JPH01203217A - 超伝導酸化物薄膜の製造方法 - Google Patents
超伝導酸化物薄膜の製造方法Info
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- JPH01203217A JPH01203217A JP63025605A JP2560588A JPH01203217A JP H01203217 A JPH01203217 A JP H01203217A JP 63025605 A JP63025605 A JP 63025605A JP 2560588 A JP2560588 A JP 2560588A JP H01203217 A JPH01203217 A JP H01203217A
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-
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
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- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は基体上に超伝導酸化物R11%を形成する方法
に関する。
に関する。
[従来の技術J
現在超伝導薄膜の作製技術として、プラズマ溶射法、蒸
着法、スパッタ法等の気相法のほかにスクリーン印刷法
、スピナー法等の塗布法が検討されている。これらの作
製方法は酸化物膜を基板上に形成した後加熱する方法で
あり、それぞれいくつかの問題点を持っている。例えば
、蒸着法やスパッタ法で作った膜の組成は原料組成と異
なることが多いという問題がある。スパッタ法では基板
温度が膜の結晶構造や配向性に大きな影響を与える。ス
クリーン印刷では膜が′m密にならない、臨界電流はス
パッタ法に比べて低い、基板との反応性が高い等の問題
がある。また別の膜作製方法として、酸化物の原料例え
ばステアリン酸イツトリウム、ナフテン酸バリウム、ナ
フテン酸銅等の有機酸金属塩を適当な溶媒と混合し、基
板に塗布した後に熱分解し、直接酸化物超伝導膜を作製
する方法が提案されている。この方法は強い還元τ囲気
が必要、炭素が残留する等の問題があり、実際臨界温度
の高い膜はできていない。
着法、スパッタ法等の気相法のほかにスクリーン印刷法
、スピナー法等の塗布法が検討されている。これらの作
製方法は酸化物膜を基板上に形成した後加熱する方法で
あり、それぞれいくつかの問題点を持っている。例えば
、蒸着法やスパッタ法で作った膜の組成は原料組成と異
なることが多いという問題がある。スパッタ法では基板
温度が膜の結晶構造や配向性に大きな影響を与える。ス
クリーン印刷では膜が′m密にならない、臨界電流はス
パッタ法に比べて低い、基板との反応性が高い等の問題
がある。また別の膜作製方法として、酸化物の原料例え
ばステアリン酸イツトリウム、ナフテン酸バリウム、ナ
フテン酸銅等の有機酸金属塩を適当な溶媒と混合し、基
板に塗布した後に熱分解し、直接酸化物超伝導膜を作製
する方法が提案されている。この方法は強い還元τ囲気
が必要、炭素が残留する等の問題があり、実際臨界温度
の高い膜はできていない。
[発明が解決しようとする課題]
上述したように、従来の超伝導酸化物薄膜の製造方法に
は、それぞれ形成される膜の組成、緻密度、残留不純物
等の問題があり、また基板温度。
は、それぞれ形成される膜の組成、緻密度、残留不純物
等の問題があり、また基板温度。
基板との反応性、必要な雰囲気などの制約があった。
更に超伝導薄膜を形成する際の重要な問題は、結晶の配
向が可能か否かである。超伝導特性を示す結晶(斜方晶
)において、電流はa、b軸方向に流れることが知られ
ている。従って超伝導薄膜を合成するに際し、基板に対
してC軸が垂直に配向した膜が最も望ましく、配向した
薄膜を用いることにより臨界電流密度等も向上する。
向が可能か否かである。超伝導特性を示す結晶(斜方晶
