JPH01224067A - 足ふきマットの薬剤塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、建物の入り口、部屋の入り口、自動車の車室
内あるいは航空機の客室内などに配置する足ふきマット
の処理装置として利用する。

本発明は、使用された汚れた足ふきマットを回収して洗
濯処理し、再び利用者に配達するサービス業務の洗濯処
理工程で利用する。特に、この洗濯処理工程の仕上げ工
程で、足ふきマットの表面に電気的絶縁性の大きい液状
薬剤を塗布して、足ふきマットに静電気を発生させ、収
塵効果を助長させるための処理に利用する。

〔概要〕

足ふきマットの洗濯処理工程の仕上げ工程において、 進行するマットの表面に接するように配置されたローラ
によって液状の薬剤を供給することで、マットの表面に
均一に薬剤を塗布するとともに、多数のマットを小さい
工数で連続的に処理することができるようにしたもので
ある。

〔従来の技術〕

従来、この種のマットに液状薬剤を塗布する手段には、
洗濯工程に使用する回転槽型洗濯機を用いていた。

すなわち回転槽型洗濯機の槽にマットが浸る程度の量の
薬剤を入れ、複数のマットをロフト単位で収容し、槽を
回転させて薬剤をマットに塗布していた。

また、マットが脱水されたのち、回転機に入れその回転
中心部より薬剤を噴出させて塗布を行うか、あるいは噴
霧器を使用して手作業で行われていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、これらの方法では連続作業ができず、手作業に
たよることが多い。したがって作業工数が大きくなり、
所要時間も長くなる。

また塗布される表面に対する薬剤の塗布量が不均一にな
り、マットの裏面など塗布を必要としない面にも塗布さ
れる。

さらに、一連の塗布作業ののち、各装置の内部に残った
薬剤は再使用できないので無駄が生じる。

本発明は、これらの欠点を解決して、７７）の表面の液
状薬剤の塗布が均一的に連続して行われるので、必要工
数が少なく、かつ薬剤を無駄に消費されることのない足
ふきマットの薬剤塗布装置を提供することを目的とする
。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、足ふきマットを進行させる第一ローラ手段と
、マットの前記表面に微量の液状薬剤を塗布する手段と
を備えた足ふきマットの薬剤塗布装置において、 前記液状薬剤を塗布する手段は、前記第一ローラ手段に
よるマットの進行を助ける方向に回転する第二ローラ手
段を含み、この第二ローラ手段は、進行するマットの前
記表面に接触する主ローラと、この主ローラの表面に液
状薬剤を供給する手段とを含むことを特徴とする。

第二ローラ手段はその主ローラの表面がスポンジ状であ
り、この主ローラに接しかつ進行するマットに接するこ
となく回転しこの主ローラより径が小さくその表面が硬
質に形成された補助ローラを含み、液状薬剤を供給する
手段は、前記主ローラと前記補助ローラとの接触部近傍
に液状薬剤を滴下する手段を含むことができる。

さらに　第二ローラ手段は、その主ローラの表面が硬質
であり、液状薬剤を供給する手段は、前記主ローラに接
するスポンジ状物体と、このスポンジ状物体に液状薬剤
をしみ込ませる手段とを含むものとすることもできる。

〔作用〕

第二ローラ手段の主ローラはマットの進行を助ける方向
に回転するので、主ローラの表面はマットの表面の毛羽
を乱すことなくマットに接触する。

この主ローラの表面にはつねに液状薬剤が供給されるの
で、主ローラはマットの表面に対して液状薬剤を均一に
塗布できる。

主ローラの表面をスポンジ状とし、この部分に液状薬剤
をしみ込ませておくと、乾燥することがなく必要な面だ
けに均一に塗布できる。

主ローラが硬質であって液状薬剤がしみ込んだスポンジ
状物体がこのローラに接する構造では、必要な面だけに
適量の薬剤を塗布できる。

いずれの場合も、マットをローラで進行させながら連続
的に処理できるので工数が小さくなる。

〔実施例〕

つぎに本発明の実施例を図面を用いて説明する。

第１図は本発明の第一実施例装置の断面説明図を示し、
第２図は同実施例装置の一部破断斜視図を示す。

本実施例装置は、少なくとも一方の表面ＩＡに繊維状の
毛羽が形成された足ふきマツ）ｌを進行させる第一ロー
ラ手段として上ローラ２１Ａ１下ローラ２１Ｂ、２１Ｃ
を備える。この第一ローラ手段の下流側（第１図では右
側）に、進行する足ふきマット１の前記表面ＩＡに微ｌ
の液状薬剤を塗布する手段を備える。

