JPH01205153A - 光重合性組成物 - Google Patents
光重合性組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は可視光の領域にまで感度を有する新規な光重合
性組成物に関する。
性組成物に関する。
(従来の技術)
光重合性組成物は多数の用途に広く利用されており、例
えば印刷、複写、レジスト形成その他に商業的に利用さ
れている。
えば印刷、複写、レジスト形成その他に商業的に利用さ
れている。
これらの組成物は一般にエチレン性不飽和化合物または
その他のタイプの重合性化合物、光開始剤または光開始
剤系そして好ましくは溶媒可溶性または水性またはアル
カリ可溶性有機重合体結合剤化合物を含有している。と
ころが、これらの多くの既知の有用な光重合性組成物は
、使用されている開始剤がスペクトルの紫外部領域以外
では活性化されないものが多いため、その応用範囲が限
定されているのが現状である。
その他のタイプの重合性化合物、光開始剤または光開始
剤系そして好ましくは溶媒可溶性または水性またはアル
カリ可溶性有機重合体結合剤化合物を含有している。と
ころが、これらの多くの既知の有用な光重合性組成物は
、使用されている開始剤がスペクトルの紫外部領域以外
では活性化されないものが多いため、その応用範囲が限
定されているのが現状である。
また光源として紫外線でな(可視光線を用いたり、アル
ゴンイオンレーザ−などの可視部領域に大きな発振強度
を有するレーザーで走査露光することが画像形成技術と
して要求されている。そのために可視光線に対して高い
感度を有する光重合性材料が要望され、可視光に対して
高感度な光開始剤が必要である。
ゴンイオンレーザ−などの可視部領域に大きな発振強度
を有するレーザーで走査露光することが画像形成技術と
して要求されている。そのために可視光線に対して高い
感度を有する光重合性材料が要望され、可視光に対して
高感度な光開始剤が必要である。
特開昭54−155292号公報にはへキサアリールビ
スイミダゾールを含む系、特開昭58−15503 S
+公報には活性ハロゲン化合物と3−ケト置換クマリン
化合物の系、特開昭56−4 e 04 弓−公報には
3−ケト置換クマリンとN−フェニルグリシンの系、時
開11/(61−97850シナ公報には3−置換クマ
リンとキナゾリノン誘導体との組合せ、特開昭81−1
23603 Sj・公報にはへキサアリールビイミダゾ
ールと3−ケト置換クマリンとの組合せの光開始剤系が
開示されている。
スイミダゾールを含む系、特開昭58−15503 S
+公報には活性ハロゲン化合物と3−ケト置換クマリン
化合物の系、特開昭56−4 e 04 弓−公報には
3−ケト置換クマリンとN−フェニルグリシンの系、時
開11/(61−97850シナ公報には3−置換クマ
リンとキナゾリノン誘導体との組合せ、特開昭81−1
23603 Sj・公報にはへキサアリールビイミダゾ
ールと3−ケト置換クマリンとの組合せの光開始剤系が
開示されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら前記の光開始剤系では感度が不七分であり
、より低出力のレーザーで高速度で走査露光するために
は、さらに高感度な光開始剤を見出すことが必要である
。
、より低出力のレーザーで高速度で走査露光するために
は、さらに高感度な光開始剤を見出すことが必要である
。
(課題を解決するための手段)
本発明者゛は以−にの問題点を解決すべく、つまり、光
重合性組成物の可視光に対する感度を向上させる]1的
で、光開始剤系について鋭、α、研究、努力した結果、
遂に本発明を完成するに到った。すなわち本発明は(a
)少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性不飽和
化合物、(b)1”記一般式(I)で示される基を含有
するイ1゛機過酸化物および(C)下記一般式(II)
で示されるp−アミノフェニル不飽和ケトン化合物を含
有することを特徴とする光重合性組成物。
重合性組成物の可視光に対する感度を向上させる]1的
で、光開始剤系について鋭、α、研究、努力した結果、
遂に本発明を完成するに到った。すなわち本発明は(a
)少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性不飽和
化合物、(b)1”記一般式(I)で示される基を含有
するイ1゛機過酸化物および(C)下記一般式(II)
で示されるp−アミノフェニル不飽和ケトン化合物を含
有することを特徴とする光重合性組成物。
Ar−C−0−0−(I)
(式中Arは非置換フェニルまたは炭素数1〜4のアル
キル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、フェニル基、ア
ミ7基、カルボニル基、ハロゲン原rのいずれかで置換
されたフェニル基を示す。)R2−−−−−−−−(u
