JPH01203217A - 超伝導酸化物薄膜の製造方法 - Google Patents

超伝導酸化物薄膜の製造方法

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JPH01203217A
JPH01203217A JP63025605A JP2560588A JPH01203217A JP H01203217 A JPH01203217 A JP H01203217A JP 63025605 A JP63025605 A JP 63025605A JP 2560588 A JP2560588 A JP 2560588A JP H01203217 A JPH01203217 A JP H01203217A
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JP
Japan
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JP63025605A
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English (en)
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Shuichi Shibata
修一 柴田
Hisaaki Okazaki
岡崎 久晃
Takao Kimura
隆男 木村
Takeshi Kitagawa
毅 北川
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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    • Y02E40/00Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
    • Y02E40/60Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment

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  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は基体上に超伝導酸化物R11%を形成する方法
に関する。
[従来の技術J 現在超伝導薄膜の作製技術として、プラズマ溶射法、蒸
着法、スパッタ法等の気相法のほかにスクリーン印刷法
、スピナー法等の塗布法が検討されている。これらの作
製方法は酸化物膜を基板上に形成した後加熱する方法で
あり、それぞれいくつかの問題点を持っている。例えば
、蒸着法やスパッタ法で作った膜の組成は原料組成と異
なることが多いという問題がある。スパッタ法では基板
温度が膜の結晶構造や配向性に大きな影響を与える。ス
クリーン印刷では膜が′m密にならない、臨界電流はス
パッタ法に比べて低い、基板との反応性が高い等の問題
がある。また別の膜作製方法として、酸化物の原料例え
ばステアリン酸イツトリウム、ナフテン酸バリウム、ナ
フテン酸銅等の有機酸金属塩を適当な溶媒と混合し、基
板に塗布した後に熱分解し、直接酸化物超伝導膜を作製
する方法が提案されている。この方法は強い還元τ囲気
が必要、炭素が残留する等の問題があり、実際臨界温度
の高い膜はできていない。
[発明が解決しようとする課題] 上述したように、従来の超伝導酸化物薄膜の製造方法に
は、それぞれ形成される膜の組成、緻密度、残留不純物
等の問題があり、また基板温度。
基板との反応性、必要な雰囲気などの制約があった。
更に超伝導薄膜を形成する際の重要な問題は、結晶の配
向が可能か否かである。超伝導特性を示す結晶(斜方晶
)において、電流はa、b軸方向に流れることが知られ
ている。従って超伝導薄膜を合成するに際し、基板に対
してC軸が垂直に配向した膜が最も望ましく、配向した
薄膜を用いることにより臨界電流密度等も向上する。
従来スパッタ法では5rTi03の単結晶板を基板とし
て用い、この上に配向させることが行われているが、単
結晶板は価格的にも高価であり、セラミックス等各種素
材上に配向できる製造技術の確立が望まれていた。
本発明は上述した従来の問題点を解決し、すぐれたC軸
配向を有する超伝導酸化物薄膜を形成する方法を提供す
ることを目的とする。
[課題を解決するための手段] このような目的を達成するために、本発明は、Ln−A
e−Cu−0系(但しLnは希土類元素の少なくとも1
種、 Aeはラジウムを除くアルカリ土金属の少なくと
も1種)超伝導酸化物薄膜の製造方法において、Ln 
、 AeおよびCuをLn/ (Ln+Ae+Cu) 
<16.6モル%、 Cu/ (Ln+^e+cu) 
>50モル%、残部Aeの組成比で含む微粒子を含有す
るペーストを基体上に塗布する工程を含むことを特徴と
する。
本発明において用いつる希土類元素はイツトリウムおよ
びランタン系元素の全てであり、アルカリ土金属は放射
性元素であるラジウムを除く全てを用いることができる
[作 用] 本発明においては、イツトリウム安定化ジルコニア(Y
SZ)やAl2O2等、セラミックス基体上にゾルゲル
法等で作製した超伝導材料を含有するベーストを塗布し
て膜を形成する。この際出発材料の組成を、予めCuが
多くLnの少ない組成に調整しておくことにより、塗布
後の膜を酸素を含有する7囲気中で加熱処理してC軸を
基体に垂直に配向させた超伝導膜を実現することができ
る。本発明においては、従来、超伝導相として知られて
いるYBa2Cu、O,、(1−2−3組成)からはず
れた組成から出発するが、加熱処理の際生じる組成の変
化により、最終的にはほぼ希望する組成でC軸配向膜が
形成される。
[実施例] 以下に実施例によって本発明の詳細な説明する。
去茄」0工 銅のアルコキシド(II:u (OC2115) 2)
 、バリウムのアルコキシド(Ba (OC4119)
 2) 、イツトリウムのアルコキシド(y (OCJ
9)3)を酸化物を形成した時Cu:Ba:Y= 3.