)において、電流はa、b軸方向に流れることが知られ
ている。従って超伝導薄膜を合成するに際し、基板に対
してC軸が垂直に配向した膜が最も望ましく、配向した
薄膜を用いることにより臨界電流密度等も向上する。
従来スパッタ法では5rTi03の単結晶板を基板とし
て用い、この上に配向させることが行われているが、単
結晶板は価格的にも高価であり、セラミックス等各種素
材上に配向できる製造技術の確立が望まれていた。
て用い、この上に配向させることが行われているが、単
結晶板は価格的にも高価であり、セラミックス等各種素
材上に配向できる製造技術の確立が望まれていた。
本発明は上述した従来の問題点を解決し、すぐれたC軸
配向を有する超伝導酸化物薄膜を形成する方法を提供す
ることを目的とする。
配向を有する超伝導酸化物薄膜を形成する方法を提供す
ることを目的とする。
[課題を解決するための手段]
このような目的を達成するために、本発明は、Ln−A
e−Cu−0系(但しLnは希土類元素の少なくとも1
種、 Aeはラジウムを除くアルカリ土金属の少なくと
も1種)超伝導酸化物薄膜の製造方法において、Ln
、 AeおよびCuをLn/ (Ln+Ae+Cu)
<16.6モル%、 Cu/ (Ln+^e+cu)
>50モル%、残部Aeの組成比で含む微粒子を含有す
るペーストを基体上に塗布する工程を含むことを特徴と
する。
e−Cu−0系(但しLnは希土類元素の少なくとも1
種、 Aeはラジウムを除くアルカリ土金属の少なくと
も1種)超伝導酸化物薄膜の製造方法において、Ln
、 AeおよびCuをLn/ (Ln+Ae+Cu)
<16.6モル%、 Cu/ (Ln+^e+cu)
>50モル%、残部Aeの組成比で含む微粒子を含有す
るペーストを基体上に塗布する工程を含むことを特徴と
する。
本発明において用いつる希土類元素はイツトリウムおよ
びランタン系元素の全てであり、アルカリ土金属は放射
性元素であるラジウムを除く全てを用いることができる
。
びランタン系元素の全てであり、アルカリ土金属は放射
性元素であるラジウムを除く全てを用いることができる
。
[作 用]
本発明においては、イツトリウム安定化ジルコニア(Y
SZ)やAl2O2等、セラミックス基体上にゾルゲル
法等で作製した超伝導材料を含有するベーストを塗布し
て膜を形成する。この際出発材料の組成を、予めCuが
多くLnの少ない組成に調整しておくことにより、塗布
後の膜を酸素を含有する7囲気中で加熱処理してC軸を
基体に垂直に配向させた超伝導膜を実現することができ
る。本発明においては、従来、超伝導相として知られて
いるYBa2Cu、O,、(1−2−3組成)からはず
れた組成から出発するが、加熱処理の際生じる組成の変
化により、最終的にはほぼ希望する組成でC軸配向膜が
形成される。
SZ)やAl2O2等、セラミックス基体上にゾルゲル
法等で作製した超伝導材料を含有するベーストを塗布し
て膜を形成する。この際出発材料の組成を、予めCuが
多くLnの少ない組成に調整しておくことにより、塗布
後の膜を酸素を含有する7囲気中で加熱処理してC軸を
基体に垂直に配向させた超伝導膜を実現することができ
る。本発明においては、従来、超伝導相として知られて
いるYBa2Cu、O,、(1−2−3組成)からはず
れた組成から出発するが、加熱処理の際生じる組成の変
化により、最終的にはほぼ希望する組成でC軸配向膜が
形成される。
[実施例]
以下に実施例によって本発明の詳細な説明する。
去茄」0工
銅のアルコキシド(II:u (OC2115) 2)
、バリウムのアルコキシド(Ba (OC4119)
2) 、イツトリウムのアルコキシド(y (OCJ
9)3)を酸化物を形成した時Cu:Ba:Y= 3.
76 : 1.54 : 0.39 (モル比)の割合
になるように混合して溶媒n−ブタノールを加え、20
時間還流を行い、その後超音波振動を加えながらCu、
Ba。
、バリウムのアルコキシド(Ba (OC4119)
2) 、イツトリウムのアルコキシド(y (OCJ
9)3)を酸化物を形成した時Cu:Ba:Y= 3.