) 本発明において使用されるエチレン性不飽和化合物は、
遊離ラジカルで開始される連鎖成長付加反応に適した’
l’−i’d体であり、例えば、ペンタエリスリットト
リアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチ
レングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ートなどがトげられる。
キル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、フェニル基、ア
ミ7基、カルボニル基、ハロゲン原rのいずれかで置換
されたフェニル基を示す。)R2−−−−−−−−(u
) 本発明において使用されるエチレン性不飽和化合物は、
遊離ラジカルで開始される連鎖成長付加反応に適した’
l’−i’d体であり、例えば、ペンタエリスリットト
リアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチ
レングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ートなどがトげられる。
第2の成分(b)は前記一般式(I)で表わされる基を
含有する有機過酸化物であり、特開昭59−18934
0吋公報および特開昭60−78503号公報に開示さ
れている。具体的にはベンゾイルパーオキサイド、ジ(
t−ブチルペルオキシ)イソフタレート、2,5−ジメ
チル−2゜5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、
t−ブチルパーオキシベンゾエート、α、α′−ビス(
t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、3.3
’ 、4.4’−テトラ(t−ブチルベルオキシカルボ
ニル)ベンゾフェノン、3.3’ 、4゜4′−テトラ
(t−ブチルアミルペルオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン、3.3’ 4.4’ −テトラ(t−オクチルペ
ルオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどがある。
含有する有機過酸化物であり、特開昭59−18934
0吋公報および特開昭60−78503号公報に開示さ
れている。具体的にはベンゾイルパーオキサイド、ジ(
t−ブチルペルオキシ)イソフタレート、2,5−ジメ
チル−2゜5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、
t−ブチルパーオキシベンゾエート、α、α′−ビス(
t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、3.3
’ 、4.4’−テトラ(t−ブチルベルオキシカルボ
ニル)ベンゾフェノン、3.3’ 、4゜4′−テトラ
(t−ブチルアミルペルオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン、3.3’ 4.4’ −テトラ(t−オクチルペ
ルオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどがある。
第3の成分(C)は前記一般式(If)で表わされるp
−アミノフェニル不飽和ケトン化合物であり、具体的に
は2,5−ビス(4′−ジエチルアミノベンジリデン)
シクロペンタノン、2.5−ビス(4′−ジメチルアミ
ノベンジリデン)シクロペンタノン、2.6−ビス(4
’ −ジエチルアミ/ベンジリデン)シクロヘキサノン
、2.8−ビス(4′−ジメチルアミノベンジリデン)
シクロヘキサノン、2,5−ビス(4′−ジメチルアミ
ノシンナミリデン)シクロペンタノン、2.6−ビス(
4′−ジメチルアミノシンナミリデン)シクロヘキサノ
ン、1,3−ビス(4′−ジメチルアミノベンジリデン
)アセトン、2− (4’ −ジエチルアミノベンジリ
デン)−1−インダノン、2− (9’−ジュロリリデ
ン)−1−インダノン、2− (4’−ジエチルアミノ
ベンジリデン)−1−テトラロン、4′−ジエチルアミ
ン−2′−メチルベンジリデン−アセトフェノンなどが
挙げられる。
−アミノフェニル不飽和ケトン化合物であり、具体的に
は2,5−ビス(4′−ジエチルアミノベンジリデン)
シクロペンタノン、2.5−ビス(4′−ジメチルアミ
ノベンジリデン)シクロペンタノン、2.6−ビス(4
’ −ジエチルアミ/ベンジリデン)シクロヘキサノン
、2.8−ビス(4′−ジメチルアミノベンジリデン)
シクロヘキサノン、2,5−ビス(4′−ジメチルアミ
ノシンナミリデン)シクロペンタノン、2.6−ビス(
4′−ジメチルアミノシンナミリデン)シクロヘキサノ
ン、1,3−ビス(4′−ジメチルアミノベンジリデン
)アセトン、2− (4’ −ジエチルアミノベンジリ
デン)−1−インダノン、2− (9’−ジュロリリデ
