JPH01205438A - 磁気搬送装置 - Google Patents
磁気搬送装置Info
- Publication number
- JPH01205438A JPH01205438A JP63254716A JP25471688A JPH01205438A JP H01205438 A JPH01205438 A JP H01205438A JP 63254716 A JP63254716 A JP 63254716A JP 25471688 A JP25471688 A JP 25471688A JP H01205438 A JPH01205438 A JP H01205438A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- transfer paths
- wafer
- magnetic
- over
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005339 levitation Methods 0.000 claims description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 12
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 abstract description 8
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Feeding Of Workpieces (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体製造機器等に用いられる磁気浮上搬送装
置に関するものである。
置に関するものである。
従来、ウェハーの搬送装置には、搬送台から斜上方に噴
射させるエアーの圧力によってウェハーを搬送させる手
段とベルト」二にウェハーを乗せベルトの移動によって
ウェハーを搬送させる手段とが用いられている。
射させるエアーの圧力によってウェハーを搬送させる手
段とベルト」二にウェハーを乗せベルトの移動によって
ウェハーを搬送させる手段とが用いられている。
第１図および第２図はそれぞれエアーの噴射による搬送
装置およびベルトによる搬送装置の一例を説明するため
の要部断面図である。ます、第４図においては、搬送台
１にウェハー２の進行方向に向って斜め上方に孔３を設
け、この孔３からエアー４を噴出させ、このエアー４の
圧力によって搬送台１上のウェハー２が矢印方向に押し
流されて移動することにより搬送される。また、第２図
においては、ウェハー２を乗せたベルト５を図示しない
モータで駆動させたプーリー６の回転により矢印方向に
移動することによってウェハー２を搬送させている。
装置およびベルトによる搬送装置の一例を説明するため
の要部断面図である。ます、第４図においては、搬送台
１にウェハー２の進行方向に向って斜め上方に孔３を設
け、この孔３からエアー４を噴出させ、このエアー４の
圧力によって搬送台１上のウェハー２が矢印方向に押し
流されて移動することにより搬送される。また、第２図
においては、ウェハー２を乗せたベルト５を図示しない
モータで駆動させたプーリー６の回転により矢印方向に
移動することによってウェハー２を搬送させている。
近年、半導体プロセスでは、ウェハー２の加工技術が５
〜８μｍプロセスから２〜５μｍプロセスへの移動にと
もない、半導体製造機器、ウェハー搬送装置等から発生
する微小塵埃のウェハー２への付着による歩留り低下を
防ぐため、その対策が急務となっている。したがって上
述したウェハー搬送装置もこの例外ではなく、装置から
の発塵を防止しなければならなかった。ところが、第１
図に示したエアー噴射式の搬送装置では、エアー４の噴
射によって搬送路上の塵埃が撒き」二げられ、ウェハー
２に付着したり、エアー４中の塵埃がウェハー２に付着
したりするという欠点があった。
〜８μｍプロセスから２〜５μｍプロセスへの移動にと
もない、半導体製造機器、ウェハー搬送装置等から発生
する微小塵埃のウェハー２への付着による歩留り低下を
防ぐため、その対策が急務となっている。したがって上
述したウェハー搬送装置もこの例外ではなく、装置から
の発塵を防止しなければならなかった。ところが、第１
図に示したエアー噴射式の搬送装置では、エアー４の噴
射によって搬送路上の塵埃が撒き」二げられ、ウェハー
２に付着したり、エアー４中の塵埃がウェハー２に付着
したりするという欠点があった。
また、第２図に示したベル１〜コンベア式の搬送装置で
は、図示しないモータ、プーリー６およびベル１−５自
身からの発塵、及びベル１へ５とウェハー２の摩擦によ