76 : 1.54 : 0.39 (モル比)の割合
になるように混合して溶媒n−ブタノールを加え、20
時間還流を行い、その後超音波振動を加えながらCu、
Ba。
Y総量に対して約5〜lO倍の純水を徐々に加えた。更
にその後加水分解反応を十分に行わせるため、再度10
時間還流を行った。この均一な溶液を?!A lia
I−tて粘性を上げ、基板に塗布できる状態にした。濃
縮された液はゲル状態に近く、銅、バリウムおよびイツ
トリウムはそれぞれほとんど酸化物の形で、かつ寸法が
1μm以下の微粒子として液中に存在する。このような
出発原料の作製法をゾルゲル法とよぶ。この溶液の一部
を完全に粉末まで乾燥し、組成分析に供した。
にその後加水分解反応を十分に行わせるため、再度10
時間還流を行った。この均一な溶液を?!A lia
I−tて粘性を上げ、基板に塗布できる状態にした。濃
縮された液はゲル状態に近く、銅、バリウムおよびイツ
トリウムはそれぞれほとんど酸化物の形で、かつ寸法が
1μm以下の微粒子として液中に存在する。このような
出発原料の作製法をゾルゲル法とよぶ。この溶液の一部
を完全に粉末まで乾燥し、組成分析に供した。
ベースト状濃縮溶液をイツトリウム安定化ジルコニウム
(YSZ)基板上に塗布し、酸素ガスを流しながら電気
炉中で950℃、30分加熱し、 600℃まで1℃/
minで降温して、そこで10時間保持し、室温tでゆ
っくりと冷却した。この薄膜のX線回折図を第1図に示
す。
(YSZ)基板上に塗布し、酸素ガスを流しながら電気
炉中で950℃、30分加熱し、 600℃まで1℃/
minで降温して、そこで10時間保持し、室温tでゆ
っくりと冷却した。この薄膜のX線回折図を第1図に示
す。
(002) 、 (003) 、 (004) 、 (
005) 、 <006) 、 (007)のピークが
非常に大きく、膜はC軸が基板に垂直になる方向に配向
していることがわかる。
005) 、 <006) 、 (007)のピークが
非常に大きく、膜はC軸が基板に垂直になる方向に配向
していることがわかる。
この薄膜の抵抗の温度変化を4端子法により測定した。
第2図にこの測定結果を示す。抵抗が下がり始める温度
(オンセット温度)は95に、完全にτ抵抗になる温度
は90にであり、これはバルクサンプルと同等の値であ
る。
(オンセット温度)は95に、完全にτ抵抗になる温度
は90にであり、これはバルクサンプルと同等の値であ
る。
次に、蛍光X線を用い、出発材料および膜の組成分析を
行った結果の一例を、処理温度を横軸に、縦軸に組成を
モル%として第3図に示す。
行った結果の一例を、処理温度を横軸に、縦軸に組成を
モル%として第3図に示す。
図の右端に矢印で超伝導相YBa2Cu30y−xとな
る時のモル%(Y:16.7mo1%、Ba:33.3
1ojJ%、Cu:50、OmoiL%)を示しである
。
る時のモル%(Y:16.7mo1%、Ba:33.3
1ojJ%、Cu:50、OmoiL%)を示しである
。
出発時にはCuが多くYが少ない組成に調整したが、加
熱処理の温度が高くなるに従い、Cuの量が急激に減少
することがわかフた。このため、相対的にBaやYの量
(モル%)が増加し、矢印で示した1−2−3組成に近
ずくことが明らかになった。このように初めに意図的に
Cuの多い方にずらした組成は、高温処理によって1−
2−3組成からのずれが自然に補正され、しかもCuが
多くYが少ない組成から出発すると、セラミックス基板
上にC@配向膜が形成されることがわかった。C軸配向
の理由は必ずしも明確ではないが、CuO,BaO,Y
2(1+の溶融温度が、それぞれ、1232℃、 19
23℃、 2440℃であることを考えると、CuOが
最も早く低い温度から反応を起こし、原子の再配列によ
り配向が生じるものと思われる。
熱処理の温度が高くなるに従い、Cuの量が急激に減少
することがわかフた。このため、相対的にBaやYの量
(モル%)が増加し、矢印で示した1−2−3組成に近
ずくことが明らかになった。このように初めに意図的に
Cuの多い方にずらした組成は、高温処理によって1−
