JPH01207944A - ウェハーカセット用クリーンボックス - Google Patents
ウェハーカセット用クリーンボックスInfo
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- JPH01207944A JPH01207944A JP63031736A JP3173688A JPH01207944A JP H01207944 A JPH01207944 A JP H01207944A JP 63031736 A JP63031736 A JP 63031736A JP 3173688 A JP3173688 A JP 3173688A JP H01207944 A JPH01207944 A JP H01207944A
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- wafer cassette
- fan
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- wafer
- chamber
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Links
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- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
複数枚のウェハーを収容したウェハーカセットを清浄雰
囲気中に収容した状態で運搬可能なりリーンボックスに
関し、 簡易な構造で、しかも清浄度の向上が可能なことを目的
とし、 複数枚のウェハーを収容するウェハーカセットに対し、
その上方からかぶせることができるように底部が開放し
且つ上部にウェハーカセットの把手を露出できる窓を有
するウェハーカセット収容室と、該ウェハーカセット収
容室とはエアフィルターで仕切られた送気室とにより筺
体が構成され、上記送気室にはファン駆動用の2次電池
が設けられると共に、該送気室の壁には前記エアフィル
ターを通してウェハーカセット収容室へ送気するファン
と、前記2次電池に充電するための給電用端子が設けら
れて成るように構成する。
囲気中に収容した状態で運搬可能なりリーンボックスに
関し、 簡易な構造で、しかも清浄度の向上が可能なことを目的
とし、 複数枚のウェハーを収容するウェハーカセットに対し、
その上方からかぶせることができるように底部が開放し
且つ上部にウェハーカセットの把手を露出できる窓を有
するウェハーカセット収容室と、該ウェハーカセット収
容室とはエアフィルターで仕切られた送気室とにより筺
体が構成され、上記送気室にはファン駆動用の2次電池
が設けられると共に、該送気室の壁には前記エアフィル
ターを通してウェハーカセット収容室へ送気するファン
と、前記2次電池に充電するための給電用端子が設けら
れて成るように構成する。
本発明は複数枚のウェハーを収容したウェハーカセット
を清浄雰囲気中に収容した状態で運搬可能なりリーンボ
ックスに関する。
を清浄雰囲気中に収容した状態で運搬可能なりリーンボ
ックスに関する。
〔従来の技術]
半導体製造装置は生産技術の進歩と共に自動化が推進さ
れ、複数枚のウェハーを装填したカセットをセットし、
処理条件等の設定を行い起動するだけで自動的に処理が
行なわれ、処理後のウェハーは再びカセットに収容され
る所謂カセット・トウ・カセットの装置が主流となって
いる。また使用されるカセットは形状、寸法、収納枚数
等が米国SEMIによって規格化されている。
れ、複数枚のウェハーを装填したカセットをセットし、
処理条件等の設定を行い起動するだけで自動的に処理が
行なわれ、処理後のウェハーは再びカセットに収容され
る所謂カセット・トウ・カセットの装置が主流となって
いる。また使用されるカセットは形状、寸法、収納枚数
等が米国SEMIによって規格化されている。
また半導体の製造工程でウェハーに付着する塵埃をいか
に少なくするかが品質を上げる為に非常に重要な項目と
なる。その為には、大きな発塵源である人をできる限り
近づけないことが必要であり、前述の様に自動化された
カセット・トウ・カセットの装置に対しては装置にセッ
トするとき、あるいは装置間を運搬するときの対処が重
要である。人がカセットを持って運搬、あるいはセット
した場合、いかにすぐれたクリーンルーム(クラス1)
でも、いかに良い防塵前を着用していたとしても人体か
ら発塵した塵の付着は避けられないのが実状である。こ
の対策として、搬送、セツティングを完全に自動化し、
−切入はカセットに触れず、またある距離以下には近づ
かない様にすることが考えられる。
に少なくするかが品質を上げる為に非常に重要な項目と