ン)−1−インダノン、2− (4’−ジエチルアミノ
ベンジリデン)−1−テトラロン、4′−ジエチルアミ
ン−2′−メチルベンジリデン−アセトフェノンなどが
挙げられる。
本発明組成物中には好ましくは熱irT塑性高分子t7
)有機重合体結合剤を存在させてもよい。重合体結合剤
タイプとしては(+)テレフタル酸、イソフタル酸、セ
バシン酸、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフタル酸
に基(コポリエステル、(目)ポリアミド、 (目i)
ビニリデンクロリド共重合体、(lv)エチレン/ビニ
ルアセテート共重合体、(v)セルロースエーテル、h
l)ポリエチレン、(Vii)舎外ゴム、(V目j)セ
ルロースエステル、(ix)ポリビニルアセテート/ア
クリレートおよびポリビニルアセテート/メタクリレー
ト共重合体を含むポリビニルエステル、(X)ポリアク
リレートおよびポリα−アルキルアクリレートエステル
例えばポリメチルメタクリレートおよびポリエチルメタ
クリレート、(xi)4.OOO〜4,000,000
の重臣平均分子Mを有する高分子晴エチレンオキシド市
合体(ポリエチレングリコール)、(X目)ポリ塩化ビ
ニルおよびその共重合体、(xill)ポリビニルアセ
タール、(xlv)ポリホルムアルデヒド、(xv)ポ
リウレタン、(xvi)ポリカーボネートおよび(ZV
目)ポリスチレンがあげられる。
)有機重合体結合剤を存在させてもよい。重合体結合剤
タイプとしては(+)テレフタル酸、イソフタル酸、セ
バシン酸、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフタル酸
に基(コポリエステル、(目)ポリアミド、 (目i)
ビニリデンクロリド共重合体、(lv)エチレン/ビニ
ルアセテート共重合体、(v)セルロースエーテル、h
l)ポリエチレン、(Vii)舎外ゴム、(V目j)セ
ルロースエステル、(ix)ポリビニルアセテート/ア
クリレートおよびポリビニルアセテート/メタクリレー
ト共重合体を含むポリビニルエステル、(X)ポリアク
リレートおよびポリα−アルキルアクリレートエステル
例えばポリメチルメタクリレートおよびポリエチルメタ
クリレート、(xi)4.OOO〜4,000,000
の重臣平均分子Mを有する高分子晴エチレンオキシド市
合体(ポリエチレングリコール)、(X目)ポリ塩化ビ
ニルおよびその共重合体、(xill)ポリビニルアセ
タール、(xlv)ポリホルムアルデヒド、(xv)ポ
リウレタン、(xvi)ポリカーボネートおよび(ZV
目)ポリスチレンがあげられる。
本発明の特に好ましい態様においては、未露光光重合性
コーティングが例えばアルカリ性溶液である一Lとして
水性の溶液には1工溶性であるが、活性線放射に露光後
は比較的それに不溶性となるように、光重合性結合剤を
選ぶ。典型的にはこれらの冴求を満足させる重合体はカ
ルボキシル化千合体例えば遊離カルボン酸基含有ビニル
付加市合体である。好ましい結合剤としてはインブタノ
ール混合物で部分エステル化された酸価約190、市i
it %F、均分F +1約10,000のスチレン/
マレイン酸無水物(1: 1)の共重合体、およびスチ
レン/マレイン酸無水物の共重合体とエチルアクリレー
ト/メチルメタクリレート/アクリル酸のターポリマー
との組み合わせがあげられる。その他の好ましい結合剤
群としては、ポリアクリレートエステルおよびポリα−
アルキルアクリレートエステル特にポリメチルメタクリ
レートがあげられる。
コーティングが例えばアルカリ性溶液である一Lとして
水性の溶液には1工溶性であるが、活性線放射に露光後
は比較的それに不溶性となるように、光重合性結合剤を
選ぶ。典型的にはこれらの冴求を満足させる重合体はカ
ルボキシル化千合体例えば遊離カルボン酸基含有ビニル
付加市合体である。好ましい結合剤としてはインブタノ
ール混合物で部分エステル化された酸価約190、市i
it %F、均分F +1約10,000のスチレン/
マレイン酸無水物(1: 1)の共重合体、およびスチ
レン/マレイン酸無水物の共重合体とエチルアクリレー
ト/メチルメタクリレート/アクリル酸のターポリマー
との組み合わせがあげられる。その他の好ましい結合剤
群としては、ポリアクリレートエステルおよびポリα−
アルキルアクリレートエステル特にポリメチルメタクリ
レートがあげられる。
その他の不活性添加剤例えば非重合性可塑剤、染料、顔
料および充填剤は当業者には既知であるこれら添加剤は
一般に少量で存在せしめられ、そしてこれは光重合性層
の露光を阻害させるものであるべきではない。
料および充填剤は当業者には既知であるこれら添加剤は
一般に少量で存在せしめられ、そしてこれは光重合性層
の露光を阻害させるものであるべきではない。
本発明の光重合性組成物の好ましい比率を成分(a)で
あるエチレン性不飽和化合物100iit部に対する市
!Jt部で表わすと、成分(b)である打機過酸化物は