2−3組成からのずれが自然に補正され、しかもCuが
多くYが少ない組成から出発すると、セラミックス基板
上にC@配向膜が形成されることがわかった。C軸配向
の理由は必ずしも明確ではないが、CuO,BaO,Y
2(1+の溶融温度が、それぞれ、1232℃、 19
23℃、 2440℃であることを考えると、CuOが
最も早く低い温度から反応を起こし、原子の再配列によ
り配向が生じるものと思われる。
当然、配向は原子の移動に必要な温度に保持されると徐
々に進行するものと推定される。第4図に、950℃で
の保持時間を0.1〜10時間まで変化させた試料の(
006)ピークの変化を示す。
々に進行するものと推定される。第4図に、950℃で
の保持時間を0.1〜10時間まで変化させた試料の(
006)ピークの変化を示す。
ピークは時間とともに増大し、最大値を示した後減少す
る。これは、配向させるための最適処理温度および最適
処理時間のあることを示唆しているが、組成が温度1時
間により変化することや、基板と超伝導材料との反応を
考えるとうなずける結果である。
る。これは、配向させるための最適処理温度および最適
処理時間のあることを示唆しているが、組成が温度1時
間により変化することや、基板と超伝導材料との反応を
考えるとうなずける結果である。
次に、Y−Ba−Cu−0系において、同様にアルコキ
シドを出発原料として出発時の組成を変化させた時の配
向の程度を3元素状態図(第5図)に示した。処理温度
は950℃、保持時間は30分間である。
シドを出発原料として出発時の組成を変化させた時の配
向の程度を3元素状態図(第5図)に示した。処理温度
は950℃、保持時間は30分間である。
(○)印は第1図に示したようにほぼ完全に配向を示す
組成、(△)印は配向度が小さいものでそのX線回折図
の一例を第6図に示す。(×)印はほぼ完全に無配向状
態を示した組成である。第5図には、黒丸印でYBa2
Cu、0.、 (1−2−3)組成の位置を示しである
が、この出発組成では配向は全く現われなかった。図示
するようにYが16.6モル%より少なく、かつCuが
50モル%より多い組成が配向を実現するために望まし
いことがわかる。
組成、(△)印は配向度が小さいものでそのX線回折図
の一例を第6図に示す。(×)印はほぼ完全に無配向状
態を示した組成である。第5図には、黒丸印でYBa2
Cu、0.、 (1−2−3)組成の位置を示しである
が、この出発組成では配向は全く現われなかった。図示
するようにYが16.6モル%より少なく、かつCuが
50モル%より多い組成が配向を実現するために望まし
いことがわかる。
以上述べた現象は、本実施例のようにゾルゲル法で作製
したサブミクロン以下の超伝導微粒子から膜を製造した
時に顕著であることが予想される。粒径の小さな微粒子
はど活性度が高く、より低い温度で原子の移動が可能と
なるためである。
したサブミクロン以下の超伝導微粒子から膜を製造した
時に顕著であることが予想される。粒径の小さな微粒子
はど活性度が高く、より低い温度で原子の移動が可能と
なるためである。
このことを明確に実験で示すため、粒径の大きな(1〜
数μm)市販の試薬、Y2O,、、BaCO3,CuO
を用い、同様に出発組成を変化させて高温処理によりど
のような配向を示すかを調べた。但し、このように大き
な微粒子の場合は、配列により高い温度が必要とされる
ため、処理温度は1000℃、保持時間は30分間にし
た。これ以下では明確な配向が見られず、またこれ以上
の温度では基板との反応のため超伝導特性が損なわれる
ことが予備実験で確認されている。第7図に市販試薬を
出発原料にした時の3元素状態図を示す。
数μm)市販の試薬、Y2O,、、BaCO3,CuO
を用い、同様に出発組成を変化させて高温処理によりど
のような配向を示すかを調べた。但し、このように大き
な微粒子の場合は、配列により高い温度が必要とされる
ため、処理温度は1000℃、保持時間は30分間にし
た。これ以下では明確な配向が見られず、またこれ以上
の温度では基板との反応のため超伝導特性が損なわれる