なる。その為には、大きな発塵源である人をできる限り
近づけないことが必要であり、前述の様に自動化された
カセット・トウ・カセットの装置に対しては装置にセッ
トするとき、あるいは装置間を運搬するときの対処が重
要である。人がカセットを持って運搬、あるいはセット
した場合、いかにすぐれたクリーンルーム(クラス1)
でも、いかに良い防塵前を着用していたとしても人体か
ら発塵した塵の付着は避けられないのが実状である。こ
の対策として、搬送、セツティングを完全に自動化し、
−切入はカセットに触れず、またある距離以下には近づ
かない様にすることが考えられる。
しかしながら半導体は常に最先端技術の製品を生産して
おり、またその技術及びニーズは日進月歩で変化するた
め完全自動化を達成するのは困難な状況にある。また自
動化する場合にも自動化装置の発塵を減らす為に独特な
技術を必要とし、また自動化の為のコストも草大なもの
となる。
おり、またその技術及びニーズは日進月歩で変化するた
め完全自動化を達成するのは困難な状況にある。また自
動化する場合にも自動化装置の発塵を減らす為に独特な
技術を必要とし、また自動化の為のコストも草大なもの
となる。
これらを解決する手段として米国HP社からSMIF(
スタンダードメカニカルインターフェース)システムが
提案されている。これはウェハーを運搬、セツティング
時には第6図aに示すようなウェハー1を収容したカセ
ット2を清浄な状態で密閉したボックス(SMIF−B
ox) ’3に収納して行ない、第6図すに示すように
従来の製造装置4に付は加えられたSMIF−ローダ5
にセットすると中のカセット2だけを自動で取り出し処
理部6で処理を開始するようになっている。即ちカセッ
ト1は一切発塵環境にむき出しにならないものである。
スタンダードメカニカルインターフェース)システムが
提案されている。これはウェハーを運搬、セツティング
時には第6図aに示すようなウェハー1を収容したカセ
ット2を清浄な状態で密閉したボックス(SMIF−B
ox) ’3に収納して行ない、第6図すに示すように
従来の製造装置4に付は加えられたSMIF−ローダ5
にセットすると中のカセット2だけを自動で取り出し処
理部6で処理を開始するようになっている。即ちカセッ
ト1は一切発塵環境にむき出しにならないものである。
上記従来のSMIFシステムにおいて、そのSMIF−
Boxはその内部でカセット、ウェハー等の振動で発塵
した場合の対策ができておらず、また完全密閉構造にし
ないと効果がなく、完全密閉するにはシーリング、寸法
精度等をきびしくする必要があり、さらに各処理装置に
SMIFローダを付加するのに草大なコストが必要であ
る等の問題があった。
Boxはその内部でカセット、ウェハー等の振動で発塵
した場合の対策ができておらず、また完全密閉構造にし
ないと効果がなく、完全密閉するにはシーリング、寸法
精度等をきびしくする必要があり、さらに各処理装置に
SMIFローダを付加するのに草大なコストが必要であ
る等の問題があった。
本発明は上記問題点に鑑み、簡易な構造でしかも清浄度
の向上が可能なりリーンボックスを提供することを目的
とするものである。
の向上が可能なりリーンボックスを提供することを目的
とするものである。
上記目的は、複数枚のウェハー11を収容するウェハー
カセット10に対し、その上方からかぶせることができ
るように底部が開放し且つ上部にウェハーカセットの把
手12を突出できる窓17を有するウェハーカセット収
容室14と、該ウェハーカセット収容室14とはエアフ
ィルター16で仕切られた送気室15とにより筺体が構
成され、上記送気室15にはファン駆動用の2次電池1
8が設けられると共に、該送気室15の壁には前記エア
フィルター16を通してウェハーカセット収容室14へ
送気するファン19と、前記2次電池18に充電するた
めの給電用端子20が設けられて成ることを特徴とする
ウェハーカセット用クリーンボックスによって達成され
る。
カセット10に対し、その上方からかぶせることができ
るように底部が開放し且つ上部にウェハーカセットの把
手12を突出できる窓17を有するウェハーカセット収
容室14と、該ウェハーカセット収容室14とはエアフ
ィルター16で仕切られた送気室15とにより筺体が構
成され、上記送気室15にはファン駆動用の2次電池1
8が設けられると共に、該送気室15の壁には前記エア
フィルター16を通してウェハーカセット収容室14へ
送気するファン19と、前記2次電池18に充電するた
めの給電用端子20が設けられて成ることを特徴とする
ウェハーカセット用クリーンボックスによって達成され
る。
〔作 用〕
ファン19によりカセット収容室14ヘエアフィルター
16を通して清浄空気を供給することができるので、ボ