0.01〜100重[寥1部、特に好ましくは0.1〜
50重量部、成分(C)であるp−アミノフェニル不飽
和ケトン化合物は0、O1〜100屯jI1部、特に好
ましくは0.1〜50重111部、結合剤はo−too
o重喰部、特に好ましくは0〜500 iRfit部で
ある。
あるエチレン性不飽和化合物100iit部に対する市
!Jt部で表わすと、成分(b)である打機過酸化物は
0.01〜100重[寥1部、特に好ましくは0.1〜
50重量部、成分(C)であるp−アミノフェニル不飽
和ケトン化合物は0、O1〜100屯jI1部、特に好
ましくは0.1〜50重111部、結合剤はo−too
o重喰部、特に好ましくは0〜500 iRfit部で
ある。
本発明光重合性組成物は広範囲な種類の基材−1−にコ
ーティングすることができる。前記基材とはすべての天
然または合成支持体、好ましくは可接性または剛性のフ
ィルムまたはシートの形で存在しうるものを、α味して
いる。例えば基材は金属シートまたは箔、合成有機樹脂
のシートまたはフィルム、セルロース紙、ファイバーボ
ードその他またはこれらの物質の2種またはそれ以[−
のものの複合体でありうる。特定の基材としてはアルミ
ナプラストアルミニウム、アノード処理アルミニウム、
アルミプラスト、ポリエチレンテレフタレートフィルム
、ポリエチレンテレフタレートフィルム例えば樹脂ド引
きポリエチレンテレフタレート−フィルム、静電放電処
理ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニルア
ルコールコーティングした紙、交叉結合ポリエステルコ
ーティング紙、ナイロン、ガラス、セルロースアセテー
トフィルムその他があげられる。
ーティングすることができる。前記基材とはすべての天
然または合成支持体、好ましくは可接性または剛性のフ
ィルムまたはシートの形で存在しうるものを、α味して
いる。例えば基材は金属シートまたは箔、合成有機樹脂
のシートまたはフィルム、セルロース紙、ファイバーボ
ードその他またはこれらの物質の2種またはそれ以[−
のものの複合体でありうる。特定の基材としてはアルミ
ナプラストアルミニウム、アノード処理アルミニウム、
アルミプラスト、ポリエチレンテレフタレートフィルム
、ポリエチレンテレフタレートフィルム例えば樹脂ド引
きポリエチレンテレフタレート−フィルム、静電放電処
理ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニルア
ルコールコーティングした紙、交叉結合ポリエステルコ
ーティング紙、ナイロン、ガラス、セルロースアセテー
トフィルムその他があげられる。
特定の基材は一般に関連する適用]」的により決定され
る。例えば印刷回路が製造される場合には、基材はファ
イバーボード−1−に銅コーテイングしたプレートであ
りうる。・14版印刷プレートの製造においては、基材
はアノード処理アルミニウムである。
る。例えば印刷回路が製造される場合には、基材はファ
イバーボード−1−に銅コーテイングしたプレートであ
りうる。・14版印刷プレートの製造においては、基材
はアノード処理アルミニウムである。
好ましくは光重合性組成物の層はo、oooiインチ(
0,00025cm)〜約0.01インチ(0,025
cm)の範囲の厚さを灯しており、そして光重合性層に
i’1ri性な放射を通過しうる薄い可+4性の重合体
フィルム支持体に程度ないし中等度接rI性をもって接
7tされている。それに保護カバー層またはカバーシー
トを接着させることができる。このシートはフィルム支
持体と層との間の接着力よりも小さい接着力を層に対し
てず1′シている。
0,00025cm)〜約0.01インチ(0,025
cm)の範囲の厚さを灯しており、そして光重合性層に
i’1ri性な放射を通過しうる薄い可+4性の重合体
フィルム支持体に程度ないし中等度接rI性をもって接
7tされている。それに保護カバー層またはカバーシー
トを接着させることができる。このシートはフィルム支
持体と層との間の接着力よりも小さい接着力を層に対し
てず1′シている。
特に好ましい支持体は約0.001インチ(0,002
5cm) 〜約0.4インチ(1,0c−)の範囲の厚
さをイfする透明ポリエチレンテレフタレートフィルム
である。また、0.0005インチ(0,0013c糟
)〜0.04インチ(0,10c、)のポリエチレンは
好ましいカバーシートであり、ポリビニルアルコールコ
ーティングは好ましいカバー層である。
5cm) 〜約0.4インチ(1,0c−)の範囲の厚
さをイfする透明ポリエチレンテレフタレートフィルム
である。また、0.0005インチ(0,0013c糟
)〜0.04インチ(0,10c、)のポリエチレンは
好ましいカバーシートであり、ポリビニルアルコールコ
ーティングは好ましいカバー層である。
通常の光源としては405,436および546nm
(Hg)波長に中心を有する狭いかまたは広い光バンド
を与える蛍光燈、水銀灯、金属添加ランプおよびアーク