ことが予備実験で確認されている。第7図に市販試薬を
出発原料にした時の3元素状態図を示す。
配向を示す組成域は第5図に示した領域よりやや狭く、
かつ配向の度合いが小さいことから、ゾルゲル法で作製
した微粒子の方が配向の点からはすぐれているというこ
とができる。
かつ配向の度合いが小さいことから、ゾルゲル法で作製
した微粒子の方が配向の点からはすぐれているというこ
とができる。
火直■ユ
銅、バリウム、ネオジウムのアルコキシド(Cu (O
C2Hs) 2 、 Ba (OC4119) 2 、
Nd (OC4H9) s)を、Cuが多くNdが少
なくなる組成に(CLI:60.21110℃%、 B
a:30.8mou%、 Nd:9.O+noj2%)
なるように混合し、溶媒としてn−ブタノールを加え、
実施例1と同様の方法により還流および加水分解を行っ
た。この均一溶液を濃縮して粘性を上げ、スクリーン印
刷およびスプレー法によりYSz基板上に膜を形成した
。これを酸素気流中で950℃、 30分間加熱し、室
温までゆっくりと玲却した。第8図に、この膜サンプル
のX線回折図を示す。
C2Hs) 2 、 Ba (OC4119) 2 、
Nd (OC4H9) s)を、Cuが多くNdが少
なくなる組成に(CLI:60.21110℃%、 B
a:30.8mou%、 Nd:9.O+noj2%)
なるように混合し、溶媒としてn−ブタノールを加え、
実施例1と同様の方法により還流および加水分解を行っ
た。この均一溶液を濃縮して粘性を上げ、スクリーン印
刷およびスプレー法によりYSz基板上に膜を形成した
。これを酸素気流中で950℃、 30分間加熱し、室
温までゆっくりと玲却した。第8図に、この膜サンプル
のX線回折図を示す。
(002)および(004)のピークは観測されないも
のの、他の(OOn) (n−3,5,8,7)は非常
に強く現われており、Nd−Ba−Cu−0系でも同様
に、Cuが多くNdが少ない組成を出発原料とすること
によりC軸方向に配向できることが明らかになった。
のの、他の(OOn) (n−3,5,8,7)は非常
に強く現われており、Nd−Ba−Cu−0系でも同様
に、Cuが多くNdが少ない組成を出発原料とすること
によりC軸方向に配向できることが明らかになった。
犬族■ユ
アルコキシドを出発原料に、Y−Nd−Ba−Cu−〇
系で実施例1.2と同様にYSZ基板上に超伝導膜を形
成した。出発組成は、(Yニア、8moIL%、 Nd
:5.3moJ2%、 Ba:17.9 moj2%、
Cu:69 moIL%)であり、Cuが多く Y、
Ndが少ないものとしている。第9図に、この超伝導膜
サンプルのX線回折図を示す。
系で実施例1.2と同様にYSZ基板上に超伝導膜を形
成した。出発組成は、(Yニア、8moIL%、 Nd
:5.3moJ2%、 Ba:17.9 moj2%、
Cu:69 moIL%)であり、Cuが多く Y、
Ndが少ないものとしている。第9図に、この超伝導膜
サンプルのX線回折図を示す。
C軸配向に特有のピークが見られるが、更にYとNdの
イオン半径は1.Ofi、 1.15人と異なるため、
格子定数もY<Ndとなり(2θではY>Nd)、(0
0n)に対応するピーク(n=5.6.7)が分離して
現われている。図中、(○)印はYに、(*)印はNd
に関係するピークである。
イオン半径は1.Ofi、 1.15人と異なるため、
格子定数もY<Ndとなり(2θではY>Nd)、(0
0n)に対応するピーク(n=5.6.7)が分離して
現われている。図中、(○)印はYに、(*)印はNd
に関係するピークである。
このように出発組成の選択により、Ln(ランタノイド
系元素)−Ba−Cu−0系においても、またその混合
系においても、基板に垂直にC軸が向くように配向させ
ることができることがわかった。
系元素)−Ba−Cu−0系においても、またその混合
系においても、基板に垂直にC軸が向くように配向させ
ることができることがわかった。
以上の実施例は、基板上に塗布する場合について記述し
であるが、YSz等のセラミックスは超塑性を示すこと
