JPH0122201B2 - - Google Patents

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JPH0122201B2
JPH0122201B2 JP13852679A JP13852679A JPH0122201B2 JP H0122201 B2 JPH0122201 B2 JP H0122201B2 JP 13852679 A JP13852679 A JP 13852679A JP 13852679 A JP13852679 A JP 13852679A JP H0122201 B2 JPH0122201 B2 JP H0122201B2
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JP
Japan
Prior art keywords
powder
type
nitrogen
nitriding
mixed
Prior art date
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Expired
Application number
JP13852679A
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English (en)
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JPS5663806A (en
Inventor
Masayuki Ishii
Eiji Kamijo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
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Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B21/00Nitrogen; Compounds thereof
    • C01B21/06Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
    • C01B21/068Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with silicon
    • C01B21/0685Preparation by carboreductive nitridation

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はα型窒化けい素粉末の製造方法に係
り、詳しく述べるとシリカ(SiO2)粉末とカー
ボンブラツク(C)粉末の混合粉末に、さらに熱分解
により窒素ガスを発生する尿素、石灰窒素などの
窒素化合物のうち少くとも何れか一種を加えた混
合粉末を窒素ガスを含む雰囲気中で加熱処理する
ことによつて高品質のα型窒化けい素粉末を高収
率で得ることを特徴とするα型窒化けい素粉末の
製造方法に関するものである。 窒化けい素焼結体は高温において優れた機械的
強度、耐熱衝撃、化学的安定性を有することから
各種の用途開発が盛んに行なわれている無機材料
の一つであり、耐熱構造材料例えば高温ガスター
ビン用部材への適用が検討されている。 なかでも特に高温で使用する構造部材の場合、
物理的、化学的安定性が要求されている。 そして出発原料としてα型窒化けい素
(Si3N4)粉末を主成分として用いて焼結した場
合の焼結体はきわめて高い強度を示すことが知ら
れている。 ところで、従来一般に行なわれているSi3N4
末の合成法としては、 (1) 金属けい素粉末を窒化する方法 3Si+2N2→Si3N4 (2) アミドを分解する方法 3Si(NH24→Si3N4+8NH3 (3) ハロゲン化けい素とアンモニアを原料とする
気相反応法 3SiCl4+4NH3→Si3N4+12HCl など (4) 含けい素合金を窒化する方法 (5) シリカをカーボンで還元窒化する方法 などが知られている。 しかしながら(1)の方法では金属Siとして比較的
粗粒のものを選び、窒化後粉砕するため、不純物
の混入は避けられないし、また一般に原料の金属
Siには0.5%前後のFeおよび0.5%以下のCa、Al
などの不純物を含んでおり、これらは窒化後も
Si3N4中に残るためα型Si3N4としての純度は低
下する。 またこの反応は大きな発熱を伴うので温度コン
トロールが極めて重要で一工夫を要すること、さ
らに窒化反応に比較的長時間を要することなどの
欠点がある。 (2)、(3)の方法は無機耐熱材料用のα型Si3N4
末製造にとつて量産的とはいえず、従つて工業的
製造法としては不適当である。 (4)の方法は(1)の方法より窒化に要する時間こそ
短くてすむが、Fe−Si、Ca−Siなどの含けい素
合金を用いるためFe、Caが不純物として残存し、
高純度α型Si3N4粉末が得にくい欠点がある。 また(5)の方法は原料として充分精製したシリカ
粉末およびカーボン粉末を用いる必要があるばか
りでなく、生成物はα型Si3N4、β型Si3N4
Si2ON2およびSiCなどの混合系であるため、α型
Si3N4の収率が低いという欠点があり、実用的で
はない。 本発明者らは、従来のSi3N4粉末合成法におけ
る上記のような不都合を避けるべく検討を進めた
結果、上記シリカ(SiO2)の還元窒化法におい
て、カーボン(C)量を化学当量(この場合シリカ1
重量に対しカーボン0.4重量)程度もしくはこれ
以上の過剰量を用い、且つ尿素や石灰窒素のよう
な窒素化合物を共存させ、一定温度で還元窒化さ
せるならば、高純度α型Si3N4粉末が高収率で得
られることを確認した。このさいの原料として用
いるシリカやカーボンは地球上に多く存在してい
るものであり、経済的にも安く製造できる利点を
も有しているのである。 本発明はこのような知見に基づきSi3N4系の耐
熱構造材料に適するα型Si3N4粉末を高収率で得
られる製造方法を提供しようとするものである。 即ち、本発明は重量比でシリカ粉末1、カーボ
ン粉末0.4〜4および熱分解により窒素ガスを発
生する尿素0.4〜4の割合からなる混合粉末を調
製し、この混合粉末を窒素を含む雰囲気中で1300
〜1500℃で加熱処理し、還元窒化させることを特
徴とするα型窒化けい素粉末の製造方法である。 本発明において出発原料中に窒素化合物を混合
した場合は、そうでない場合に比べ短時間で還元
窒化反応が終了する利点があるのも特徴の一つで
ある。これは窒素化合物が高温で熱分解を起し、
活性な発生期の窒素ガスを発生するためで、粉末
