JPH01205504A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フロッピーディスク１〜ライブ用。

Ｖ　Ｔ　Ｒ用等の磁気ヘッドに係り、特に、高保磁力媒
体に対して高密度記録が可能な磁気ヘッドに関する。

〔従来の技術〕 近年、磁気記録技術の発達はめざましく、高密度記録力
１［ＩＪ能な高保磁力媒体、垂直記録媒体の開発により
、著しい進展を遂げつつある。記録媒体に高保磁力のメ
タル媒体等を用いた場合には、これに対応できる磁気ヘ
ッドとして、記録磁界が大きな磁気ヘラ１へが必要であ
る。

しかして、従来のフロッピーディスク１−ライブ用、Ｖ
ＴＲ用磁気ヘッドにあっては、一般に、磁気コア材料と
してフェライトを用いているが、フエライｈの飽和磁束
密度（Ｂｓ）は、約０．５Ｔ（テスラ）以下と小さいこ
とから、記録磁界の大きさか十分でなく、高保磁力のメ
タル媒体等を使用するためには、飽和磁束密度（Ｂｓ　
）の高い磁性ネｊ料を用いた磁気ヘラ１〜の出現か望ま
れている。

なお、磁気ヘラ１〜に用いる磁気コア材料は、飽和磁束
密度（Ｂｓ）が高いたけでなく、他に要求される磁気特
性として、優れた一軸異方性を有し、かつ高透磁率化の
ために異方性磁界（Ｔ−ＩＫ）が３〜５　０ｅと低く、
磁化困難軸方向の保磁力（Ｈｃｕ）を１　０ｅ以下とす
ることが望ましい。

また、外部応力の影響を少なくするために、磁歪定数（
λＳ）をできる限り零に近づけることも望まれる。さら
に重要なことは、磁気ヘッドは、製造プロセスにおいて
、ガラスボンディング等、高い加工温度を履歴すること
から、耐熱性に優れていることである。加えて、機器信
頼性の点から、耐食性に優れていることも重要であり、
磁気ヘッド用磁気コア材料には、以上の要求特性を全て
満たす材料の使用が望まれる。

この要求に対し、従来用いられている磁気ヘッド用磁気
コア材料としては、Ｆｅ−ＡＱ−８ｉ系合金、Ｎｉ−Ｆ
ｅ系合金等の結晶質合金、さらには最近活発に開発が進
められている非晶質合金がある。

それらのうち、Ｆｅ−Ａｆｌ−３ｉ系合金、Ｎｊ−Ｆｅ
系合金等の結晶質合金は、結晶磁気異方性が存在するこ
とから、優れた軟磁気特性、透磁率を得るためには、結
晶磁気異方性が零となる組成にしなければならない。ま
た、同時に、磁歪定数（λＳ）も零となる付近の組成に
しなければならず、最適組成か極めて限られていること
から、組成の制御が困難であるという問題があった。さ
らに、結晶質合金のうち、Ｆｅ−Ａｆｌ−３ｉ系合金は
、Ｆｅが主成分であることから、耐食性に劣る（錆び易
い）という欠点があり、Ｎ　」−Ｆ　ｅ系合金は、耐熱
性に劣るという欠点かあった。

一方、非晶質合金は、結晶磁気異方性が無視でき、優れ
た軟磁気特性を示すことから、近年活発に開発が進めら
れている。中でも、ＣＯを主成分とする非晶質合金は、
磁歪定数（λ３）を小さくでき、かつ優れた軟磁株特性
を兼ねそなえている。

なお、この種の非晶質合金としては、Ｃｏに非晶質化効
果の大きい元素（Ｚｒ、Ｆ（ｆ等）および磁歪定数（λ
Ｓ）を低減させる効果の大きい元素（Ｎ　ｂ　＋　Ｔ　
ａ　＋　Ｗ等）を添加した３元系非晶質合金が提案され
ている。その代表例として、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ非晶質合
金（特開昭５８−１８５７４２号）。

Ｃｏ−Ｚｒ−Ｔａ非晶質合金（特開昭６１．−７３８５
４号）、Ｃｏ−Ｈｆ＝Ｔａ非晶質合金（特開昭６０−２
１．５０４号）がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、Ｇ　ｏ　−Ｚ　ｒ　−Ｎ　ｌ）　３元系
、Ｃ。