が知られており、線状あるいは他の形態も採りつるもの
である。従って、本発明は基板上のみではなく、あらゆ
る形状の基体に対して有効である。
であるが、YSz等のセラミックスは超塑性を示すこと
が知られており、線状あるいは他の形態も採りつるもの
である。従って、本発明は基板上のみではなく、あらゆ
る形状の基体に対して有効である。
実施例4
以上の検討はysz基板を用いて行ったが、同様に^l
1203やMgO等の各種基板上でもC軸配向膜ができ
る。
1203やMgO等の各種基板上でもC軸配向膜ができ
る。
Y−Ba−Cu−0、%粉末をゾルゲル法で作製し、こ
れにエチレングリコール等を添加してペースト状にした
ものをAJlx−Os基板上に塗布した。この試料を9
00〜950℃で10〜30分加熱処理して超伝導薄膜
を作製した。一般に、高温下でAIL203基板はys
z基板に比べて超伝導材料との反応性がやや激しい傾向
にあるため、加熱条件は出発組成に依存し、少し低い温
度にする必要があるが、今までの実施例同様、C軸配向
膜が、Cuが多くYが少ない出発組成材料から得られた
。従って、C軸配向膜を作製する場合、特にこの基板で
なくてはいけないという基板選択性は基本的にはないも
のと考えられる。
れにエチレングリコール等を添加してペースト状にした
ものをAJlx−Os基板上に塗布した。この試料を9
00〜950℃で10〜30分加熱処理して超伝導薄膜
を作製した。一般に、高温下でAIL203基板はys
z基板に比べて超伝導材料との反応性がやや激しい傾向
にあるため、加熱条件は出発組成に依存し、少し低い温
度にする必要があるが、今までの実施例同様、C軸配向
膜が、Cuが多くYが少ない出発組成材料から得られた
。従って、C軸配向膜を作製する場合、特にこの基板で
なくてはいけないという基板選択性は基本的にはないも
のと考えられる。
もちろん、基板と超伝導材料との高温下での反応性は基
板の種類により異なるため、例えばゾルゲル法によって
基板上にCuOやY2O3,Zr(h等の保X■膜を形
成し、その保護膜の上にC@配向膜を形成することも可
能であることが本発明者らの実験により確認されている
。
板の種類により異なるため、例えばゾルゲル法によって
基板上にCuOやY2O3,Zr(h等の保X■膜を形
成し、その保護膜の上にC@配向膜を形成することも可
能であることが本発明者らの実験により確認されている
。
[発明の効果]
以上説明したように、Cu>50モル%、Ln< 18
.6モル%の組成を有するLn (1種以上の希土類元
素)−アルカリ土金属−Cu系を基体表面に塗布し加熱
処理することにより、c!I!lll配向した超伝導膜
を製造することができる。
.6モル%の組成を有するLn (1種以上の希土類元
素)−アルカリ土金属−Cu系を基体表面に塗布し加熱
処理することにより、c!I!lll配向した超伝導膜
を製造することができる。
第1図はYSZ基板上にC軸配向したY−Ba−Cu−
0系サンプルのXM回折を示す図、 第2図はそのサンプルの抵抗の温度変化を示す図、 第3図は高温処理した時の組成の変動を示す図、 第4図は高温処理時間によって配向度が変化する様子を
(OOa)ピーク値の変化で示した図、第5図は配向す
るゾルゲル法による出発材料の組成を示した3元素状態
図、 第6図は配向度が小さいサンプルのx6回折図、 第7図は市販粉末原料を用いた場合の出発材料の組成と
配向の様子を示した3元素状態図、第8図はC軸配向し
たNd−Ba−Cu−0系サンプルのX線回折を示す図
、 第9図はC軸配向したY−Nd−Ba−Cu−0系サン
プルのX線回折を示す図である。
0系サンプルのXM回折を示す図、 第2図はそのサンプルの抵抗の温度変化を示す図、 第3図は高温処理した時の組成の変動を示す図、 第4図は高温処理時間によって配向度が変化する様子を
(OOa)ピーク値の変化で示した図、第5図は配向す
るゾルゲル法による出発材料の組成を示した3元素状態
図、 第6図は配向度が小さいサンプルのx6回折図、 第7図は市販粉末原料を用いた場合の出発材料の組成と
