Ｃより溢れる薬
剤は、ドレンパン８Ｆの下部に連通ずる返液管８Ｈを介
して、フィルタにより途中で混入された雑物が除去され
、薬剤タンク８Ｊに返還される。このときポンプ８Ｆを
電気的に制御することにより、ポンプ８Ｆが圧送する薬
剤の量を加減できる。したがってマットが必要とする薬
剤の塗布量を調整することができる。

薬剤が塗布されたマットは、反転ガイド１０により上下
面が反転されてベルトコンベア１２Ａ上に落下する。

薬剤塗布を必要としないマットは、レバー９Ａを操作し
てフレーム９Ｂおよびこのフレーム９Ｂに固定されたガ
ードワイヤ９Ｃをかたむけて、負圧室１３Ａ上のガード
ワイヤ１４Ａとの間をあけることによって側路に導き、
前記塗布ローラ８Ａ上を通過させないようにする。

薬剤が塗布されまたは塗布されずに脱塵処理が完了され
た足ふきマットｌは、最初挿入された側にある排出口１
１に搬送されるので、−人の作業者が本装置を操作する
ことができる。

通常の足ふきマットはその形状が長さ１ｍ程度幅６０〜
７０ｃｍ程度のものであり、マットの挿入をマントの幅
方向に移送するようにしておくことにより本実施例装置
は、間口１．８ｍ、奥行１．２ｍ、高さ１ｍ程度の本体
となり、これに点検用スペースを含めてもマットの保管
スペースを除く床面積はほぼ３人２ｍ程度のものとなる
。また分離された塵はフィルタに集められ、ブロアの排
気は適当な位置に導かれるので工場内の他の作業に支障
を与えることがない。

また上記寸法の程度の足ふきマットは１時間に６０枚以
上処理でき、作業者はマットの挿入と取出の操作をそれ
ぞれ１分間に１回程度行えばよいので、処理すべきマッ
トの搬入と搬出とに適宜の手段を講することにより１人
で本実施例装置２台の操作が可能である。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、洗浄および乾燥
処理を行った足ふきマットに対する、連続的かつ自動的
に小さい作業工数で小さい作業面をで脱■処理でき装置
を実施できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明一実施例装置の断面説明図。 第２図は上記実施例装置の一部破断斜視図。 第３図は第２図に示す下部の拡大図。 １・・・足フキマット、ＩＡ・・・足ふきマットの化学
繊維質の毛羽が形成された表面、２Ａ、２Ｃ，６Ｄ、７
Ｂ・・・上ローラ、２Ｂ、７Ｂ・・・下ローラ、２Ｄ・
・・ローラベルト、２Ｅ・・・テンサバ−１３Ａ１１３
Ａ・・・負圧室、３Ｂ、１３Ｂ・・・フレキシブルダク
ト、３Ｃ・・・フィルタ、３Ｄ・・・ブロア、３Ｅ・・
・排気ダクト、４Ａ、９Ｃ，１４Ａ・・・ガードワイヤ
、４Ｂ・・・ガードフレーム、５．６・・・ブラ’ｙ　
群、５　Ａ　１６　Ａ・・・第一の回転ブラシ、５Ｂ、
６Ｂ・・・第二の回転ブラシ、５Ｃ，６Ｃ・・・ＨＭ、
８Ａ・・・塗布ローラ、８Ｂ・・・押えローラ、８Ｃ・
・・スポンジ状物体、８Ｄ・・・多数の細孔があけられ
たパイプ、８Ｅ・・・ドレンパン、８Ｆ・・・ポンプ、
８Ｇ・・・送液管、８Ｈ・・・返液管、８Ｊ・・・薬剤
タンク、９Ａ・・・レバー、９Ｂ・・・フレーム、ＩＯ
・・・反転ガイド、１１・・・排出口、１２Ａ川ベルト
コンベア、１２Ｂ・・・駆動モータ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、少なくとも一方の表面に化学繊維質の毛羽が形成さ
   れた足ふきマットを挟みそのマットを一定の速度で移動
   させるローラと、 このローラにより移動されるマットの前記表面に付着す
   る塵を吸い取る真空集塵装置と を備えた足ふきマットの脱塵装置において、前記表面を
   前記速度より大きい速度で擦過する第一の回転ブラシと
   、この第一の回転ブラシに接する第二の回転ブラシと、
   この第二の回転ブラシに接する櫛とを含むブラシ群を備
   え、 このブラシ群が前記真空集塵装置の負圧雰囲気内に配置
   されたことを特徴とする足ふきマットの脱塵装置。 ２、ブラシ群が２組、マットの移動方向に沿って縦続に
   配置された請求項１記載の足ふきマットの脱塵装置。 ３、マットの移動方向の上流に配置されたブラシ群の第
   一の回転ブラシは、その下流に配置されたブラシ群の第
   一の回転ブラシよりその形状が大形である請求項２記載
   の足ふきマットの脱塵装置。 ４、２組のブラシ群の間にマットを搬送する搬送手段が
   設けられた請求項２記載の足ふきマットの脱塵装置。 ５、第一の回転ブラシおよび第二の回転ブラシの各回転
   軸はローラの回転軸に平行に配置された請求項１または
   ２記載の足ふきマットの脱塵装置。 ６、第二の回転ブラシは第一の回転ブラシの下方に設け
   られ、櫛はこの第二の回転ブラシのさらに下方に設けら
   れ、真空集塵装置の吸引口はこの櫛より下方に設けられ
   た請求項１または２記載の足ふきマットの脱塵装置。 ７、請求項１または２記載の足ふきマットの脱塵装置に
   おいて、 化学繊維質の毛羽が形成された表面に液状の薬剤を塗布
   する手段がブラシ群よりマットの移動方向の下流側に配
   置された ことを特徴とする足ふきマットの脱塵装置。 ８、請求項７記載の足ふきマットの脱塵装置において、 ブラシ群と液状の薬剤を塗布する手段との間の搬送路に
   、操作により設定可能でありその搬送路を通過するマッ
   トを前記塗布する手段を通過しない側路に導く選択手段
   を設けたことを特徴とする足ふきマットの脱塵装置。 ９、請求項１ないし８項のいずれかに記載の足ふきマッ
   トの脱塵装置において、 処理済みのマットを排出口に搬送するベルトコンベアを
   備えたことを特徴とする足ふきマットの脱塵装置。 １０、ベルトコンベアは、ブラシ群および液状の薬剤を
   塗布する手段の下段に設けられ、その搬送方向は前記ブ
   ラシ群および液状の薬剤を塗布する手段の搬送方向と逆
   方向である請求項９記載の足ふきマットの脱塵装置。