ランプがあげられる。干渉光源はパルス式キセノン、ア
ルゴンイオン、ヘリウム−カドミウム、およびイオン化
ネオンレーザ−などである。プリントアウト系に広く使
用されている可視光発生陰極線管もまた本発明の組成物
に関して有用である。これらは一般に電気エネルギーを
光エネルギーに変換させるための手段として紫外または
可視光発生性燐光体内部コーティングをそして放射を光
感受性ターゲットに導くための手段として光学ファイバ
ーフェイスプレートを包含している。
(Hg)波長に中心を有する狭いかまたは広い光バンド
を与える蛍光燈、水銀灯、金属添加ランプおよびアーク
ランプがあげられる。干渉光源はパルス式キセノン、ア
ルゴンイオン、ヘリウム−カドミウム、およびイオン化
ネオンレーザ−などである。プリントアウト系に広く使
用されている可視光発生陰極線管もまた本発明の組成物
に関して有用である。これらは一般に電気エネルギーを
光エネルギーに変換させるための手段として紫外または
可視光発生性燐光体内部コーティングをそして放射を光
感受性ターゲットに導くための手段として光学ファイバ
ーフェイスプレートを包含している。
(作用)
本発明の増感剤すなわち成分(C)は本来、本発明に使
用される光開始剤すなわち成分(b)が吸収し得ないか
または非常に小さな吸光度しか示さない11視光を効率
よく吸収し、活性化される。
用される光開始剤すなわち成分(b)が吸収し得ないか
または非常に小さな吸光度しか示さない11視光を効率
よく吸収し、活性化される。
その状態で本発明の増感剤は本発明で使用される光開始
剤に作用し、結果的に活性なラジカルを発生させ、その
ラジカルが組成物中のエチレン性不飽和化合物を攻撃し
て、千金を起こすものと思われる。
剤に作用し、結果的に活性なラジカルを発生させ、その
ラジカルが組成物中のエチレン性不飽和化合物を攻撃し
て、千金を起こすものと思われる。
(実施例)
以F実施例により本発明を具体的に説明するがここにr
l鳴お上び%は市電基準ある。
l鳴お上び%は市電基準ある。
実施例1〜7、比較例1〜4
F引き層をイfする100μ厚さの透明なポリエチレン
テレフタレートフイルムト、に下記組成の感光層塗工液
を塗布し、熱風乾燥機にて90°C,1分間乾燥し、厚
さ3 ttの塗膜を得た。次いでそのtzに7%ポリビ
ニルアルコール(完全ケン化、重合度500)の水溶液
を塗布し熱風乾燥機で100°C1分間乾燥して1μの
オーバーコート層を設けて、感度テスト片を得た。
テレフタレートフイルムト、に下記組成の感光層塗工液
を塗布し、熱風乾燥機にて90°C,1分間乾燥し、厚
さ3 ttの塗膜を得た。次いでそのtzに7%ポリビ
ニルアルコール(完全ケン化、重合度500)の水溶液
を塗布し熱風乾燥機で100°C1分間乾燥して1μの
オーバーコート層を設けて、感度テスト片を得た。
(感光層塗り液組成)
ポリ(メタクリル酸メチル/
メタクリル酸) 52部
70/30モル比
テトラエチレングリコール
ジアクリレート40
(T機過酸化物(成分b) 5p−ア
ミノフェニル不飽和ケトン (成分c) 3 メタノール 200酢酸エチ
ル 80クロロホルム
120部」二記感度テスト片1−にネ
ガフィルムとして21f2ステツプタブレツト(人【」
木スクリーン社製グレーフィルムスケール)を市ねて、
キセノンランプ(ウシオ電機社製U X L −500
1) −0)に東芝社製干渉フィルターKL−49と同
色ガラスフィルターY−45を組み合わせた光源(49
0部mA)で15cmの距離から10分間露光した後、
30℃0.7%炭酸ナトリウム水溶液に10秒間浸漬し
、水洗して未硬化部分を除去し乾燥した後、21(2ス
テツプタブレツトの完全硬化の段数(ステップ)を調べ
、それを表1に示す。また比較例を表2に示す。
ミノフェニル不飽和ケトン (成分c) 3 メタノール 200酢酸エチ
ル 80クロロホルム
120部」二記感度テスト片1−にネ
ガフィルムとして21f2ステツプタブレツト(人【」
木スクリーン社製グレーフィルムスケール)を市ねて、
キセノンランプ(ウシオ電機社製U X L −500
1) −0)に東芝社製干渉フィルターKL−49と同
色ガラスフィルターY−45を組み合わせた光源(49
0部mA)で15cmの距離から10分間露光した後、
30℃0.7%炭酸ナトリウム水溶液に10秒間浸漬し
、水洗して未硬化部分を除去し乾燥した後、21(2ス
テツプタブレツトの完全硬化の段数(ステップ)を調べ
、それを表1に示す。また比較例を表2に示す。
以ド余白
表1
表2
表1.2より明らかなように本発明の実施例1〜7は比
較例1〜4に比べ490部mの光に対して高感度である
ことが判る。
較例1〜4に比べ490部mの光に対して高感度である
ことが判る。
(発明の効果)
本発明の光重合性組成物は、IIJ視光に対して高感度
を示すため、低いエネルギーの露光光源を使用すること
ができ、また、与えられた時間内に多数の原版を露光お
よび現像できる。また、露光源を原版より遠ざけること