ＺｒＴａ３元系は、耐食性に劣るという欠点かあり、ま
た従来提案されているＣ　ｏ−Ｔ−Ｉ　ｆ　−’Ｊ、”
　ａ　３元系の組成では、飽和磁束密度（Ｂｓ）が１．
３Ｔ以上、磁歪定数（２，ｓ）が零付近の組成において
、結晶化温度（Ｔｘ）が４−５０℃であり、磁気ヘッド
の製造プロセスにおいて、ガラスボンディング等、高い
加工温度を履歴する場合に、耐熱性に劣るという欠点が
あった。

本発明は、前記した従来技術の問題点を解決すべく種々
検討の結果なされたものであって、その目的とするとこ
ろは、飽和磁束密度（Ｂｓ　）が高＜　（Ｂｓ≧０．９
Ｔ）、零付近の磁歪定数を有し、磁気八ツ１への製造プ
ロセスにおいて、ガラスボンディング等、高い加工温度
を履歴する場合であっても、耐熱性の点で従来よりも優
れ〔結晶化温度（Ｔ　ｘ　）≧５００℃〕、加えて機器
信頼性の点ても血１食性に優れ、製作容易で、高保磁力
媒体に対応して高密度記録が可能な磁気ヘッドを提供す
ることにある３゜ 〔課題を解決するための手段〕 すなわち、本発明者等は、前記した従来技術の問題点を
解決するため、磁気ヘツＩ−用磁気コア材料どし２て、
ＣＯを主成分とする非品ノｒ？合金について種々研究し
た結果、Ｃｏ　、　ＩＩ　ｆ　、　’ｌ’　ａ　、　Ｐ
　ｄからなる４元系非晶質合金においては、下記する所
定の組成範囲で磁気ヘッド用磁気コア材料としての要求
特性を満たすことを見出し、本発明をなすに至った。

し７かして、Ｃｏ系Ｊｌ’品１６磁性合金において、少
量添加でＣｏを非晶質化し、飽和磁束密度（＋３ｓ）の
低減を極力抑えるためには、Ｉｌｆが最も効果があり、
非晶質化か進むことによって非晶質が安定どなり、結晶
化温度（Ｔｘ）を高めるためにも、Ｈｆか最も効果かあ
る。なお、Ｃｏ　−Ｈｆ　２元系では、磁歪定数（λＳ
）が大きく正であるが、この点に関しては、Ｔ　ａを添
加することにより、磁歪定数（λＳ）を小さくし、かつ
非晶質効果をより安定化させることができる。しかしな
がら、耐食性に関しては、Ｔａは好ましくなく、Ｈｆお
よびＰｄが効果がある。そこで、本発明では、少量添加
でＣＯを非晶質化するよう、Ｈｆを多めにし、飽和磁束
密度（Ｂｓ　）の低減を極力減らして、熱的安定性、耐
食性をもたせ、かっＴａを少量にして、耐食性の劣化を
極力軽減することとした。ただし、この状態では、いま
だ磁歪定数（λＳ）が正であることから、本発明では、
さらにＰｃｔを添加することにより、磁歪定数（λＳ）
を小さくするようにした。すなわち、Ｐｄは、Ｔ　ａに
比べて磁歪定数（λＳ）を低減させる効果が大きく、逆
に、飽和磁束密度（ＢＳ　）を低減させる作用は少ない
。

これらの結果をふまえ、本発明における磁気ヘッドは、
磁気コア材料の少なくともギャップと接する面にＣｏ−
Ｈｆ−Ｔａ−Ｐｄ４元系非晶質磁性合金を使用し、その
非晶質磁性合金をＣｏ（ａ）Ｈｆ（ｂ）Ｔａ（ｃ）Ｐｄ
（ｃｌ）で示される組成式で表（９）・ わした場合、以下に示すように、ａ　＋　ｂ　＋　Ｑ　
＋　ｄがそれぞれａ　＋ｂ　＋ｃ　＋ｄ　＝　１００原
子％（以下、ａｔ％と略す）、５ａｔ％≦ｂ、ｌａｔ％
≦ｃ，１０ａｔ％≦ｂ＋ｃ≦１３ａｔ％、　０．５　ａ
　ｔ％≦ｄ≦４ａｔ％であることを要旨どするものであ
る。