ここで本発明の特徴は、液状薬剤を塗布する手段は、第
一ローラ手段である上ローラ２１Ａ１下ローラ２１Ｂ、
２ＩＣによる足ふきマット１の進行を助ける方向に回転
する第二ローラ手段として、進行する足ふきマット１０
表面ＩＡに接触する主ローラ２２と、この主ローラ２２
の表面に液状薬剤を供給する補助ローラ２３とを備えた
ことにある。

すなわち表面ＩＡに液状薬剤を塗布するため主ローラ２
２の表面はスポンジ状体２２Ａに形成されており、この
スポンジ状の表面に接しかつ進行する足ふきマット１に
接することなく回転し、主ローラ２２より径の小さくそ
の表面が硬質に形成された補助ローラ２３を含み、主ロ
ーラ２２の表面に液状薬剤を供給する手段は主ローラ２
２と補助ローラ２３とが接触する部分の上方に形成され
た谷間状の凹部２５につねに小量の液状薬剤がたまるよ
うに液状薬剤を滴下する送液管２４を備えている。

本実施例装置では、足ふきマット１が挿入口４１から矢
印のように挿入される。上ローラ２ＬＡと下ローラ２１
Ｂとにより、第１図に示すように足ふきマット１は右側
に進行する。これらのローラの下流側にある主ローラ２
２は下ローラ２１Ｃとにより足ふきマット１０表面ＩＡ
に接し、足ふきマット１の進行を助長する。したがって
主ローラ２２は足ふきマット１の表面ＩＡとよく接触す
るので、その表面のスポンジ状体２２Ａにしみ込まれた
液状薬剤は、足ふきマットの表面に均一に塗布される。

この主ローラ２２と補助ローラ２３とのそれぞれ表面が
接触する部分の上方に形成される谷間状の凹部２５には
、送液管２４からポンプ２６Ａを介して薬剤タンク２６
Ｂから液状薬剤が連続的に滴下する。この凹部２５には
第２図に示すように堰２５Ａが両端に設けられているの
で、液状薬剤はここに溜められ、その液量が多くなると
、返液管２６Ｃを介してフィルタ２６Ｄで濾過され薬剤
タンク２６Ｂに返送される。

このようにして液状薬剤はつねに主ローラ２２の表面の
スポンジ状体２２Ａに供給される。

補助ローラ２３の表面は硬質のものであって、この軸受
部２３Ａは、バネ２８により主ローラ２２の表面に弾性
的に圧接する。このバネ２８のバネ力を適宜なものとす
ることにより塗布される薬剤の量が加減される。

薬剤が塗布された足ふきマットは案内板２９Ａ１２９Ｂ
により、第一ローラ手段および薬剤を塗布する手段の下
方に設けられたベルトコンベア３０によって排出口４２
より排出される。

第３図はポンプ発明の第二実施例の断面説明図を示し、
第４図は同じく一部破断斜視図を示す。

また第５図は第２図に示す破線■の部分の拡大図である
。

この例は、マットの表面の脱皇処理につづいて薬剤を塗
布する装置であって、二つの工程がひとつの装置に組み
込まれているものである。このうち本発明の実施例（第
二実施例）は、第３図に一点鎖線Ａで示す左側の部分で
ある。

この実施例では、第一ローラ手段は上ローラ２Ａ、２Ｃ
と下ローラ２Ｂであり、この上ローラ２Ａと上ローラ２
Ｃとは複数のローラベルト２Ｄが掛けられ、その張力は
テンサバ−２Ｅにより調整される構造である。