ができるため、その光線が下行化され、例えば網点画像
形成する場合、東向の側部を打するシャープな網点を形
成することができるなと種々の利点をイ1′シている。
を示すため、低いエネルギーの露光光源を使用すること
ができ、また、与えられた時間内に多数の原版を露光お
よび現像できる。また、露光源を原版より遠ざけること
ができるため、その光線が下行化され、例えば網点画像
形成する場合、東向の側部を打するシャープな網点を形
成することができるなと種々の利点をイ1′シている。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (a)少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性不
飽和化合物、 (b)下記一般式( I )で示される基を含有する有機
過酸化物および (c)下記一般式(II)で示されるp−アミノフェニル
不飽和ケトン化合物を含有する ことを特徴とする光重合性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Arはフェニル基または炭素数1〜4のアルキル
基、炭素数1〜4のアルコキシ基、フェニル基、アミノ
基、カルボニル基、ハロゲン原子のうち一種以上で置換
されたフェニル基を示す。)(C)下記一般式(II)で
示されるp−アミノフェニル不飽和ケトン化合物を含有
することを特徴とする光重合性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼−−−−−−−−(
II) 式中m、nはそれぞれ0または1であり、 R_1、R_2は水素原子または炭素原子数1〜5のア
ルキル基、R_3はメチリジン基またはR_4と結合し
てカルボニル基とともに環を形成することができる炭素
原子数1〜5のアルキレン−イリジン基、R_4は炭素
原子、置換または非置換フェニル基、もしくはR_3と
カルボニル基とともにインダノンまたはテトラロンを形
成する基、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但しR_6、R_7は水素原子または炭素原子数1〜
5のアルキル基を示す)である。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2958188A JPH01205153A (ja) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2958188A JPH01205153A (ja) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01205153A true JPH01205153A (ja) | 1989-08-17 |
Family
ID=12280063
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2958188A Pending JPH01205153A (ja) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01205153A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009149909A (ja) * | 2009-03-25 | 2009-07-09 | Fujifilm Corp | 非共鳴2光子吸収重合用組成物及びそれを用いた3次元光記録媒体 |
US7582390B2 (en) | 2003-05-23 | 2009-09-01 | Fujifilm Corporation | Two-photon absorbing polymerization method, two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording method |
-
1988
- 1988-02-10 JP JP2958188A patent/JPH01205153A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7582390B2 (en) | 2003-05-23 | 2009-09-01 | Fujifilm Corporation | Two-photon absorbing polymerization method, two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording method |
JP2009149909A (ja) * | 2009-03-25 | 2009-07-09 | Fujifilm Corp | 非共鳴2光子吸収重合用組成物及びそれを用いた3次元光記録媒体 |
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