〔作用〕

本発明における磁気八ツＩくは、磁気コア材料の少なく
ともギャップに接する面にＣＯｇ　ＩＩ　ｆ　ｇＴａ、
丁’ｄ４元素からなる非晶質磁性合金を用いることによ
り構成され、かつ前記非晶質磁性合金のそれぞれの組成
範囲を既述のごとく限定することにより、飽和磁束密度
（Ｂｓ）≧０．９Ｔ、磁歪定数（λＳ）が＋２Ｘ１０−
８≦λＳ≦−２Ｘ１０−６゜結晶化温度（Ｔｘ）≧５０
０′Ｃの特性を満たし、かつ耐食性に優れた非晶質磁性
合金が得られ、この非晶質合金を磁気コアとして使用す
ることにより、高保磁力媒体に対応して高密度記録が可
能な磁気ヘッドを得ることができた。なお、前記した非
晶質磁性合金の組成範囲限定の理由は、以下のとおりで
ある。

（］０） すなわち、１涌記した４元系非晶質磁性合金にあっては
、Ｉ−Ｉ　ｆとｒａとの含有量が重要であり、これら２
つの元素の量を適正化することにより、Ｐｄの効果を有
効にするものである。なお、Ｃ。

−Ｈｆ−Ｔ　ａ　Ｓ元系において、Ｐｄは、ｌａｔ％当
り飽和磁束密度（Ｂｓ）を０．○２５Ｔ低下させ、磁歪
定数（λＳ）を０．６　Ｘ　１０−６低下させる効果が
あることを実験結果より見出した。したがって、これら
の結果をふまえてＩ（ｆ　、　−１”ａ含有量を決定す
ることが重要である。

Ｈｆに関し、Ｃｏを非晶質化、安定化させる結晶化温度
（’Ｊ”ｘ）≧５００　’Ｃの耐熱性をもたせるために
は、Ｈｆ含有量を５．０ａｔヅ、以」二にすることによ
って達成され、Ｉ−Ｉ　ｆ含有量が１５．０ａｔ％をこ
えると、飽和磁束密度（Ｂｓ）≦０．９Ｔとなり、好ま
しくない。Ｔａに関しては、耐食性を劣化させることか
ら、できるだけ含有量が少ないことが望ましいが、含有
量を１８１４％以下にすると、磁歪定数（λＳ）の初期
値が正に大きくなりすき、好ましくない。また、Ｃｏ−
Ｈｆ　−Ｔ　ａ　３元系に関し７、結晶化温度（’ｆ″
Ｘ）≧５００　”Ｃの耐熱性をもたせるためには、ＩＩ
ｆおよび′Ｊ″５１の総ＩＩｔを１０εｌ　ｆ、　％以
１−シこすることによって達成されるが、１）　ｄ添加
によぉ、飽和磁束密度（１３ｑ）の低下を考１１せし、
て、飽和磁束密度（＋３８　）≧１　、　ＯＴとするた
めに（ま、Ｈｆ　、ｔ；よび゛丁゛ａの総量を１３ａ　
ｔ、％以ドにする必要のあることが分った。

そして、前記のごとく、Ｉ（ｆを５ａｔ％以上。

Ｔ　ａを１　ａ　ｔ％以−１−、ＴＩｆおよび′］゛ａ
の総量を１０ａｔ％−１３ａ　ｔ；％、残部をＣｏとし
て、飽和磁束密度（Ｂｓ）≧１．ＯＴと高い値に保ち、
磁歪定数（λＳ）は最大で一１４×１−〇−０に抑え、
これにＰ（ＪをＱ、５ａｔ％＝　４　ａ　ｔ、％の範囲
で協力１１する。＝とにより、飽和磁束密度（Ｉ３ｓ）
≧０　、９　Ｔ。

磁歪定数（λＳ）を−２×１−〇−６≦λＳ≦＋２×十
〇−６となるように調整することができた。

〔実施例〕

以下、本発明を、図面とともに下記実施例にもとついて
詳細に説明する。

（実施例１） （＋２） まず、最初に、比較のために、ｃｏ−１−■ｆ−’］”
　ａ　３元系非晶質合金膜を作成し、その特性評価をお
こなった。具体的には、高周波２極スパツタリング装置
のＣｏターゲット」二にＨｆ、Ｔａの小片を設置し、結
晶化ガラス基板（直径７６ｎｌｌｎ、Ｊゾさ０．５ｍｎ
＋）に下記条件でスパッタリングをおこない、膜厚約２
μｍのＣｏ−Ｈｆ−Ｔａ３元系非晶質合金１１！ｉｉを
形成した。