る発塵が問題となっていた。
は、図示しないモータ、プーリー６およびベル１−５自
身からの発塵、及びベル１へ５とウェハー２の摩擦によ
る発塵が問題となっていた。
このような装置からの発塵を防ぐためには、ウェハーと
搬送路面とが接触しないと、搬送装置に機械的な可動部
分が存在しないこと、さらにはエアー等の塵埃を含む気
体を使用しないこと等が必要である。ところが、上記構
成によるウェハー搬送装置では、」一連した発塵を防止
することは構造的に全く不可能な状況にあった。
搬送路面とが接触しないと、搬送装置に機械的な可動部
分が存在しないこと、さらにはエアー等の塵埃を含む気
体を使用しないこと等が必要である。ところが、上記構
成によるウェハー搬送装置では、」一連した発塵を防止
することは構造的に全く不可能な状況にあった。
なお、磁気浮上搬送技術に関する先行技術を調へたとこ
ろ、本願発明の出願後に公開となった特開昭５／ｌ−５
５１７６号公報があることが判った。
ろ、本願発明の出願後に公開となった特開昭５／ｌ−５
５１７６号公報があることが判った。
本公報には垂直方向の反発磁界を用いた浮上方式が説明
されているが、水平方向の反発磁界をキャリヤーに与え
ることは記載されていない。本願発明では、キャリヤー
に水平方向の反発磁界をも加えることにより、キャリヤ
ーが搬送軌道からすれてしまうことを防止することがで
きる。
されているが、水平方向の反発磁界をキャリヤーに与え
ることは記載されていない。本願発明では、キャリヤー
に水平方向の反発磁界をも加えることにより、キャリヤ
ーが搬送軌道からすれてしまうことを防止することがで
きる。
したがって本発明は、搬送によるウェハー上への塵埃の
付着を防止したウェハー搬送装置を提供することを目的
としている。
付着を防止したウェハー搬送装置を提供することを目的
としている。
このような目的を達成するために本発明は、搬送台に互
いに反発力を有する２組の磁性材からなる搬送路を設け
、この搬送路上にウェハーを搭載したキャリアを浮上配
置させて上記搬送路中にセラ１〜された磁性体の上記搬
送路間に生ずる吸引力または反発力によってキャリアを
移動させることにより、ウェハーを搬送するように構成
したものである。
いに反発力を有する２組の磁性材からなる搬送路を設け
、この搬送路上にウェハーを搭載したキャリアを浮上配
置させて上記搬送路中にセラ１〜された磁性体の上記搬
送路間に生ずる吸引力または反発力によってキャリアを
移動させることにより、ウェハーを搬送するように構成
したものである。
以下図面を用いて本発明の実施例を詳細に説明する。
第３図（ａ）、（ｂ）は本発明によるウェハー搬送装置
の一例を説明するための要部平面図、そのｎｌ −ＩＩ
Ｉ ’断面図である。これらの図において、７はウェハ
ー２を所定方向に搬送させる搬送台、８は搬送台７上の
中央部長手方向に沿って配設された磁性材からなる第１
の搬送路、９は搬送路７上の両端長手方向に沿って配設
された磁性材からなる第２の搬送路であり、上記第」の
搬送路８と第２の搬送路９を構成する磁性材はそれぞれ
互いに同じ強さの反発力が作用するように磁化されてい
る。また、１０は搬送台７の第１の搬送路８間に所定間
隔で埋設配置された電磁石であり、この電磁石」−〇は
図示しないコイルに電流を供給することによって磁場を
発生するように構成されている。
の一例を説明するための要部平面図、そのｎｌ −ＩＩ
Ｉ ’断面図である。これらの図において、７はウェハ
ー２を所定方向に搬送させる搬送台、８は搬送台７上の
中央部長手方向に沿って配設された磁性材からなる第１
の搬送路、９は搬送路７上の両端長手方向に沿って配設
された磁性材からなる第２の搬送路であり、上記第」の
搬送路８と第２の搬送路９を構成する磁性材はそれぞれ
互いに同じ強さの反発力が作用するように磁化されてい
る。また、１０は搬送台７の第１の搬送路８間に所定間
隔で埋設配置された電磁石であり、この電磁石」−〇は
図示しないコイルに電流を供給することによって磁場を
発生するように構成されている。
］−］−はウェハー２を搭載する磁性材からなるキャリ
アであり、このキャリア１１は第１の搬送路８」二に搭
載されるが、このキャリア１１と第１の搬送路８及び第
２の搬送路９間に反発磁界が作用している状態では同図
（ｂ）に示したように第１の搬送路８」二に常に浮上し
て配置されている。
アであり、このキャリア１１は第１の搬送路８」二に搭
載されるが、このキャリア１１と第１の搬送路８及び第
２の搬送路９間に反発磁界が作用している状態では同図
（ｂ）に示したように第１の搬送路８」二に常に浮上し
て配置されている。
このように構成されたウェハー搬送装置において、キャ
