JPH01224642A - 粒子解析装置 - Google Patents

粒子解析装置

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JPH01224642A
JPH01224642A JP63052423A JP5242388A JPH01224642A JP H01224642 A JPH01224642 A JP H01224642A JP 63052423 A JP63052423 A JP 63052423A JP 5242388 A JP5242388 A JP 5242388A JP H01224642 A JPH01224642 A JP H01224642A
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scattered light
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Moritoshi Miyamoto
守敏 宮本
Kazuo Yoshinaga
和夫 吉永
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は粒子解析装置に関し、特にフローセル内を通過
する被検粒子にレーザ光等を照射し、該被検粒子から発
する散乱光または蛍光を検出して被検粒子の性質、構造
等を解析する、いわゆるフローサイトメータに関する。
[従来の技術] フローサイトメータ等に用いられる従来の粒子解析装置
では、フローセルの中央部の例えば200μm×200
μmの微小な矩形断面を有する流通部内をシース液に包
まれて通過する血球細胞等のサンプル液に照射光を照射
し、その結果束ずる前方散乱光及び側方散乱光、更には
蛍光により被検粒子の形状、大きさ、屈折率等の粒子的
性質を得ることで粒子解析を行なう。
第4図でフローセルlの中央部の紙面に垂直な流通部2
内に被検粒子Sが通過し、その流れと直交する方向にレ
ーザ光源3が配置されている。このレーザ光源3から出
射されたレーザ光を2個のシリンドリカルレンズを直交
させてなる結像レンズ系4により被検粒子Sに対して収
斂照射する。
また光軸上、被検粒子Sに対してレーザ光源3と反対側
にストッパ5、集光レンズ6、光検出器7が順次配列さ
れている。レーザ光源3から出射されたレーザ光は2個
のシリンドリカルレンズを直交させた結像レンズ系4に
より任意の長径、短径の結像ビームに成形され、流通部
2内を流れる被検粒子Sに照射される。被検粒子Sによ
って散乱されずに直進するレーザ光はストッパ5でカッ
トされ、被検粒子Sによって散乱された散乱光のうち、
前方散乱光が集光レンズ6を介して光検出器7に集光さ
れ、被検粒子Sの粒子径情報が測定される。従来、前方
散乱光の検出強度は被検粒子の、粒子径と1対1で対応
すると考えられ、該前方散乱光の検出強度により演算回
路18にて粒子径を演算していた。
[発明が解決しようとしている問題点]しかしながら、
従来のように照射光にレーザ光等の単色光を用いたもの
は、被検粒子が透光性である場合、第5図に示す如く散
乱光検出強度と粒子径の関数は単調増加関数とならず、
ある粒子径付近ではりニアリテイが崩れてしまい、その
付近の粒子径が算出できないという問題点があった。
この問題点を解決するための1手段として特開昭62−
293143では、照射光に波長の異なる2つのレーザ
光源を用意して被検粒子に2つ同時に照射し、その結果
生じる散乱光の強度から被検粒子の粒子径を求めること
を開示している。しかしながら、引例では使用するレー
ザ光の波長と粒子径の組み合わせによっては単調増加関
数とはならず、粒子径の算出が不可能の場合もあり得る
。また引例ではレーザ光の光軸に対して側方方向の散乱
光から粒子径を求めているが一般に粒子径は前方散乱光
の強度に多くの情報が含まれており、側方散乱光からは
正確な粒子径が求めにくい。
本発明は被検粒子のサイズに拘わらず、正確な粒子径を
求めることができる粒子解析装置の提供を目的とする。
[問題点を解決するための手段] 前記問題点を解決するため本発明は、被検粒子に照射光
を照射し該被検粒子からの光を測光して粒子解析を行な
う粒子解析装置において、前記被検粒子に第1の波長及
び第2の波長の照射光を照射する手段と、前記被検粒子
から発する散乱光を前記第1の波長と前記第2の波長に
区別して測光する第1、第2の測光手段と、前記第1、
第2の測光手段の各々の出力に所定の補正係数をかけて
足し合わせた補正値が前記被検粒子の粒子径と1対1の
関係になるように補正値を演算する補正手段と、該補正
値と粒子径の関係を記憶する記憶部を備える。
[実施例1] 第1図は複数波長の照射光を得るのに非線形光学材料の
SHGを利用した本発明の第1実施例の構成図であり、
第4図と同一の符号は同一の部材を表わす。
非線形光学材料とは本願出願人が先に出願した特願昭8
2−51786および特願昭62−54439に示され
る非線形光学効果を持つ材料であり、波長λの入射光に
対してλ/2の波長の光を出射するSHG (第2高調