（スパッタ条件） Ａ、　ｒガス圧　　５　Ｘ　１０−”Ｔｏｒｒ出力　　
　　　３００Ｗ 膜形成速度　　５００人／ｎ＋ｊｎ 基板　　　　　結晶化ガラス（水冷） 前記のようにして得られた非晶質合金膜の組成と飽和磁
束密度（Ｂｓ　）　、磁歪定数（λＳ）の関係を第２図
に示す。なお、第２図において、曲線ａは、磁歪定数（
λｓ）　＝＋　２．ＯＸ　１０−６となる組成、曲線す
は、λｓ＝＋　１−、ＯＸ　１−０　”となる組成、曲
線Ｏは−　λＳ二〇となる組成、曲線ｄは、λｓ＝　　
１．ＯＸＩ○−６となる組成、曲線Ｏは、λｓ−２，０
ｘｉｏ−６となる組成、直線Δは、飽和磁束密度（Ｂｓ
）　−］−、＋４　Ｔとなる組成、直線Ｉ３は、Ｂｓ＝
１．２Ｔとなる組成、直線Ｃは、ｐ、３＝１　、０　’
］−となる組成、直線りは、Ｂｓ＝０．９Ｔとなる組成
を示す。また、前記のようにしで得られた非晶質合金膜
の組成と結晶化温度との関係を第３図に示す。なお、第
３図において、直線Ａは、結晶化温度（Ｔｘ）＝４５０
°Ｃとなる組成、直線Ｂは、Ｔｘ＝５００’Ｃとなる組
成、直線Ｃは、ＴＸ＝　５５０　’Ｃとなる組成を示す
。

次に、本発明によるＰｄを含めたＣ　ｏ　−Ｈｆ　−Ｔ
ａ−Ｐｄ４元系非晶質合金膜を、前記Ｃｏ　−Ｈｆ−Ｔ
ａ３元系非晶質合金膜と同様にして作成し、その特性評
価をおこなった。

第２図に示す０点の組成、すなわち飽和磁束密度（Ｂｓ
）　＝　−１、１−Ｔ　、磁歪定数（λｓ）＝＋４×１
０−６と大きく正であるＣｏ＝８８．５ａｔ％。

Ｈｆ＝ＩＱ、５ａｔ％、Ｔａ＝１．．○ａｔ％の組成の
ものに、Ｐｄを４ａｔ％まて添加した膜のＰｄ含有量と
飽和磁束密度（Ｂｓ　）および磁歪定数（λＳ）の関係
を第４図に示し、第４図から、飽和磁束密度（Ｂｓ　）
および磁歪定数（λＳ）は、Ｐｃｌ含有量が増加するに
したがって減少することが分り、第２図に示す０点の組
成では、Ｐ　ｄ含有量が３．５ａｔ％以上で磁歪定数（
λＳ）≦＋２．０ＸｉＯ”−６となり、飽和磁束密度（
Ｂｓ）≧１、○゛Ｆとなる。

第２図に示す■点の組成、すなわちＣｏ　＝９０．０ａ
、　ｔ％、Ｈｆ＝５．Ｏａｔ％、Ｔａ＝５．０ａｔ％の
組成のものに、Ｉ）　ｄを４．、Ｏａｔ％　まで添加し
た膜のＰｄ含有量と飽和磁束密度（Ｂｓ　）および磁歪
定数（λＳ）の関係を第５図に示す。第２図に示ず■点
の組成ては、既に、磁歪定数（λＳ）≦＋１ＱｘＩＱ−
ｅであるが、Ｐｄを１．０ａ　ｔ、％以上添加すること
により、第５図から、磁歪定数（λＳ）を負にすること
ができ、Ｉ）　ｄを４．０　ａ　ｔ％まで添加しても、
飽和磁束密度（Ｂｓ）≧０　、９　Ｔであることが分る
。

第２図に示す０点の組成、すなわちＣｏ　＝８７．０ａ
ｔ％、Ｈｆ＝５．０ａｔ％、Ｔａ＝８．Ｏａ　ｔ％の組
成のものに、Ｐｄを４．０ａｔ％　まて添加した１換の
Ｐ　ｄ含有量と飽和磁束密度（Ｂｓ）および磁歪定数（
λＪ、）の関係を第６図に示す。第２図に示ず０点の組
成では、既に、磁歪定数（λ・く）＝Ｏであるが、Ｐ　
ｄを添加することにより、磁歪定数（λＳ）を負にする
ことができるものであって、Ｐｄを４．０ａｔ％　まで
添加した場合、飽和磁束密度（Ｂｓ）＝０．９Ｔで磁歪
定数（λｓ）　＝−３，５Ｘ　１０−”まで減少させる
ことができ、これは、Ｃｏ　−Ｈｆ　−Ｔａ　３　）５
系非晶質合金膜では得られない結果である。