配向の様子を示した3元素状態図、第8図はC軸配向し
たNd−Ba−Cu−0系サンプルのX線回折を示す図
、 第9図はC軸配向したY−Nd−Ba−Cu−0系サン
プルのX線回折を示す図である。
Claims (1)
- (1)Ln−Ae−Cu−O系(但しLnは希土類元素
の少なくとも1種、Aeはラジウムを除くアルカリ土金
属の少なくとも1種)超伝導酸化物薄膜の製造方法にお
いて、Ln、AeおよびCuをLn/(Ln+Ae+C
u)<16.6モル%、Cu/(Ln+Ae+Cu)>
50モル%、残部Aeの組成比で含む微粒子を含有する
ペーストを基体上に塗布する工程を含むことを特徴とす
る超伝導酸化物薄膜の製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63025605A JPH01203217A (ja) | 1988-02-08 | 1988-02-08 | 超伝導酸化物薄膜の製造方法 |
PCT/JP1988/000585 WO1988010233A1 (en) | 1987-06-17 | 1988-06-16 | Process for producing oxide powder and oxide superconductor |
DE3854400T DE3854400T3 (de) | 1987-06-17 | 1988-06-16 | Verfahren zur herstellung von supraleitenden oxyden. |
EP19930117398 EP0587198A1 (en) | 1987-06-17 | 1988-06-16 | Layered superconducting oxide structure |
US07/313,965 US5294599A (en) | 1987-06-17 | 1988-06-16 | Processes for preparing oxide powders and superconducting oxides |
EP88905427A EP0486686B2 (en) | 1987-06-17 | 1988-06-16 | Process for producing oxide superconductors |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63025605A JPH01203217A (ja) | 1988-02-08 | 1988-02-08 | 超伝導酸化物薄膜の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01203217A true JPH01203217A (ja) | 1989-08-16 |
Family
ID=12170533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63025605A Pending JPH01203217A (ja) | 1987-06-17 | 1988-02-08 | 超伝導酸化物薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01203217A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01275426A (ja) * | 1988-04-27 | 1989-11-06 | Kyocera Corp | 酸化物超電導体及びその製法 |
-
1988
- 1988-02-08 JP JP63025605A patent/JPH01203217A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01275426A (ja) * | 1988-04-27 | 1989-11-06 | Kyocera Corp | 酸化物超電導体及びその製法 |
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