ックス内部で発塵しても外部へ放出し内部をクリーンに
保持することができる。またボックス内部の気圧が外部
より高くなるので外部から塵埃等が侵入することがなく
、シーリング。
16を通して清浄空気を供給することができるので、ボ
ックス内部で発塵しても外部へ放出し内部をクリーンに
保持することができる。またボックス内部の気圧が外部
より高くなるので外部から塵埃等が侵入することがなく
、シーリング。
寸法精度等の厳密さを必要としない。
(実施例〕
第1図及び第2図は本発明の実施例をウェハーカセット
と共に示す図であり、第1図は断面図、第2図は斜視図
である。第1図、第2図において10はウェハーカセッ
トであり、内部に複数枚のウェハー11を収納し把手1
2により持ち運びできるようになっている。
と共に示す図であり、第1図は断面図、第2図は斜視図
である。第1図、第2図において10はウェハーカセッ
トであり、内部に複数枚のウェハー11を収納し把手1
2により持ち運びできるようになっている。
本実施例のウェハーカセット用りリーンボッ外ス13は
ウェハーカセット収容室14と送気室15とを有し、該
ウェハーカセット収容室14と送気室15とはエアフィ
ルター16で仕切られている。
ウェハーカセット収容室14と送気室15とを有し、該
ウェハーカセット収容室14と送気室15とはエアフィ
ルター16で仕切られている。
そしてウェハーカセット収容室14は下方が開放した箱
状をなし、上部の壁にウェハーカセットの把手12を突
き出すことができる窓17が形成されており第1図の如
くウェハーカセット10の上方からかぶせ、該ウェハー
カセットを収容することができるようになっている。一
方送気室15は、内部にファン駆動用の2次電池18が
設けられ、上部(又は側面)の壁部にファン19が、下
方の壁部に2次電池充電用の給電用端子20がそれぞれ
設けられている。
状をなし、上部の壁にウェハーカセットの把手12を突
き出すことができる窓17が形成されており第1図の如
くウェハーカセット10の上方からかぶせ、該ウェハー
カセットを収容することができるようになっている。一
方送気室15は、内部にファン駆動用の2次電池18が
設けられ、上部(又は側面)の壁部にファン19が、下
方の壁部に2次電池充電用の給電用端子20がそれぞれ
設けられている。
このように構成された本実施例は、第3図aの如くウェ
ハーカセットの把手を持ち、又は第3図すの如く運搬車
に載せて運搬することができる。
ハーカセットの把手を持ち、又は第3図すの如く運搬車
に載せて運搬することができる。
この際振動等によりウェハーカセット内で発塵しても、
ファン19を駆動しておくことによりエアフィルター1
6を通して清浄な空気がウェハーカセット収容室14に
送られるため、第3図aの場合はウェハーカセット収容
室14とウェハーカセット10とのすきまから除塵され
、第3図すの場合は、ウェハーカセット10の上部とウ
ェハーカセット収容室14の上部の壁とのすきまを通っ
て窓17から除塵される。このようにしてウェハーカセ
ット収容室14内は常に清浄雰囲気が保たれる。
ファン19を駆動しておくことによりエアフィルター1
6を通して清浄な空気がウェハーカセット収容室14に
送られるため、第3図aの場合はウェハーカセット収容
室14とウェハーカセット10とのすきまから除塵され
、第3図すの場合は、ウェハーカセット10の上部とウ
ェハーカセット収容室14の上部の壁とのすきまを通っ
て窓17から除塵される。このようにしてウェハーカセ
ット収容室14内は常に清浄雰囲気が保たれる。
第4図は本発明の実施例を半導体製造装置のウェハー供
給部に用いた例を示す図であり、本実施例のクリーンボ
ックス13で運ばれたウェハーカセット10はエレベー
タ−21で上下され、その中のウェハー11は搬送ベル
ト22によりクリーントンネル23を通って処理室ヘロ
ーディッグされ、まだ逆にウェハーカセット10にアン
ローディングされる。
給部に用いた例を示す図であり、本実施例のクリーンボ
ックス13で運ばれたウェハーカセット10はエレベー
タ−21で上下され、その中のウェハー11は搬送ベル
ト22によりクリーントンネル23を通って処理室ヘロ
ーディッグされ、まだ逆にウェハーカセット10にアン
ローディングされる。
この場合もウェハー11は外気に晒されることなく清浄
な雰囲気中でロード、アンロードするこ□とができる。
な雰囲気中でロード、アンロードするこ□とができる。
第5図は本発明のクリーンボックスの電気系を示す図で
ある。
ある。
これは第4図に示したような半導体製造装置を用いる場
合、装置上に本発明のクリーンボックス13が載置され
ているときは直接外部電源によりファンを駆動し、運搬
中は内蔵する2次電池でファンを駆動するようにしたも