以１−１本発明磁気ヘッドの代表組成についてその効果
を説明してきたか、これ１らの効果は、本発明磁気ヘッ
ドを構成する他の組成配分（ａＬ％）によっても良好な
結果を得ることができた。

そこで、次に、前記非晶質１模の作製方法を応用して、
前記要求特性を満たす組成領域にあるＣ　Ｏ８Ｆ、Ｉ（
ｆ　７Ｔａ　５Ｐ　ｄ　ｓの組成式で表わされる非晶質
磁性合金膜を、所定形状のＭ、　ｎ−７，ｎ多結晶フエ
ライ１〜上に約２０７１　ｍの厚さに形成し、第１図に
示した構造の先行イレーズタイプの複合型磁気ヘン１−
を製作した。

第１−図において、１は記録再生用磁気コアとなるＭ　
ｎ　−Ｚ　ｎ多結晶フエライ１〜．１２はスパッタリン
グで形成したＣｏｇ５Ｈｆ７Ｔａ５Ｐｄ３非晶質磁性合
金膜、１３は接合用ガラス、１４は巻線溝、１１は記録
再生ギャップであり、これらにより記録再生用磁気コア
を構成している。

一方、３は消去用磁気コアとなるＭ　ｎ　−Ｚ　ｎ多結
晶フエライ１〜．３２は接合用ガラス、３３は巻線溝、
３１は消去用ギャップであり、これらにより、消去用磁
気コアを構成している。

２は記録再生用磁気コア千と消去用磁気コア３とを磁気
シールドするためのスペーサである。なお、第１−図に
おいて、非晶質合金膜１２は、記録再生用磁気コア］の
記録再生ギャップ１１に接した両側に配置する構成とし
、記録再生ギャップ１１の寸法は、その＋−ラック巾を
１２０μｍ、ギャップ長を０．３μｍ　、ギャップ深さ
を５μｍとした。

（］７） しかして、前記した磁気コア材料は、熱的安定性に優れ
ていることから、磁気キャップ形成のためのガラスボン
ティングにおいて、従来の非晶質合金膜の場合よりも加
熱温度を高くてきるので、接合用ガラスの選択範囲が広
くなり、かつホンデインク温度を高めて容易に接着する
ことかできた。

次に、本発明磁気ヘン１〜の電磁変換特性を比較するた
めに、第１図に示した磁気ヘン１くと同一形状２寸法で
、磁気コア制料にＭ　ｎ　−Ｚ　ｎ多結晶フェライトの
みを使用した磁気ヘッドを作製した。

そして、本発明の磁気ヘッドおよび比較に用い１＝　Ｍ
　ｎ　−Ｚ　ｎ多結晶フエライトヘン１〜に対し、保磁
力（Ｈｃ　）＝］、５０００ｅのメタルテープを用いて
、テープヘッドの相対速度を１．４．６ｍ／Ｓとした場
合における前記各磁気ヘン１への記録能力を測定した。

なお、記録能力の評価は、次のようにしておこなった。

すなわち、まず、本発明の磁気ヘン１−を用いて、記録
電流１．２ＡＴ　、周波数１−２５　Ｋ　ＨＺの信けを
記録し、周波数１２５ＫＩ（ｚ（以下、］Ｊと略す）の
平均信号振幅を測定した。１次に、消去をおこなわない
で、それぞれの磁気ヘッドで周波数２５０ＫＩＩＺ（以
下、２Ｊと略す）の信号を重ね書きし、１ｆの残留平均
信号振幅を測定し、これらの測定値から、１ｆ平平均骨
振幅に対する２Ｊ記録後の１Ｊ残残留平均量振幅の比（
オーバーライＩ−特性）を算出した。第７図には、コイ
ルの電流値と巻数とで規格化した記録電流とオーバーラ
イＩ〜どの関係を示し、４１す定の結果、Ｍ　ｎ　−Ｚ
　ｎ多結晶フエライ１〜ヘッドのオーバーライ（〜が−
２〜−４ｄ　１３であるのに対し、本発明磁気ヘッドの
オーバーライ１へは、記録電流１．０〜１　、５　Ａ　
Ｔにおいて、−２０〜−３０ｄＢと非常に大きな値とな
り、優れた記録能力が得られた。