リア１１と第１の搬送路８及び第２の搬送路９間には反
発磁界が作用しているので、キャリア］］は第１の搬送
路８上に浮上して配置される。そして、このキャリア１
１」二にウェハー２を搭載して第１の搬送路８間に配設
された電磁石」−〇に順次電流をオン、オフさせること
によって、電磁石］Ｏの上方に磁場を発生、消滅させ、
キャリアコ。１との間に吸引力２反発力を作用させてキ
ャリア１１を第１の搬送路８上で浮」ニさせた状態で移
動させる。この場合、キャリア１］は第１の搬送路８上
を移動中、第２の搬送路９と磁性材からなるキャリア１
１の側面との間の反発力により、搬送経路が直線状でな
い場合でも搬送路からはずれ、かつキャリア１１と第２
の搬送路とが接触することも全く生しなかった。また、
キャリア１１の減速および停止は、キャリア１１の通過
後の電磁石１０とキャリア１１間に吸引力が生じるよう
な方向に電磁石１０に電流を供給するが、またはギヤ９
フ１１通過前の電磁石１ｏとキャリア１１間に反発力を
生じる方向に電流を供給すれば良い。
リア１１と第１の搬送路８及び第２の搬送路９間には反
発磁界が作用しているので、キャリア］］は第１の搬送
路８上に浮上して配置される。そして、このキャリア１
１」二にウェハー２を搭載して第１の搬送路８間に配設
された電磁石」−〇に順次電流をオン、オフさせること
によって、電磁石］Ｏの上方に磁場を発生、消滅させ、
キャリアコ。１との間に吸引力２反発力を作用させてキ
ャリア１１を第１の搬送路８上で浮」ニさせた状態で移
動させる。この場合、キャリア１］は第１の搬送路８上
を移動中、第２の搬送路９と磁性材からなるキャリア１
１の側面との間の反発力により、搬送経路が直線状でな
い場合でも搬送路からはずれ、かつキャリア１１と第２
の搬送路とが接触することも全く生しなかった。また、
キャリア１１の減速および停止は、キャリア１１の通過
後の電磁石１０とキャリア１１間に吸引力が生じるよう
な方向に電磁石１０に電流を供給するが、またはギヤ９
フ１１通過前の電磁石１ｏとキャリア１１間に反発力を
生じる方向に電流を供給すれば良い。
なお、上記実施例において、キャリア］］−に吸引力１
反発力を作用させる磁石として電磁石１゜を用いた場合
について説明したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、永久磁石を用いても重連と全く同様の効果が得
られることは勿論である。
反発力を作用させる磁石として電磁石１゜を用いた場合
について説明したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、永久磁石を用いても重連と全く同様の効果が得
られることは勿論である。
以−」二説明したように本発明によるウェハー搬送装置
によれば、ウェハーを搭載したキャリアは、停止状態お
よび移動状態の場合でも搬送路面と接触しないことと、
搬送機構に機械的可動部分がないことにより、搬送によ
る装置からの発塵がなく、半導体製品の歩留りを著しく
向上させることができる。また、気体を使用せず、機械
的可動部分がないことにより、本発明によるウェハー搬
送装置は真空中でも使用可能となるなどの極めて優れた
効果か得られた。
によれば、ウェハーを搭載したキャリアは、停止状態お
よび移動状態の場合でも搬送路面と接触しないことと、
搬送機構に機械的可動部分がないことにより、搬送によ
る装置からの発塵がなく、半導体製品の歩留りを著しく
向上させることができる。また、気体を使用せず、機械
的可動部分がないことにより、本発明によるウェハー搬
送装置は真空中でも使用可能となるなどの極めて優れた
効果か得られた。
第」−図は従来のエアー圧力によるウェハー搬送装置の
一例を説明するための要部断面図、第２図は従来のヘル
Ｉ−コンベアによるウェハー搬送装置の一例を説明する
ための要部断面図、第３図（ａ）。 （ｂ）は本発明によるウェハー搬送装置の一例を説明す
るための要部平面図、そのＩＩＩ−ＩＴＩ′断面図であ
る。 ＝７− ２・・・・ウェハー、７・・・・搬送台、８・・・第１
の搬送路、９・・・・第２の搬送路、］Ｏ・・・・電磁
石、］−１・・・・キャリア。
一例を説明するための要部断面図、第２図は従来のヘル
Ｉ−コンベアによるウェハー搬送装置の一例を説明する
ための要部断面図、第３図（ａ）。 （ｂ）は本発明によるウェハー搬送装置の一例を説明す
るための要部平面図、そのＩＩＩ−ＩＴＩ′断面図であ
る。 ＝７− ２・・・・ウェハー、７・・・・搬送台、８・・・第１
の搬送路、９・・・・第２の搬送路、］Ｏ・・・・電磁
石、］−１・・・・キャリア。
Claims (1)
- １、非磁性体被加工物を搬送するための磁性体キャリヤ
ー治具と、該キャリヤー治具に対して、引力の方向と逆