波発生)の非線形光学効果が特に知られている。またこ
の時、もとの波長λの光も同時に出射される。これによ
り照射光の複数波長化が可能となる。
第1図でレーザ光源3から発する照射光の光路中には集
光レンズ9、非線形光学材料8.2個のシリンドリカル
レンズを直交させた結像レンズ系4、フローセルlが順
に配置されており、レーザ光源3からから発射した波長
λのレーザ光を集光レンズ9により収斂して非線形光学
材料8に入射させる。ここで収斂して入射させるのは、
入射光のパワー密度が大きいほど非線形光学材料の変換
効率が高いためである。前記非線形光学材料のSHGに
より変換されて出射された、同じ光束中にλとλ/2の
2種類の波長を含んだ光は、フローセルl内の流通部2
を流れる被検粒子Sに照射されて、被検粒子Sで散乱さ
れない直接光はストツーバ5でカットされる。被検粒子
Sによって散乱された散乱光の内、光路直進方向に発す
る前方散乱光が、フローセルlを挟んで照射光光路の反
列側に置かれた集光レンズ6で集光されて1.集光レン
ズ6の後方に置かれたダイクロイックミラーlOにより
波長分離される。波長λの散乱光はダイクロイックミラ
ーIOを通過して光検出器7により受光され、波長λ/
2の散乱光は前記ダイクロイックミラー10で反射され
て光検出器11で受光される。各々の光検出器7.11
で検出された散乱光強度信号は補正回路16に人力され
て、各々の入力値に所定の補正係数をかけて足し合わせ
た補正値が算出され、該補正値が演算記憶回路17に人
力される。ここで、該演算記150回路17に記憶され
た補正値と粒子径の関係のテーブルを参照することによ
り被検粒子の粒子径が算出される。
さて、次に各波長ごとに受光された散乱光強度から被検
粒子の粒子径を求める方法について第3図を用いて説明
する。
第3図は2つの波長の光源を用いた際の粒子径と散乱光
強度の関係を表わすグラフであり、I1は波長λの散乱
光強度と粒子径の関係を表わすグラフ、I2は波長λ/
2の散乱光強度と粒子径の関係を表わすグラフである。
これらのグラフは種々のサイズのラテックス粒子を用い
た実験により求まったものである。これから分かるよう
に単波長の照射光単独ではグラフは単調増加関数とはな
らず、ある粒子径付近では算出不可能となってしまう。
そこで散乱光強度■1とI2に補正係数a、bを掛けて
足し合せた補正値al 、+b12と粒子径の関数が第
3図のような単調増加関数となるように補正係数a、b
の値を選んでやることにより、前記補正値と粒子径が1
対1の関係となり、被検粒子のサイズに拘わらず粒子径
を算出することが可能となる。この補正値と粒子径の関
係は演算記憶回路17に記憶されている。なお補正係数
a、bの値は正とは限らず、場合によっては負となるこ
ともある。
[実施例2] 第2図は照射光に波長の異なる2つのレーザ光源を用い
た本発明の第2実施例の構成図であり、第1図と同一の
符号は同一の部材を表わす。
レーザ光源3から出射された波長λ1のレーザ光は、ダ
イクロイックミラー14を通過する。またレーザ光源3
とは波長の異なるレーザ光源13から出射された波長λ
2のレーザ光は、全反射ミラー15で反射され、更にダ
イクロイックミラー14でも反射されて、前記レーザ光
源3から出射された波長λのレーザ光の光路と合成され
、結像レンズ系4に入射する。結像レンズ系4で収斂さ
れたレーザ照射光はフローセルl内の流通部2を通過す
る被検粒子Sに照射される。被検粒子Sより発する散乱
光は第1実施例と同様な受光系にて受光されて被検粒子
の粒子径が演算される。
なお以上の実施例では2つの異なる波長の照射光を用い
たが、3つ以上の異なる波長の照射光を使うことがより
好ましく、それによフて更に確実で正確な粒子径を算出
することが可能となる。この場合は、各々の波長の散乱
光強度r、、I2、I3・・・にそれぞれ適当な補正係
数を掛けて足し合わせた補正値al、+bJ2+c13
◆・・・から正確な粒子径を求めることができる。
[発明の効果コ 以上本発明によれば、従来被検粒子の粒子径を求める際
、前方散乱光強度と粒子径の関係は一方が決まれば他方
が唯一定まるという1対1の関係ではなく、ある粒子径
付近では粒子径算出が困難であったものが、複数波長を
含むレーザ光を用いて、波長ごとに散乱光の強度を検出
して補正することにより、補正値と粒子径の関係を1対
1にすることができ、被検粒子サイズに拘わらず正確な
粒子径を求めることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例の構成図、第2図は第2実
施例の構成図、 第3図は複数波長の光源を用いた際の粒子径と散乱光強
度の関係を表わすグラフ、 第4図は従来例の図、 第5図は単色光源を用いた際の粒子径と散乱光強度の関
係を表わすグラフ、 である。図中、 lはフローセル、2は流通部、 3.13はレーザ光源、4は結像レンズ系、5はストッ
パ、6は集光レンズ、 7、IIは光検出器、8は非線形光学材料、1O114
はダイクロイックミラー、 15は全反射ミラー、 16は補正回路、17は演算記憶回路、である。 韓子程炒