本実施例では、マットの進行方向の下流側に足ふきマッ
ト１の表面ＩＡに液状の薬剤を塗布する手段として、表
面ＩＡに薬剤を塗布する塗布ローラ８Ａ、これに対向し
てマットを挟む押えローラ８Ｂ、塗布ローラ８Ａの表面
に薬剤を供給するスポンジ状物体８Ｃ１このスポンジ状
物体８Ｃに薬剤をしみ込ませる多数の細孔を備えたバイ
ブ８Ｄ。

これらのものをかこむドレンパン８Ｅが設けられる。さ
らにこれに付帯してバイブ８Ｄに送液管８Ｇを介して薬
剤を送出するポンプ８Ｆ、前記スポンジ状物体８Ｃから
滴下する薬剤を排出する返液管８Ｈおよびフィルタを含
みポンプ８Ｆに薬剤を供給する薬剤タンク８Ｊが設けら
れる。

この薬剤は最初薬剤タンク８Ｊからポンプ８Ｆにより送
液管８Ｇを介してバイブ８Ｄに圧送され、バイブ８Ｄの
側壁に設けられた多数の細孔（図示せず）よりスポンジ
状物体８Ｃにしみ込み、このスポンジ状物体８Ｃにゆる
く圧接する塗布ローラ８Ａに移り、押えローラ８Ｂによ
り押えつけられたマットの表面に塗布される。この塗布
ローラ８Ａおよびスポンジ状物体８Ｃより溢れる薬剤は
、ドレンパン８Ｆの下部に連通ずる返液管８Ｈを介して
、フィルタにより途中で混入された雑物が除去され、薬
剤タンク８Ｊに返還される。このときポンプ８Ｆを電気
的に制御することにより、ポンプ８Ｆが圧送する薬剤の
量番加減できる。したがってマットが必要とする薬剤の
塗布量を調整することができる。

第３図の鎖線Ａの右側は脱座装置であって、本発明には
直接関係なく、この部分については同時に出願する特許
出願に詳しく説明されているが、その概要を示すと次の
とおりである。

本第二実施例では、ローラベル斗２Ｄのほぼ下方に開口
部が配置された負圧室３Ａ、フレキシブルダクト３Ｂ、
フィルタ３Ｃ、ブロア３Ｄおよび排気ダク）３Ｅとを備
えた真空集塵装置が設けられている。

この負圧室３Ａの開口部には足ふきマット１の移送方向
に平行して複数のガートワイヤ４Ａが配置され、足ふき
マット１を下方より支えている。

ガードワイヤ４Ａはガードフレーム４Ｂに固定される。

ここで本発明の特徴とするところは、前記真空集塵装置
の負圧室３Ａの内部に足ふきマット１が移動する速度よ
り大きい速度で表面ＩＡを擦過する第一の回転ブラシ５
Ａと、この第一の回転ブラシ５Ａに接する第二の回転ブ
ラシ５Ｂと、この第二の回転ブラシ５Ｂに接する櫛５Ｃ
とを含むブラシ群５を備えたことにある。

さらにこのブラシ群５とほぼ同様の構造であってやや形
状が小さい第一の回転ブラシ６Ａと、これに接する第二
の回転ブラシ６Ｂと、これに接する櫛６Ｃとを含む第二
のブラシ群６が、前記ブラシ群５に対してマットの移動
方向に沿って縦続に配置されている。すなわちこの移動
方向の上流に配置されたブラシ群５の第一の回転ブラシ
５Ａはその下流に配置されたブラシ群６の第一の回転ブ
ラシ６Ａより大型の形状であり、このブラシ群５と６と
の間にマットを搬送する搬送手段として上ローラ７Ａと
下ローラ７Ｂとが設けられている。

前記ブラシ群６は、フレキシブルダク）１３Ｂにより前
記フィルタ３Ｃに連通する負圧室に１３Ａに収められる
。この負圧室１３Ａの上部に位置する開口部の上方には
ガードレール１４Ａが設けられ、上ローラ６Ｄで圧せら
れるマットの下面を支える構造である。