のでその切換はリレーRによって行なわれる。なお抵抗
24. ’25は2次電池18の残量表示用に設けたも
ので、a、b点の電圧と差動増幅回路26、積分回路2
7、ADコンバータ及びLEDドライバ28等を用いて
2 ゛次電池18の残量をLEDに表示させる
ようにしたものである。
合、装置上に本発明のクリーンボックス13が載置され
ているときは直接外部電源によりファンを駆動し、運搬
中は内蔵する2次電池でファンを駆動するようにしたも
のでその切換はリレーRによって行なわれる。なお抵抗
24. ’25は2次電池18の残量表示用に設けたも
ので、a、b点の電圧と差動増幅回路26、積分回路2
7、ADコンバータ及びLEDドライバ28等を用いて
2 ゛次電池18の残量をLEDに表示させる
ようにしたものである。
本電気系によれば、2次電池18の電力消費は装置にセ
ットされているときは零であるので、2次電池の電力消
費量を節約することができ電池は小型のもので良いこと
になる。 □ 〔発明の効果] 本発明によれば2、次電池に7.2 V、 250mA
hのNiCd電池(重量90g)を用い、ファンは消費
電流240mA 、最大静圧13mmHgのものを使用
して途中充電せずに連続1時間作動した。
ットされているときは零であるので、2次電池の電力消
費量を節約することができ電池は小型のもので良いこと
になる。 □ 〔発明の効果] 本発明によれば2、次電池に7.2 V、 250mA
hのNiCd電池(重量90g)を用い、ファンは消費
電流240mA 、最大静圧13mmHgのものを使用
して途中充電せずに連続1時間作動した。
また清浄度はウェハー収容室内部をダストカウンターで
測定したところ0.1μのレベルで殆どOであった。ま
たウェハーカセットを本発明のクリーンボックスを使用
したものと使用しないものについてクラス平均1000
のクリーンルームに1週間放置したところ、使用しない
カセットでは0.2μ以上の粒子が6インチウェハー1
枚当り約1000個増加し、使用したカセットでは約1
0個程度であった。これは測定誤差を含めるとほとんど
塵埃の付着がないことを示している。
測定したところ0.1μのレベルで殆どOであった。ま
たウェハーカセットを本発明のクリーンボックスを使用
したものと使用しないものについてクラス平均1000
のクリーンルームに1週間放置したところ、使用しない
カセットでは0.2μ以上の粒子が6インチウェハー1
枚当り約1000個増加し、使用したカセットでは約1
0個程度であった。これは測定誤差を含めるとほとんど
塵埃の付着がないことを示している。
第1図は本発明の実施例をウェハーカセットと共に示す
断面図、 第2図は本発明の実施例とウェハーカセットを示す斜視
図、 第3図は本発明の実施例の運搬方法を説明する図、 第4図は本発明の実施例を半導体製造装置のウェハー供
給部に用いた例を示す図、 第5図は本発明のクリーンボックスの電気系を示す図、 第6図は従来のSMIFシステムを説明するための図で
ある。 図において、 10はウェハーカセット、 11はウェハー、 12はウェハーカセットの把手、 13はクリーンボックス、 14はウェハーカセット収容室、 15は送気室、 16はエアフィルター、 17は窓、 18は2次電池、 19はファン、 20は給電用端子 を示す。
断面図、 第2図は本発明の実施例とウェハーカセットを示す斜視
図、 第3図は本発明の実施例の運搬方法を説明する図、 第4図は本発明の実施例を半導体製造装置のウェハー供
給部に用いた例を示す図、 第5図は本発明のクリーンボックスの電気系を示す図、 第6図は従来のSMIFシステムを説明するための図で
ある。 図において、 10はウェハーカセット、 11はウェハー、 12はウェハーカセットの把手、 13はクリーンボックス、 14はウェハーカセット収容室、 15は送気室、 16はエアフィルター、 17は窓、 18は2次電池、 19はファン、 20は給電用端子 を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、複数枚のウェハー(11)を収容するウェハーカセ
ット(10)に対し、その上方からかぶせることができ
るように底部が開放し且つ上部にウェハーカセットの把
手(12)を突出できる窓(17)を有するウェハーカ
セット収容室(14)と、 該ウェハーカセット収容室(14)とはエアフィルター
(16)で仕切られた送気室(15)とにより筺体が構
成され、 上記送気室(15)にはファン駆動用の2次電池(18
)が設けられると共に、該送気室(15)の壁には前記
エアフィルター(16)を通してウェハーカセット収容
室(14)へ送気するファン(19)と、前記2次電池
(18)に充電するための給電用端子(20)が設けら
