JPH01228530A - 真空装置の結合方法 - Google Patents
真空装置の結合方法Info
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- JPH01228530A JPH01228530A JP63054346A JP5434688A JPH01228530A JP H01228530 A JPH01228530 A JP H01228530A JP 63054346 A JP63054346 A JP 63054346A JP 5434688 A JP5434688 A JP 5434688A JP H01228530 A JPH01228530 A JP H01228530A
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- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 24
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
複数の真空装置間の結合方法に関し、
結合の容易化による生産性の向上を目的とし、複数の真
空装置に真空を破ることなく順次試料を搬送する真空搬
送トンネルであって、搬送レールを内在し且つ各端面に
真空フランジが形成された直線搬送トンネル、L字搬送
トンネル、1字搬送トンネル、十字搬送トンネル、上下
搬送トンネルのそれぞれをユニットとして形成し、所要
真空装置の配置に合わせて上記ユニット複数個を選択組
み合わせて構成する。
空装置に真空を破ることなく順次試料を搬送する真空搬
送トンネルであって、搬送レールを内在し且つ各端面に
真空フランジが形成された直線搬送トンネル、L字搬送
トンネル、1字搬送トンネル、十字搬送トンネル、上下
搬送トンネルのそれぞれをユニットとして形成し、所要
真空装置の配置に合わせて上記ユニット複数個を選択組
み合わせて構成する。
C産業上の利用分野〕
本発明は複数の真空装置間の結合方法に係り、特に真空
搬送トンネルを搬送機能形態別にユニット化することに
よって結合の容易化を図った真空装置の結合方法に関す
る。
搬送トンネルを搬送機能形態別にユニット化することに
よって結合の容易化を図った真空装置の結合方法に関す
る。
第2図は従来の真空装置の結合方法を例示した概念図で
あり、(A)は廊下方式と呼ばれる方法をまた(B)は
サテライト方式と呼ばれる方法を示したものである。
あり、(A)は廊下方式と呼ばれる方法をまた(B)は
サテライト方式と呼ばれる方法を示したものである。
図(A)で、例えば1は分子線結晶成長装置、2は蒸着
装置、3はスパンタリング装置、4はエツチング装置の
如く作業内容の異なる真空装置を示し、上記各真空装置
は真空搬送トンネル5および該真空搬送トンネル5から
上記の各真空装置に対応して分岐する補助真空搬送トン
ネル1°、2“。
装置、3はスパンタリング装置、4はエツチング装置の
如く作業内容の異なる真空装置を示し、上記各真空装置
は真空搬送トンネル5および該真空搬送トンネル5から
上記の各真空装置に対応して分岐する補助真空搬送トン
ネル1°、2“。
3°、4°によって密封を保って連結されている。
また上記真空搬送トンネル5および補助真空搬送トンネ
ル1’、2° 3+、41の内部には、半導体ウェハ基
板等の試料6が載置される搬送トロッコ7が図示されて
いないチエイン等によって自在に滑動できるレール台8
および81が同一面をなすように装着されており、真空
搬送トンネル5と各補助真空搬送トンネル1′、2“
3′、4?との分岐点部分には、真空回転導入機9を介
して該真空搬送トンネル5の外部に設けられたハンドリ
ング装置10の操作で上記レール台8と同一面内で水平
方向に回転するターンテーブル11が装着されている。
ル1’、2° 3+、41の内部には、半導体ウェハ基
板等の試料6が載置される搬送トロッコ7が図示されて
いないチエイン等によって自在に滑動できるレール台8
および81が同一面をなすように装着されており、真空
搬送トンネル5と各補助真空搬送トンネル1′、2“
3′、4?との分岐点部分には、真空回転導入機9を介
して該真空搬送トンネル5の外部に設けられたハンドリ
ング装置10の操作で上記レール台8と同一面内で水平
方向に回転するターンテーブル11が装着されている。
なお12は各分岐点のターンテーブル11の近傍を外部
から観察する観察窓である。
から観察する観察窓である。
ここで試料6を真空搬送トンネル5の挿入口5a部分で
レール台8上の搬送トロッコ7に載置するが、この状態
で該搬送トロッコ7は図示されていないチエイン等で図
示Aの方向に移動するように構成されている。
レール台8上の搬送トロッコ7に載置するが、この状態
で該搬送トロッコ7は図示されていないチエイン等で図
示Aの方向に移動するように構成されている。