さらに第一の回転ブラシ５Ａ、６Ａと第二の回転ブラシ
５Ｂ、６Ｂとのそれぞれの回転軸は前記ローラ２Ａ、２
Ｂ、２Ｇの回転軸にそれぞれ平行に配置される。

このブラシ群６と薬剤を塗布する手段との間の搬送路に
、点線で示す位置をとることによりブラシ群６から出て
搬送路を通過したマットを薬剤を塗布する手段を通過し
ない側路に導くためレバー９Ａ、このレバー９Ａの操作
により点線の位置に移動するフレーム９Ｂおよびこのフ
レーム９Ｂに固定された複数のガードワイヤ９Ｃを備え
た選択手段がある。この選択手段が点線の位置をとると
きブラシ群６より、移動されるトマットは第１図の下方
に落下し薬剤が塗布されないようになる。

同様に前記薬剤ローラ８Ａより移動されるマットは反転
ガイドｌＯにより反転して表面が上むきになるように落
下する。これら落下した処理済みのマットを排出口１１
に搬送するベルトコンベア１２Ａが設けられる。このベ
ルトコンベア１２Ａはブラシ群５．６および薬剤を塗布
する手段の下段に設けられ、駆動モータ１２Ｂで前記の
ブラシ群や薬剤を塗布する手段に対する搬送方向と逆方
向に搬送され、入口と同じ向きにある下段の出口に現わ
れるようになっている。

本第二実施例装置に表面ＩＡを下側に向けられた足ふき
マット１は、上ローラ２Ａ、２Ｃにより駆動されるロー
ラベルト２Ｄと下ローラ２Ｂとにより挟まれて、ガード
ワイヤ４Ａの上側に移送され第一の回転ブラシ５Ａでそ
の移送速度より大きい速度で表面ＩＡが擦過される。そ
のため、マットの毛羽からの屡の分離が容易である。こ
の回転ブラシは大型の形状のもので、マットの表面ＩＡ
の大きい塵を除去する。除去された廖を含んだ負圧室３
Ａの空気はその下方に設けられたフレキシブルダク）３
Ｂを介してフィルタ３Ｃで集廖され、ブロア３Ｄで排気
され、排気ダク）３Ｅにより作業に支障のない場所に放
出される。

前記第一の回転ブラシ５Ａがマットの表面ＩＡより分離
した塵は負正により吸引され除去される。

さらに回転ブラシ５Ａに付着した塵は、第二の回転ブラ
シ５Ｂにより除去される。これも負圧により吸引される
。さらにこの第二の回転ブラシ５Ｂにより付着して残っ
た庭はＩｊａ　５　Ｃにより除去される。このようにし
て第一の回転ブラシ５Ａはつねにクリーニングされた状
態でマットの表面ＩＡを擦過する。すなわちブラシ群５
からの崖が再びマットの表面ＩＡに付着することはない
。

つぎにマットは上ローラ７Ａと下ローラ７Ｂによりブラ
シ群６を収める負圧室１３Ａの上方に搬送され、上ロー
ラ６Ｄとガートワイヤ１４Ａの間に挟まれて、第一の回
転ローラ６Ａで擦過される。この回転ローラ６Ａは前記
回転ローラ５Ａより小型の形状となっている。すなわち
前記ブラシ群５では除去できなかった細かい廖を除去で
きる。ブラシ群６における第二の回転プラン６Ｂおよび
尚６Ｃの作用はブラシ群５のそれぞれと同様である。

また負圧室１３Ａ内の磨を含んだ空気はフレキシブルダ
ク）１３Ｂによりフィルタ３Ｃに導かれ前記と同様に排
気放出される。

薬剤が塗布されたマットは、反転ガイド１０により上下
面が反転されてベルトコンベア１２Ａ上に落下する。

薬剤塗布を必要としないマットは、レバー９ＡをＨ’ｌ
てフレーム９Ｂおよびこのフレーム９Ｂに固定されたガ
ードワイヤ９Ｃをかたむけて、負圧室１３Ａ上のガード
ワイヤ１４Ａとの間をあけることによって側路に導き、
前記塗布ローラ８Ａ上を通過させないようにする。