76 : 1.54 : 0.39 (モル比)の割合
になるように混合して溶媒n−ブタノールを加え、20
時間還流を行い、その後超音波振動を加えながらCu、
Ba。
Y総量に対して約5〜lO倍の純水を徐々に加えた。更
にその後加水分解反応を十分に行わせるため、再度10
時間還流を行った。この均一な溶液を?!A lia 
I−tて粘性を上げ、基板に塗布できる状態にした。濃
縮された液はゲル状態に近く、銅、バリウムおよびイツ
トリウムはそれぞれほとんど酸化物の形で、かつ寸法が
1μm以下の微粒子として液中に存在する。このような
出発原料の作製法をゾルゲル法とよぶ。この溶液の一部
を完全に粉末まで乾燥し、組成分析に供した。
ベースト状濃縮溶液をイツトリウム安定化ジルコニウム
(YSZ)基板上に塗布し、酸素ガスを流しながら電気
炉中で950℃、30分加熱し、 600℃まで1℃/
minで降温して、そこで10時間保持し、室温tでゆ
っくりと冷却した。この薄膜のX線回折図を第1図に示
す。
(002) 、 (003) 、 (004) 、 (
005) 、 <006) 、 (007)のピークが
非常に大きく、膜はC軸が基板に垂直になる方向に配向
していることがわかる。
この薄膜の抵抗の温度変化を4端子法により測定した。
第2図にこの測定結果を示す。抵抗が下がり始める温度
(オンセット温度)は95に、完全にτ抵抗になる温度
は90にであり、これはバルクサンプルと同等の値であ
る。
次に、蛍光X線を用い、出発材料および膜の組成分析を
行った結果の一例を、処理温度を横軸に、縦軸に組成を
モル%として第3図に示す。
図の右端に矢印で超伝導相YBa2Cu30y−xとな
る時のモル%(Y:16.7mo1%、Ba:33.3
1ojJ%、Cu:50、OmoiL%)を示しである
出発時にはCuが多くYが少ない組成に調整したが、加
熱処理の温度が高くなるに従い、Cuの量が急激に減少
することがわかフた。このため、相対的にBaやYの量
(モル%)が増加し、矢印で示した1−2−3組成に近
ずくことが明らかになった。このように初めに意図的に
Cuの多い方にずらした組成は、高温処理によって1−
2−3組成からのずれが自然に補正され、しかもCuが
多くYが少ない組成から出発すると、セラミックス基板
上にC@配向膜が形成されることがわかった。C軸配向
の理由は必ずしも明確ではないが、CuO,BaO,Y
2(1+の溶融温度が、それぞれ、1232℃、 19
23℃、 2440℃であることを考えると、CuOが
最も早く低い温度から反応を起こし、原子の再配列によ
り配向が生じるものと思われる。
当然、配向は原子の移動に必要な温度に保持されると徐
々に進行するものと推定される。第4図に、950℃で
の保持時間を0.1〜10時間まで変化させた試料の(
006)ピークの変化を示す。
ピークは時間とともに増大し、最大値を示した後減少す
る。これは、配向させるための最適処理温度および最適
処理時間のあることを示唆しているが、組成が温度1時
間により変化することや、基板と超伝導材料との反応を
考えるとうなずける結果である。
次に、Y−Ba−Cu−0系において、同様にアルコキ
シドを出発原料として出発時の組成を変化させた時の配
向の程度を3元素状態図(第5図)に示した。処理温度
は950℃、保持時間は30分間である。
(○)印は第1図に示したようにほぼ完全に配向を示す
組成、(△)印は配向度が小さいものでそのX線回折図
の一例を第6図に示す。(×)印はほぼ完全に無配向状
態を示した組成である。第5図には、黒丸印でYBa2
Cu、0.、 (1−2−3)組成の位置を示しである
が、この出発組成では配向は全く現われなかった。図示
するようにYが16.6モル%より少なく、かつCuが
50モル%より多い組成が配向を実現するために望まし
いことがわかる。
以上述べた現象は、本実施例のようにゾルゲル法で作製
したサブミクロン以下の超伝導微粒子から膜を製造した
時に顕著であることが予想される。粒径の小さな微粒子