そこで所要の真空装置に対応する観察窓12で見られる
ターンテーブル11に上記搬送トロッコ7が到達した時
点でA方向の移動を停止させた後、ハンドリング装置1
0を操作して90度方向転換しそのまま該搬送トロッコ
7を補助真空搬送トンネル内のレール台8°上を滑らせ
て所要真空装置の所定位置まで該搬送トロッコ7を移動
させている。
ターンテーブル11に上記搬送トロッコ7が到達した時
点でA方向の移動を停止させた後、ハンドリング装置1
0を操作して90度方向転換しそのまま該搬送トロッコ
7を補助真空搬送トンネル内のレール台8°上を滑らせ
て所要真空装置の所定位置まで該搬送トロッコ7を移動
させている。
円内拡大図はターンテーブル11部分の平面図であり、
ターンテーブル11はメインの真空搬送トンネル5すな
わちレール台8と同方向になっている場合を示している
。
ターンテーブル11はメインの真空搬送トンネル5すな
わちレール台8と同方向になっている場合を示している
。
所要作業終了後は、ハンドリング装置10を操作して該
搬送トロッコ7をメインの真空搬送トンネル5のターン
テーブル11まで引き戻し再度方向転換させて次工程の
所要真空装置に移動させる。
搬送トロッコ7をメインの真空搬送トンネル5のターン
テーブル11まで引き戻し再度方向転換させて次工程の
所要真空装置に移動させる。
以下同様の操作を繰り返して所要の複数工程の真空作業
を継続させている。
を継続させている。
図(B)では、メインの真空搬送トンネル5に各真空装
置1,2,3.4に連結する補助真空搬送トンネル1
’ 、2 ’ 、3 ’ 、4°を放射状に配設したも
ので、試料が搭載された搬送トロッコをメインの真空搬
送トンネル5から補助真空搬送トンネルを経由して真空
装置に送り込む内部構造は図(八)の場合と同様である
。
置1,2,3.4に連結する補助真空搬送トンネル1
’ 、2 ’ 、3 ’ 、4°を放射状に配設したも
ので、試料が搭載された搬送トロッコをメインの真空搬
送トンネル5から補助真空搬送トンネルを経由して真空
装置に送り込む内部構造は図(八)の場合と同様である
。
従って、図(A)同様に試料6が載置された搬送トロッ
コ7を、真空搬送トンネル5の挿入口5a部分から挿入
し該真空搬送トンネル5の中央部に設置したテーブル1
1“上に到達した時点で、ハンドリング装置10゛を操
作して所要真空装置に送り込むように構成している。
コ7を、真空搬送トンネル5の挿入口5a部分から挿入
し該真空搬送トンネル5の中央部に設置したテーブル1
1“上に到達した時点で、ハンドリング装置10゛を操
作して所要真空装置に送り込むように構成している。
なお、真空搬送トンネル5の頭部に観察窓12が設けら
れていることは図(八)と同様である。
れていることは図(八)と同様である。
従来の構成になる真空装置の結合方法では、廊下方式に
よる配列構成では主となる真空搬送トンネルに沿って各
種真空装置を配設しているためラインの全長が長くなる
と共に新しい真空装置を追加する場合にはライン全体の
構成を変更しなければならないと云う問題があり、また
サテライト方式による構成ではサテライトターミナルと
なる真空搬送トンネルに結合できる真空装置の台数が少
なく且つ限定されるために拡張性に乏しいと云う問題が
あった。
よる配列構成では主となる真空搬送トンネルに沿って各
種真空装置を配設しているためラインの全長が長くなる
と共に新しい真空装置を追加する場合にはライン全体の
構成を変更しなければならないと云う問題があり、また
サテライト方式による構成ではサテライトターミナルと
なる真空搬送トンネルに結合できる真空装置の台数が少
なく且つ限定されるために拡張性に乏しいと云う問題が
あった。
上記問題点は、複数の真空装置に真空を破ることなく順
次試料を搬送する真空搬送トンネルであって・ 搬送レールを内在し且つ各端面に真空フランジが形成さ
れた直線搬送トンネル、L字搬送トンネル、T字搬送ト
ンネル、十字搬送トンネル、上下搬送トンネルのそれぞ
れをユニットとして形成し、所要真空装置の配置に合わ
せて上記ユニット複数個を選択組み合わせる真空装置の
結合方法によって解決される。
次試料を搬送する真空搬送トンネルであって・ 搬送レールを内在し且つ各端面に真空フランジが形成さ
れた直線搬送トンネル、L字搬送トンネル、T字搬送ト
ンネル、十字搬送トンネル、上下搬送トンネルのそれぞ
れをユニットとして形成し、所要真空装置の配置に合わ
せて上記ユニット複数個を選択組み合わせる真空装置の
結合方法によって解決される。
複数の所要真空装置間が自由に結合できると共に真空装
置の新増設に容易に対応させるには、メインとなる真空
搬送トンネルからの分岐が容易で且つ該分岐点から如何
なる方向へでも伸ばし得る搬送トンネルユニットを複数
個組み合わせればよい。
置の新増設に容易に対応させるには、メインとなる真空
搬送トンネルからの分岐が容易で且つ該分岐点から如何
なる方向へでも伸ばし得る搬送トンネルユニットを複数