なお、第」図の実施例において、非晶質磁性合金は、磁
気コアのうち、記録再生ギャップ１１に接する両側の部
分に使用した場合について例示したが、磁気コアの全部
または他の部分に使用しても、本発明の要旨を逸脱する
ものではない。その−例として、第８図に示すように、
記録再生用磁気コア］の記録再生ギャップ１４に接する
片側のみに非晶１６磁性合金」−２を使用する場合、あ
るいは第９図に示すように、記録再生用磁気コア］の記
録再生キャップ土」に接する部分のフロン１−ギャップ
側のみに非晶（６磁性合金１２を使用する場合、さらに
は第１図に示す記録再生用磁気コア］を非磁性月どし、
非晶質磁性合金１２のみで記録再生ギャップ１１−を形
成する場合等が考えられる。

また、第１−図の実施例において、非晶質磁性合金は、
スパッタリングにより形成したが、溶炉急冷法、真空蒸
着法、その他の方法で形成し７ても、これまた本発明の
要旨を逸脱するものではない。

（実施例２） 実施例１ど同様にして、本発明の組成領域である（：０
８　Ｆ、ｌ１ｆｔ　Ｔａ５Ｐｄａ非晶質合金膜と比較合
金膜（ＣＯ９２Ｚ　ｒａＴａ　５非品（Ｃ丁合金膜）を
作成した。

次に、これらの非晶質合金膜を、温度］−２０℃。

湿度１００％、圧力２気圧の雰囲気中に一定時間放置し
た後、それぞれの合金薄膜の重量減少率を測定すること
により、酎食性の評価をおこなった。

なお、結晶質のパーマロイ（Ｎ　］８３Ｆ　ｅ　１７）
合金膜についても、本発明との比較の意味で評価をおこ
なった。そして、それぞれの合金簿膜に対する試験時間
と重量減少率との関係を第１０図に示し、第１０図より
、Ｃｏ８５Ｈｆ７Ｔａ５Ｐｄｓ非晶質合金膜の重量減少
率は、Ｎ］８３Ｆｅ１７結晶質合金膜とほぼ同等であり
、ＣｏｎｚＺｒ３Ｔａ５非晶質合金膜に比較して少ない
ことが分る。すなわち、Ｃｏ８５Ｈｆ７Ｔａ５Ｐｄ３非
晶質合金膜の酎食性は、Ｎ］δ３Ｆｅ１７合金膜とほぼ
同等であり、Ｃｏ９２Ｚｒ３Ｔａ５非晶質合金膜に比較
して、耐食性に優れていることが分る。これは、Ｚｒに
代わってＨｆを添加したこと、さらには前記Ｚｒに比べ
てＨｆ添加量を多くしたことによる効果であり、この耐
食効果は、本発明磁気ヘッドを構成する他の組成配分（
ａｔ％）によっても良好な結果を得ることができた。