れて成ることを 特徴とするウェハーカセット用クリーンボックス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63031736A JPH01207944A (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | ウェハーカセット用クリーンボックス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63031736A JPH01207944A (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | ウェハーカセット用クリーンボックス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01207944A true JPH01207944A (ja) | 1989-08-21 |
Family
ID=12339321
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63031736A Pending JPH01207944A (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | ウェハーカセット用クリーンボックス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01207944A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6364922B1 (en) | 1999-07-06 | 2002-04-02 | Ebara Corporation | Substrate transport container |
JP2002299427A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-11 | Mitsubishi Electric Corp | 基板カセット、基板汚染防止装置および半導体装置の製造方法 |
US6521007B1 (en) | 1997-12-03 | 2003-02-18 | Ebara Corporation | Clean box |
US6829130B2 (en) | 2000-11-15 | 2004-12-07 | Ebara Corporation | Power supply apparatus for supplying electric power to substrate carrier container |
KR100650807B1 (ko) * | 1999-06-17 | 2006-11-27 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 기판반송장치, 처리장치, 기판의 처리시스템, 반송방법, 수납장치 및 수용박스 |
-
1988
- 1988-02-16 JP JP63031736A patent/JPH01207944A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6521007B1 (en) | 1997-12-03 | 2003-02-18 | Ebara Corporation | Clean box |
KR100650807B1 (ko) * | 1999-06-17 | 2006-11-27 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 기판반송장치, 처리장치, 기판의 처리시스템, 반송방법, 수납장치 및 수용박스 |
US6364922B1 (en) | 1999-07-06 | 2002-04-02 | Ebara Corporation | Substrate transport container |
US6829130B2 (en) | 2000-11-15 | 2004-12-07 | Ebara Corporation | Power supply apparatus for supplying electric power to substrate carrier container |
JP2002299427A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-11 | Mitsubishi Electric Corp | 基板カセット、基板汚染防止装置および半導体装置の製造方法 |
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