個組み合わせればよい。
本発明では、搬送レールを内設し且つ各端面に真空フラ
ンジを有する直線搬送トンネル、L字搬送トンネル、T
字搬送トンネル、十字搬送トンネル、上下搬送トンネル
を独立したユニー/ トとして形成している。
ンジを有する直線搬送トンネル、L字搬送トンネル、T
字搬送トンネル、十字搬送トンネル、上下搬送トンネル
を独立したユニー/ トとして形成している。
従ってメインとなる真空搬送トンネルに上記各ユニット
を選択して連結することによって、複数の所要真空装置
の配置に合致し且つ真空装置の新増設にも容易に対応で
きる真空系の構築を可能としている。
を選択して連結することによって、複数の所要真空装置
の配置に合致し且つ真空装置の新増設にも容易に対応で
きる真空系の構築を可能としている。
第1図は本発明になる真空装置の結合方法による実施例
を示した図であり、(八)は全体の構成例をまた(B)
は真空搬送トンネル内の構造例を示す概念図で(イ)は
直線搬送トンネルユニット(ロ)は十字搬送トンネルユ
ニット、(ハ)は上下真空搬送トンネルユニットを示し
たものである。
を示した図であり、(八)は全体の構成例をまた(B)
は真空搬送トンネル内の構造例を示す概念図で(イ)は
直線搬送トンネルユニット(ロ)は十字搬送トンネルユ
ニット、(ハ)は上下真空搬送トンネルユニットを示し
たものである。
例えば3台の真空装置を結合した場
合を示す第1図(A)で、15は分子線結晶成長装置。
16は蒸着装置、17はスパッタリング装置の如く作業
内容の異なる真空装置である。またメインとなる真空搬
送トンネル18は、密閉開閉式の導入窓19aを備えた
導入室ユニット19と真空を保って連結している。
内容の異なる真空装置である。またメインとなる真空搬
送トンネル18は、密閉開閉式の導入窓19aを備えた
導入室ユニット19と真空を保って連結している。
図の如き構成の場合には、該真空搬送トンネル18と分
子線結晶成長装置15とは十字真空搬送トンネルユニソ
l−20および直線真空搬送トンネルユニット21を経
て連結され、蒸着装置16は十字真空搬送トンネルユニ
ット201丁字真空搬送トンネルユニット22および5
字真空搬送トンネルユニット23を経由して連結され、
またスパッタリング装置17とは十字真空搬送トンネル
ユニット20.丁字真空搬送ト・ンネルユニット22お
よび上下真空搬送トンネルユニット24を経由して連結
している。
子線結晶成長装置15とは十字真空搬送トンネルユニソ
l−20および直線真空搬送トンネルユニット21を経
て連結され、蒸着装置16は十字真空搬送トンネルユニ
ット201丁字真空搬送トンネルユニット22および5
字真空搬送トンネルユニット23を経由して連結され、
またスパッタリング装置17とは十字真空搬送トンネル
ユニット20.丁字真空搬送ト・ンネルユニット22お
よび上下真空搬送トンネルユニット24を経由して連結
している。
なお、上記の各真空装置とユニット間および各ユニット
相互間は、それぞれが有する真空フランジによって真空
を保って連結されている。
相互間は、それぞれが有する真空フランジによって真空
を保って連結されている。
第1図(B)で、(イ)は基本となる直線搬送トンネル
ユニット21の内部構造例を示し7た図であり、ステン
レス等よりなり両端に真空フランジ25aが形成された
パイプ状の筐体25の内部には、逆T字形の凸部26a
を備えたレール26が内設されている。
ユニット21の内部構造例を示し7た図であり、ステン
レス等よりなり両端に真空フランジ25aが形成された
パイプ状の筐体25の内部には、逆T字形の凸部26a
を備えたレール26が内設されている。
また半導体ウェハ等の試料27を搭載し搬送するだめの
搬送トロッコ28は上記レール26の凸部26aをガイ
ドとして図示B方向に自在に移動できる磁気浮上式であ
って磁気によってレール26とは非接触に支持されるよ
うに構成されている。
搬送トロッコ28は上記レール26の凸部26aをガイ
ドとして図示B方向に自在に移動できる磁気浮上式であ
って磁気によってレール26とは非接触に支持されるよ
うに構成されている。
なお該搬送トロッコ28のB方向の駆動は、図示されて
いないリニアモータ等を用いて行っている。
いないリニアモータ等を用いて行っている。
一方上記の各真空搬送トンネルユニットの内部の分岐点
あるいは弯曲点部分には、例えば十字真空搬送トンネル
ユニット20の内部を示す図(ロ)。
あるいは弯曲点部分には、例えば十字真空搬送トンネル
ユニット20の内部を示す図(ロ)。
上下真空搬送I・ンネルユニット24の内部を示す図(
ハ)の如く、上記レール26と同一形状の凸部26aを
有し且つ該レール26と同一面内で図示Cの如く水平方
向に軸回転するテーブル29あるいは図示りの方向に所
定距離だけ上下動できるテーブル291が設けられてい
るが、この回転および上下動の駆動力は第2図の場合と