〔発明の効果〕

本発明は以」−のごときであり、本発明によれば、飽和
磁束密度（Ｂｓ　）が高＜　（Ｂｓ≧０．９Ｔ）、零付
近の磁歪定数を有し、磁気ヘッドの製造プロセスにおい
て、カラスホンティング等、高い加工温度を履歴する場
合であっても、耐熱性の点て従来よりも優れ〔結晶化温
度（Ｔｘ）≧５００°Ｃ〕、加えて機器信頼性の点ても
耐食性に優れ、製作容易で、高保磁力媒体に対応して高
密度記録が可能な磁気ヘッドを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例を示す斜視
図、第２図はＣｏ　−Ｉ（ｆ　−Ｔ　ａ　３元系非晶質
磁性合金における飽和磁束密度、磁歪定数の組成依存性
を示す特性図、第３図はＣｏ−Ｈｆ　−Ｔ　ａ　３元系
非晶質磁性合金における結晶化温度の組成依存性を示す
特性図、第４図〜第６図はいずれもＣｏ　−Ｈｆ−Ｔ　
ａ　３元系非晶質磁性合金における飽和磁束密度、磁歪
定数のＰｄａ度依存性を示す特性図、第７図は磁気ヘッ
ドの記録電流とオーバーライドとの関係を示す特性図、
第８図および第９図はそれぞれ本発明磁気ヘッドの変形
例を示す斜視図、第１０図はＣｏ　−Ｈｆ　−Ｔ　ａ　
−Ｐ　ｃ１４元系非晶質磁性合金膜と比較合金膜とに対
する耐食性試験時における試験時間と膜重量減少率との
関係を示す特性図である。 ］　記録再生用磁気コア、２・スペーサー、３−消去用
磁気コア、」１　・記録再生キャップ、」２Ｃｏ　−Ｈ
ｆ　　Ｔ　ａ　−Ｐ　ｄ　４元系非晶質磁性合金、１３
・接合用カラス、」−４巻線溝、３１　消去ギャップ、
３２　接合用ガラス、３３　巻線溝。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. １．磁気コア材料の少なくともギャップに接する面が、
   コバルト，ハフニウム，タンタル，パラジウムを含む４
   元系非晶質磁性合金で構成され、かつ前記合金をＣＯ（
   ａ）Ｈｆ（ｂ）Ｔａ（ｃ）Ｐｄ（ｄ）で示す組成式で表
   わした場合に、ａ，ｂ，ｃ，ｄがそれぞれａ＋ｂ＋ｃ＋
   ｄ＝１００原子％，５原子％≦ｂ，１原子％≦ｃ，１０
   原子％≦ｂ＋ｃ≦１３原子％，０．５原子％≦ｄ≦４原
   子％であることを特徴とする磁気ヘッド。
2. ２．特許請求の範囲第１項記載の発明において、コバル
   ト，ハフニウム，タンタル，パラジウムで構成された合
   金をＣＯ（ａ）Ｈｆ（ｂ）Ｔａ（ｃ）Ｐｄ（ｄ）で示す
   組成式で表わした場合に、ａ，ｂ，ｃ，ｄがそれぞれａ
   ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００原子％，５原子％≦ｂ，１原子％
   ≦ｃ，１０原子％≦ｂ＋ｃ≦１３原子％，０．５原子％
   ≦ｄ≦４原子％である４元系非晶質磁性合金が、記録再
   生ギャップの両側に配置されている磁気ヘッド。
3. ３．特許請求の範囲第１項記載の発明において、コバル
   ト，ハフニウム，タンタル，パラジウムで構成された合
   金をＣｏ（ａ）Ｈｆ（ｂ）Ｔａ（ｃ）Ｐｄ（ｄ）で示す
   組成式で表わした場合に、ａ，ｂ，ｃ，ｄがそれぞれａ
   ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００原子％，５原子％≦ｂ，１原子％
   ≦ｃ，１０原子％≦ｂ＋ｃ≦１３原子％，０．５原子％
   ≦ｄ≦４原子％である４元系非晶質磁性合金が、記録再
   生ギャップの片側に配置されている磁気ヘッド。
4. ４．特許請求の範囲第１項記載の発明において、コバル
   ト，ハフニウム，タンタル，パラジウムを含む４元系非
   晶質磁性合金で構成された合金をＣｏ（ａ）Ｈｆ（ｂ）
   Ｔａ（ｃ）Ｐｄ（ｄ）で示す組成式で表わした場合に、
   ａ，ｂ，ｃ，ｄがそれぞれａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００原子
   ％，５原子％≦ｂ，１原子％≦ｃ，１０原子％≦ｂ＋ｃ
   ≦１３原子％，０．５原子％≦ｄ≦４原子％である４元
   系非晶質磁性合金が、記録再生ギャップのフロントギャ
   ップ側に配置されている磁気ヘッド。
5. ５．特許請求の範囲第１項記載の発明において、記録再
   生用磁気コアを非磁性材で構成し、かつコバルト，ハフ
   ニウム，タンタル，パラジウムを含む４元系非晶質磁性
   合金で構成された合金をＣｏ（ａ）Ｈｆ（ｂ）Ｔａ（ｃ
   ）Ｐｄ（ｄ）で示す組成式で表わした場合に、ａ，ｂ，
   ｃ，ｄがそれぞれａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１００原子％，５原
   子％≦ｂ，１原子％≦ｃ，１０原子％≦ｂ＋ｃ≦１３原
   子％，０．５原子％≦ｄ≦４原子％である４元系非晶質
   磁性合金によつて記録再生ギャップを形成した磁気ヘッ
   ド。