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、被検粒子に照射光を照射し該被検粒子からの光を測
    光して粒子解析を行なう粒子解析装置において、前記被
    検粒子に第1の波長及び第2の波長の照射光を照射する
    手段と、前記被検粒子から発する散乱光を前記第1の波
    長と前記第2の波長に区別して測光する第1、第2の測
    光手段と、前記第1、第2の測光手段の各々の出力に所
    定の補正係数をかけて足し合わせた補正値が前記被検粒
    子の粒子径と1対1の関係になるように補正値を演算す
    る補正手段と、該補正値と粒子径の関係を記憶する記憶
    部を備えたことを特徴とする粒子解析装置。 2、前記第1、第2の波長の照射光は単波長のレーザ光
    を非線形光学材料を用いて複数波長化したものである請
    求項1記載の粒子解析装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0863589A1 (fr) * 1997-03-04 1998-09-09 Thomson-Csf Laser unipolaire multi-longueurs d'ondes

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5499484A (en) * 1978-01-23 1979-08-06 Hitachi Ltd Ultra-fine grain measuring apparatus of light scattering type
JPS62293143A (ja) * 1986-06-12 1987-12-19 Rion Co Ltd 微粒子測定装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5499484A (en) * 1978-01-23 1979-08-06 Hitachi Ltd Ultra-fine grain measuring apparatus of light scattering type
JPS62293143A (ja) * 1986-06-12 1987-12-19 Rion Co Ltd 微粒子測定装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0863589A1 (fr) * 1997-03-04 1998-09-09 Thomson-Csf Laser unipolaire multi-longueurs d'ondes
FR2760574A1 (fr) * 1997-03-04 1998-09-11 Thomson Csf Laser unipolaire multi-longueurs d'ondes

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