同様に真空回転導入機等を介して大気側から真空を破る
ことなく伝達されるように構成している。
ハ)の如く、上記レール26と同一形状の凸部26aを
有し且つ該レール26と同一面内で図示Cの如く水平方
向に軸回転するテーブル29あるいは図示りの方向に所
定距離だけ上下動できるテーブル291が設けられてい
るが、この回転および上下動の駆動力は第2図の場合と
同様に真空回転導入機等を介して大気側から真空を破る
ことなく伝達されるように構成している。
なお、丁字真空搬送トンネルユニット22および5字真
空搬送トンネルユニット23の各分岐弯曲部分にも、図
(ロ)で示した十字真空搬送トンネルユニット20の場
合と全く同様のテーブル28を装着している。
空搬送トンネルユニット23の各分岐弯曲部分にも、図
(ロ)で示した十字真空搬送トンネルユニット20の場
合と全く同様のテーブル28を装着している。
かかる構成になる真空装置の連結方法では、密閉開閉式
の導入窓19aから搬送トロッコ27と共に該真空系に
導入された試料27は、図示されていないリニアモータ
等の動作によって導入室ユニソト19から真空搬送トン
ネル18を81方向に移動して十字真空搬送トンネルユ
ニット20の分岐点にあるテーブル29上に到達する。
の導入窓19aから搬送トロッコ27と共に該真空系に
導入された試料27は、図示されていないリニアモータ
等の動作によって導入室ユニソト19から真空搬送トン
ネル18を81方向に移動して十字真空搬送トンネルユ
ニット20の分岐点にあるテーブル29上に到達する。
ここで該試料27が分子線結晶成長作業を必要とする場
合は、搬送トロッコ28はテーブル29で90度方向転
換されてB1 “となりそのまま直線真空搬送トンネル
ユニット21を経て分子線結晶成長装置15に送り込ま
れて所要の作業が実施される。また該作業が不必要な場
合にはテーブル29の方向転換が行われずそのまま素通
りしてB、ITとなって丁字真空搬送トンネルユニット
22に内設されているテーブル29上に移動する。
合は、搬送トロッコ28はテーブル29で90度方向転
換されてB1 “となりそのまま直線真空搬送トンネル
ユニット21を経て分子線結晶成長装置15に送り込ま
れて所要の作業が実施される。また該作業が不必要な場
合にはテーブル29の方向転換が行われずそのまま素通
りしてB、ITとなって丁字真空搬送トンネルユニット
22に内設されているテーブル29上に移動する。
ここで該試料27の所要の作業内容によって例えば蒸着
作業が必要な場合には図面上で右回転してB2 ’と
なりL字真空搬送トンネルユニット23を経由して蒸着
装置16に送り込まれ、またスパッタリング作業を要す
るときには左回転してB3 ’となり上下真空搬送トン
ネルユニット24で高さ方向に移動してBa ”とな
ってそのままスパッタリング装置17に送り込まれるよ
うになっている。
作業が必要な場合には図面上で右回転してB2 ’と
なりL字真空搬送トンネルユニット23を経由して蒸着
装置16に送り込まれ、またスパッタリング作業を要す
るときには左回転してB3 ’となり上下真空搬送トン
ネルユニット24で高さ方向に移動してBa ”とな
ってそのままスパッタリング装置17に送り込まれるよ
うになっている。
なお図では分子線結晶成長装置15に分岐する部分に十
字真空搬送トンネルユニソ)20を用いているために、
該分子線結晶成長装置15の反対側(図面左側)に4台
目の真空装置の結合が可能であることを示している。
字真空搬送トンネルユニソ)20を用いているために、
該分子線結晶成長装置15の反対側(図面左側)に4台
目の真空装置の結合が可能であることを示している。
上述の如く本発明を実施することにより、周囲の保守ス
ペースを確保しながら配置される複数の真空装置間を自
由に連結できると共に、真空装置の新増設にも容易に対
処できる真空装置の連結方法を提供することができる。
ペースを確保しながら配置される複数の真空装置間を自
由に連結できると共に、真空装置の新増設にも容易に対
処できる真空装置の連結方法を提供することができる。
第1図は本発明になる真空装置の結合方法による実施例
を示した図、 第2図は従来の真空装置の結合方法を例示した概念図、 である。図において、 15は分子線結晶成長装置、16は蒸着装置。 17はスパッタリング装置、 18は真空搬送トンネル、 19は導入室ユニット19
aは導入窓、 20は十字真空搬送トンネルユニット、21は直線真空
搬送トンネルユニット、22は丁字真空搬送トンネルユ
ニット、23はL字真空搬送トンネルユニット、24は
上下真空搬送トンネルユニット、25は筐体、
25aは真空フランジ、26はレール、 26
aは凸部、27は試料、 28は搬送トロッコ
、29.29 ’はテーブル、 をそれぞれ表わす。
を示した図、 第2図は従来の真空装置の結合方法を例示した概念図、 である。図において、 15は分子線結晶成長装置、16は蒸着装置。 17はスパッタリング装置、 18は真空搬送トンネル、 19は導入室ユニット19