の窒化を促進するためである。 なお出発原料中に窒素化合物を混合しない場合
は1300℃以下の熱処理においてもSiCの生成が見
られ、α型、β型のSi3N4およびSiCなどの混合
粉末が生成し、反応速度を高めるために温度を
1500℃程度に高めるとSiCの生成量は格段に多く
なる。 然るに窒素化合物を混合したものは1450℃でも
SiCの生成が見られず高純度のα型Si3N4が生成
することが確認された。 この現象は混合窒素化合物から発生する活性の
高い発生機の窒素ガスによる窒化反応がカーボン
によるSiCの反応より優先するものと推定され
る。このように本発明の方法は高温処理しても
SiCの副反応が少なく、それだけ窒化速度を向上
させ、純度の高いα型Si3N4が短時間で生成され
ることであり、工業的に有効な方法である。 以下本発明について窒素化合物として尿素を使
用する場合を例にとつて説明する。 まず本発明の方法に使用するシリカ粉末、カー
ボン粉末、尿素はいずれも純度99%以上が好まし
く、また粒度はシリカ粉末、カーボン粉末とも平
均粒径1μm以下がよく、尿素の粒径は特に限定
はしないができるだけ微細なほうがよい。 また本発明における出発原料として用いるシリ
カ−カーボン−尿素混合系において、この三者の
使用割合をSiO2:C:(NH22CO=1:0.4〜
4:0.4〜4とするのは次の理由からである。 即ちSiO21あたりCが0.4未満ではSiO2が未反応
のまま残存すると共にSi2ON2の多量生成がみら
れる反面α型Si3N4の生成が少ない。 またCが4を超えるとβ−SiCの生成量が増加
し、結局α型Si3N4の純度が低下すると共に未反
応カーボンが多くなるために収率が低下する。 一方(NH22COのSiO2に対する割合が0.4未満
ではSiCの生成がみられ、α型Si3N4を高収率で
得ることができず、また4を超えると好ましい特
性をもつ粉末が得られないのである。 本発明においてSiO2−C−(NH22COの混合
粉末の加熱処理に際し、その雰囲気はN2、NH3
系のガスを主反応ガスとして用いた場合に高純度
α型Si3N4が得られやすい。 また尿素(NH22COの効果を十分に活かすた
めにはこれら三者の粉末を均一に混合することが
必要であり、混合が不均一であると、それぞれの
粉末の分散が不均一となつて反応後得られた粉末
中に未反応のSiO2が残つたり、シリコンオキシ
ナイトライドSi2ON2が生成したりしてα型Si3N4
の含有率が低下する。 一方N2またはNH3を主反応ガスとする雰囲気
中での加熱処理の温度は1300〜1500℃の範囲内が
適当である。1300℃より低温で窒化した場合には
窒化反応が遅いために長時間を要し、場合によつ
ては未反応SiO2が残存することもあり、また
(NH22CO粉末を混合した効果があまり顕著にあ
らわれない。逆に1500℃を超える温度で窒化した
場合にはSiCの生成が見られ、結局耐熱構造材料
に適する高純度α型Si3N4粉末が得られないので
ある。 窒化反応に要する時間は原料粉末の組成および
窒化温度によつて適当に変えられるが、本発明は
尿素を混合することにより短時間でしかも高純度
のα型Si3N4が得られるというのが特徴であり、
工業的に有利な方法である。 本発明では過剰のカーボンの混合系を使用して
いるが、化学量論比(シリカ:カーボン=1:
0.4)程度であつても差支えない。過剰のカーボ
ンを使用した場合には原料を混合した粉末を窒素
気流中で1300〜1500℃で反応させた後、大気中
600℃で12時間加熱処理するか反応生成物を水素
気流中でメタンガスとして取除いてもよい。 以上のように本発明によればα型窒化けい素の
含有率の高い、しかもSiCなど不純物の含有量が
著しく少なく高品質のα型窒化けい素が得られる
のである。 以下実施例によつて本発明を詳細に説明する。 実施例 平均粒径13mμのSiO2粉末、同じく29mμの
C粉末、および同じく50μの純度99.5%の尿素粉
末を第1表1〜8の如く所定量加え、それぞれボ
ールミル中で均一混合を行つた。 さらにこの混合粉末をそれぞれプレス機により
加圧成型したあと粉砕し、篩で−28+60メツシユ
に分級した。この分級した混合粉末を黒鉛ボート
に入れ、純度99.5%以上の高級度窒素ガスを流入
しつつ横型タンマン炉中で1300〜1500℃で1〜5
時間それぞれ加熱処理を施こし、還元窒化反応を
させた。その後大気中で600℃、12時間加熱して
未反応カーボンを除去した。 かくして得られたSi3N4についてN2含有率、
SiC含有率(いずれも重量%)をしらべ、またα
型Si3N4の含有率(重量%)をX線回折法により
調べ、生成した物質の定量を行つた。その結果は
第1表の通りであつた。 なお比較例1〜5として尿素粉末を混合しない
以外は実施例と同様に処理したものの結果を示し
た。
【表】 上表の結果から本発明の方法によつて高温特性
に優れた高品質のα型窒化けい素粉末が得られる
ことが確認された。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 重量比でシリカ粉末1、カーボンブラツク粉
    末0.4〜4および熱分解により窒素ガスを発生す
    る尿素、石灰窒素等の窒素化合物の少くとも一種
    を0.4〜4の割合からなる混合粉末を窒素を含む
    雰囲気中で1300〜1500℃で加熱処理して還元窒化
    反応をさせることを特徴とするα型窒化けい素粉
    末の製造方法。
JP13852679A 1979-10-25 1979-10-25 Manufacture of alpha-type silicon nitride powder Granted JPS5663806A (en)

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JP13852679A JPS5663806A (en) 1979-10-25 1979-10-25 Manufacture of alpha-type silicon nitride powder

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JPS5663806A JPS5663806A (en) 1981-05-30
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JPS5695289A (en) * 1979-12-28 1981-08-01 Seiko Instr & Electronics Liquid crystal display unit

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