薬剤が塗布されまたは塗布されずに脱塵処理が完了され
た足ふきマット１は、最初挿入された側にある排出口１
１に搬送されるので、−人の作業者が本第二実施例装置
を操作することができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、足ふきマットの
必要な表面に薬剤の塗布が小さい作業工数で均一に行わ
れ、かつ薬剤を無駄に消費することない足ふきマットの
薬剤塗布装置が実現できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第一実施例装置の断面説明図。 第２図は上記実施例装置の一部破断斜視図。 第３図は本発明の第二実施例装置の断面説明図。 第４図は上記実施例装置の一部破断斜視図。 第５図は第４図に示す■部の拡大図。 １・・・足ふきマット、ＩＡ・・・足ふきマットの化学
繊維質の毛羽が形成された表面、°２　Ａ、２Ｃ１６Ｄ
、７Ｂ、２１Ａ・・・上ローラ、２　Ｂ、７Ｂ、２１Ｂ
。 ２１Ｃ・・・下ローラ、２Ｄ・・・ローラベルト、２Ｅ
・・・テンサバ−１３Ａ、１３Ａ・・・負圧室、３Ｂ、
１３Ｂ・・・フレキシブルダクト、３Ｃ，２６Ｄ・・・
フィルタ、３Ｄ・・・ブロア、３Ｅ・・・排気ダクト、
４Ａ、９Ｃ１１４Ａ・・・ガードワイヤ、４Ｂ・・・ガ
ードフレーム、５．６・・・ブラシ群、５Ａ、６Ａ・・
・第一の回転ブラシ、５Ｂ、６Ｂ・・・第二の回転ブラ
シ、５Ｃ１６Ｃ・・・櫛、８Ａ・・・塗布ローラ、８Ｂ
・・・押えローラ、８Ｃ・・・スポンジ状物体、８Ｄ・
・・多数の細孔があけられたパイプ、８Ｅ・・・ドレン
パン、８Ｆ・・・ポンプ、８Ｇ１２４・・・送液管、８
Ｈ１２６Ｃ・・・返液管、８ｊ・・・薬剤タンク、９Ａ
・・・レバー、９Ｂ・・・フレーム、１０・・・反転ガ
イド、１１．４２・・・排出口、１２Ａ、３０・・・ベ
ルトコンベア、１２Ｂ・・・駆動モータ、２２・・・主
ローラ、２２Ａ・・・主ローラの表面のスポンジ状体、
２３・・・補助ローラ、２３Ａ・・・軸受部、２５・・
・凹部、２５Ａ・・・堰、２６Ａ・・・ポンプ、２６Ｂ
・・・薬剤タンク、２８・・・バネ、２９Ａ、２９Ｂ・
・・案内板、４１・・・挿入口。 特許出願人　日本エンドレス株式会社 代理人　弁理士　井　出　直　孝 第−実犯例託明図 ￥ＥＪ　ｉ　図 肩−夷扇例斜：＋ｌＬ図 、￥１２　回

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、少なくとも一方の表面に繊維性の毛羽が形成された
   足ふきマットを進行させる第一ローラ手段と、 この第一ローラ手段の下流側に設置され進行するマット
   の前記表面に微量の液状薬剤を塗布する手段と を備えた足ふきマットの薬剤塗布装置において、前記液
   状薬剤を塗布する手段は、 前記第一ローラ手段によるマットの進行を助ける方向に
   回転する第二ローラ手段を含み、この第二ローラ手段は
   、進行するマットの前記表面に接触する主ローラと、こ
   の主ローラの表面に液状薬剤を供給する手段とを含む ことを特徴とする足ふきマットの薬剤塗布装置。 ２、第二ローラ手段はその主ローラの表面がスポンジ状
   であり、この主ローラに接しかつ進行するマットに接す
   ることなく回転しこの主ローラより径が小さくその表面
   が硬質に形成された補助ローラを含み、 液状薬剤を供給する手段は、前記主ローラと前記補助ロ
   ーラとの接触部近傍に液状薬剤を滴下する手段を含む 請求項１記載の足ふきマットの薬剤塗布装置。 ３、第二ローラ手段は、その主ローラの表面が硬質であ
   り、 液状薬剤を供給する手段は、前記主ローラに接するスポ
   ンジ状物体と、このスポンジ状物体に液状薬剤をしみ込
   ませる手段とを含む 請求項１記載の足ふきマットの薬剤塗布装置。