aは導入窓、 20は十字真空搬送トンネルユニット、21は直線真空
搬送トンネルユニット、22は丁字真空搬送トンネルユ
ニット、23はL字真空搬送トンネルユニット、24は
上下真空搬送トンネルユニット、25は筐体、
25aは真空フランジ、26はレール、 26
aは凸部、27は試料、 28は搬送トロッコ
、29.29 ’はテーブル、 をそれぞれ表わす。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 複数の真空装置に真空を破ることなく順次試料を搬送
する真空搬送トンネルであって、 搬送レール(26)を内在し且つ各端面に真空フランジ
(25a)が形成された直線搬送トンネル(21)、L
字搬送トンネル(23)、T字搬送トンネル(22)、
十字搬送トンネル(20)、上下搬送トンネル(24)
のそれぞれをユニットとして形成し、所要真空装置の配
置に合わせて上記ユニット複数個を選択組み合わせるこ
とを特徴とする真空装置の結合方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63054346A JPH01228530A (ja) | 1988-03-08 | 1988-03-08 | 真空装置の結合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63054346A JPH01228530A (ja) | 1988-03-08 | 1988-03-08 | 真空装置の結合方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01228530A true JPH01228530A (ja) | 1989-09-12 |
Family
ID=12968063
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63054346A Pending JPH01228530A (ja) | 1988-03-08 | 1988-03-08 | 真空装置の結合方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01228530A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03124022A (ja) * | 1989-10-06 | 1991-05-27 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
JPH04275449A (ja) * | 1991-03-04 | 1992-10-01 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 磁気搬送装置 |
US5641054A (en) * | 1992-07-07 | 1997-06-24 | Ebara Corporation | Magnetic levitation conveyor apparatus |
JP2001135699A (ja) * | 1999-11-01 | 2001-05-18 | Yasuto Karasawa | 基板搬送装置 |
WO2010038612A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 株式会社Sumco | 半導体製造工場 |
JP2022508019A (ja) * | 2018-09-19 | 2022-01-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 磁気浮上システム、磁気浮上システムのベース、真空システム、及び真空チャンバにおいてキャリアを非接触で保持及び移動させる方法 |
KR20220116079A (ko) * | 2014-01-21 | 2022-08-19 | 퍼시몬 테크놀로지스 코포레이션 | 기판 이송 진공 플랫폼 |
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-
1988
- 1988-03-08 JP JP63054346A patent/JPH01228530A/ja active Pending
Patent Citations (1)
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JPS6257378A (ja) * | 1985-09-05 | 1987-03-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 自動利得制御装置 |
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