はど活性度が高く、より低い温度で原子の移動が可能と
なるためである。
このことを明確に実験で示すため、粒径の大きな(1〜
数μm)市販の試薬、Y2O,、、BaCO3,CuO
を用い、同様に出発組成を変化させて高温処理によりど
のような配向を示すかを調べた。但し、このように大き
な微粒子の場合は、配列により高い温度が必要とされる
ため、処理温度は1000℃、保持時間は30分間にし
た。これ以下では明確な配向が見られず、またこれ以上
の温度では基板との反応のため超伝導特性が損なわれる
ことが予備実験で確認されている。第7図に市販試薬を
出発原料にした時の3元素状態図を示す。
配向を示す組成域は第5図に示した領域よりやや狭く、
かつ配向の度合いが小さいことから、ゾルゲル法で作製
した微粒子の方が配向の点からはすぐれているというこ
とができる。
火直■ユ 銅、バリウム、ネオジウムのアルコキシド(Cu (O
C2Hs) 2 、 Ba (OC4119) 2 、
 Nd (OC4H9) s)を、Cuが多くNdが少
なくなる組成に(CLI:60.21110℃%、 B
a:30.8mou%、 Nd:9.O+noj2%)
なるように混合し、溶媒としてn−ブタノールを加え、
実施例1と同様の方法により還流および加水分解を行っ
た。この均一溶液を濃縮して粘性を上げ、スクリーン印
刷およびスプレー法によりYSz基板上に膜を形成した
。これを酸素気流中で950℃、 30分間加熱し、室
温までゆっくりと玲却した。第8図に、この膜サンプル
のX線回折図を示す。
(002)および(004)のピークは観測されないも
のの、他の(OOn) (n−3,5,8,7)は非常
に強く現われており、Nd−Ba−Cu−0系でも同様
に、Cuが多くNdが少ない組成を出発原料とすること
によりC軸方向に配向できることが明らかになった。
犬族■ユ アルコキシドを出発原料に、Y−Nd−Ba−Cu−〇
系で実施例1.2と同様にYSZ基板上に超伝導膜を形
成した。出発組成は、(Yニア、8moIL%、 Nd
:5.3moJ2%、 Ba:17.9 moj2%、
 Cu:69 moIL%)であり、Cuが多く Y、
Ndが少ないものとしている。第9図に、この超伝導膜
サンプルのX線回折図を示す。
C軸配向に特有のピークが見られるが、更にYとNdの
イオン半径は1.Ofi、 1.15人と異なるため、
格子定数もY<Ndとなり(2θではY>Nd)、(0
0n)に対応するピーク(n=5.6.7)が分離して
現われている。図中、(○)印はYに、(*)印はNd
に関係するピークである。
このように出発組成の選択により、Ln(ランタノイド
系元素)−Ba−Cu−0系においても、またその混合
系においても、基板に垂直にC軸が向くように配向させ
ることができることがわかった。
以上の実施例は、基板上に塗布する場合について記述し
であるが、YSz等のセラミックスは超塑性を示すこと
が知られており、線状あるいは他の形態も採りつるもの
である。従って、本発明は基板上のみではなく、あらゆ
る形状の基体に対して有効である。
実施例4 以上の検討はysz基板を用いて行ったが、同様に^l
1203やMgO等の各種基板上でもC軸配向膜ができ
る。
Y−Ba−Cu−0、%粉末をゾルゲル法で作製し、こ
れにエチレングリコール等を添加してペースト状にした
ものをAJlx−Os基板上に塗布した。この試料を9
00〜950℃で10〜30分加熱処理して超伝導薄膜
を作製した。一般に、高温下でAIL203基板はys
z基板に比べて超伝導材料との反応性がやや激しい傾向
にあるため、加熱条件は出発組成に依存し、少し低い温
度にする必要があるが、今までの実施例同様、C軸配向
膜が、Cuが多くYが少ない出発組成材料から得られた
。従って、C軸配向膜を作製する場合、特にこの基板で
なくてはいけないという基板選択性は基本的にはないも
のと考えられる。
もちろん、基板と超伝導材料との高温下での反応性は基
板の種類により異なるため、例えばゾルゲル法によって
基板上にCuOやY2O3,Zr(h等の保X■膜を形