の反発磁界と水平方向の動きを制限するための反発磁界
とを与える手段と、上記キャリヤーを移送するための電
磁石とを具備して成ることを特徴とする磁気浮上搬送装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63254716A JPH01205438A (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | 磁気搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63254716A JPH01205438A (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | 磁気搬送装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12722080A Division JPS5752149A (en) | 1980-09-16 | 1980-09-16 | Conveying device for wafer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01205438A true JPH01205438A (ja) | 1989-08-17 |
Family
ID=17268851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63254716A Pending JPH01205438A (ja) | 1988-10-12 | 1988-10-12 | 磁気搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01205438A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04142734A (ja) * | 1990-10-03 | 1992-05-15 | Mitsubishi Electric Corp | 微細加工装置及び方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5041208A (ja) * | 1973-08-22 | 1975-04-15 | ||
| JPS50124381A (ja) * | 1974-03-16 | 1975-09-30 | ||
| JPS5455176A (en) * | 1977-10-11 | 1979-05-02 | Nec Corp | Transfer method of semiconductor substrates |
| JPS551198A (en) * | 1978-06-01 | 1980-01-07 | Elektromat Veb | Device for raising with no impact |
| JPS557106A (en) * | 1978-06-26 | 1980-01-18 | Hitachi Ltd | Plate conveyer system |
-
1988
- 1988-10-12 JP JP63254716A patent/JPH01205438A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5041208A (ja) * | 1973-08-22 | 1975-04-15 | ||
| JPS50124381A (ja) * | 1974-03-16 | 1975-09-30 | ||
| JPS5455176A (en) * | 1977-10-11 | 1979-05-02 | Nec Corp | Transfer method of semiconductor substrates |
| JPS551198A (en) * | 1978-06-01 | 1980-01-07 | Elektromat Veb | Device for raising with no impact |
| JPS557106A (en) * | 1978-06-26 | 1980-01-18 | Hitachi Ltd | Plate conveyer system |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04142734A (ja) * | 1990-10-03 | 1992-05-15 | Mitsubishi Electric Corp | 微細加工装置及び方法 |
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