成し、その保護膜の上にC@配向膜を形成することも可
能であることが本発明者らの実験により確認されている
[発明の効果] 以上説明したように、Cu>50モル%、Ln< 18
.6モル%の組成を有するLn (1種以上の希土類元
素)−アルカリ土金属−Cu系を基体表面に塗布し加熱
処理することにより、c!I!lll配向した超伝導膜
を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はYSZ基板上にC軸配向したY−Ba−Cu−
0系サンプルのXM回折を示す図、 第2図はそのサンプルの抵抗の温度変化を示す図、 第3図は高温処理した時の組成の変動を示す図、 第4図は高温処理時間によって配向度が変化する様子を
(OOa)ピーク値の変化で示した図、第5図は配向す
るゾルゲル法による出発材料の組成を示した3元素状態
図、 第6図は配向度が小さいサンプルのx6回折図、 第7図は市販粉末原料を用いた場合の出発材料の組成と
配向の様子を示した3元素状態図、第8図はC軸配向し
たNd−Ba−Cu−0系サンプルのX線回折を示す図
、 第9図はC軸配向したY−Nd−Ba−Cu−0系サン
プルのX線回折を示す図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Ln−Ae−Cu−O系(但しLnは希土類元素
    の少なくとも1種、Aeはラジウムを除くアルカリ土金
    属の少なくとも1種)超伝導酸化物薄膜の製造方法にお
    いて、Ln、AeおよびCuをLn/(Ln+Ae+C
    u)<16.6モル%、Cu/(Ln+Ae+Cu)>
    50モル%、残部Aeの組成比で含む微粒子を含有する
    ペーストを基体上に塗布する工程を含むことを特徴とす
    る超伝導酸化物薄膜の製造方法。
JP63025605A 1987-06-17 1988-02-08 超伝導酸化物薄膜の製造方法 Pending JPH01203217A (ja)

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JP63025605A JPH01203217A (ja) 1988-02-08 1988-02-08 超伝導酸化物薄膜の製造方法
PCT/JP1988/000585 WO1988010233A1 (en) 1987-06-17 1988-06-16 Process for producing oxide powder and oxide superconductor
DE3854400T DE3854400T3 (de) 1987-06-17 1988-06-16 Verfahren zur herstellung von supraleitenden oxyden.
EP19930117398 EP0587198A1 (en) 1987-06-17 1988-06-16 Layered superconducting oxide structure
US07/313,965 US5294599A (en) 1987-06-17 1988-06-16 Processes for preparing oxide powders and superconducting oxides
EP88905427A EP0486686B2 (en) 1987-06-17 1988-06-16 Process for producing oxide superconductors

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01275426A (ja) * 1988-04-27 1989-11-06 Kyocera Corp 酸化物超電導体及びその製法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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