JPH01199308A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH01199308A JPH01199308A JP63021957A JP2195788A JPH01199308A JP H01199308 A JPH01199308 A JP H01199308A JP 63021957 A JP63021957 A JP 63021957A JP 2195788 A JP2195788 A JP 2195788A JP H01199308 A JPH01199308 A JP H01199308A
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- 239000002887 superconductor Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 8
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005094 computer simulation Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005347 demagnetization Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 230000004886 head movement Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
- G11B5/11—Shielding of head against electric or magnetic fields
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は磁気記憶装置の磁気ヘッドに係り、特に高密度
記録に良好な磁気ヘッドに関する。
記録に良好な磁気ヘッドに関する。
[従来の技術]
従来の超電導体を用いた磁気ヘッドは、特開昭57−1
20221および60−154315に記載されている
ように、第2図に示す通り、ヘッドギャップ部にのみ超
電導体が用いられていた。
20221および60−154315に記載されている
ように、第2図に示す通り、ヘッドギャップ部にのみ超
電導体が用いられていた。
[発明が解決しようとする問題点]
従来技術では、超電導体のマイスナー効果によって記録
磁界が強くなるものの、鋭い磁界は得られず、かえって
磁界分布が広がってしまうこともあり、高密度記録の面
では問題があった。
磁界が強くなるものの、鋭い磁界は得られず、かえって
磁界分布が広がってしまうこともあり、高密度記録の面
では問題があった。
本発明の目的は、記録磁界の強いかつ鋭い磁気ヘッドを
提供することにある。更に、起磁力に依らずに磁路を制
御することにより、記録及び再生のそれぞれに適したギ
ャップ長に可変して、記録及び再生性能の良好な磁気ヘ
ッドを提供することにある。
提供することにある。更に、起磁力に依らずに磁路を制
御することにより、記録及び再生のそれぞれに適したギ
ャップ長に可変して、記録及び再生性能の良好な磁気ヘ
ッドを提供することにある。
[課題を解決するための手段]
上記目的は、超電導体をヘッドコアのギャップ部のみで
はなくコア周辺もおおうことにより達成される。また、
リング型ヘッドではそのギャップ部を超電導材で形成し
、かつ該ギャップ部後端磁性属端部を超電導材で被覆す
ることにより達成される。更に磁気ヘッドの磁性体のギ
ャップ内面に超伝導体層を介して磁性体層を付着し、超
伝導体層に電流を流すための手段を備えることにより、
達成される。
はなくコア周辺もおおうことにより達成される。また、
リング型ヘッドではそのギャップ部を超電導材で形成し
、かつ該ギャップ部後端磁性属端部を超電導材で被覆す
ることにより達成される。更に磁気ヘッドの磁性体のギ
ャップ内面に超伝導体層を介して磁性体層を付着し、超
伝導体層に電流を流すための手段を備えることにより、
達成される。
[作用コ
超電導体により磁気へラドコアの周辺をおおうことによ
り、コア外側へのもれ磁界を抑えることができ、鋭い記
録磁界を得ることができる。
り、コア外側へのもれ磁界を抑えることができ、鋭い記
録磁界を得ることができる。
超電導材は磁気シールド作用が有るので、これをリング
ヘッドのギャップ形成に用い、かつギャップ部後端磁性
属端部を超電導材で被覆すれば、磁界分布が急峻になる
。
ヘッドのギャップ形成に用い、かつギャップ部後端磁性
属端部を超電導材で被覆すれば、磁界分布が急峻になる
。
また、第7図のように超低4体22に電流を流さない場
合、超伝導体22は超伝導状態にあり、その完全反磁性
のため磁性体21′は磁性体21と磁気的に無関係とな
り、この場合のギャップ長は図中5で示した長さになる
。このギャップ長を記録ギャップ長gewとする。また
、超伝導体22に電流を流し、超伝導体22を常伝導状
態にした場合、完全反磁性は破れ磁性体21′は磁性体
21′と磁気的に結合する。この場合のギャップ長は図
中24で示した長さになり、これを再生ギャップ長ge
nとする。記録ギャップ長gewと再生ギャップ長ge
Rは、それぞれ記録と再生に適する値になるように形成
しておく。それによって、記録時には超伝導体2に電流
を流さず、再生時には超伝導体2に電流を流すことによ
り、記録あるいは再生に適当なギャップ長を用いて記録
あるいは再生を行なうことができるようになり、記録及
び再生の能力を有効に引き出すことができる。
合、超伝導体22は超伝導状態にあり、その完全反磁性
のため磁性体21′は磁性体21と磁気的に無関係とな
り、この場合のギャップ長は図中5で示した長さになる
。このギャップ長を記録ギャップ長gewとする。また
、超伝導体22に電流を流し、超伝導体22を常伝導状
態にした場合、完全反磁性は破れ磁性体21′は磁性体
21′と磁気的に結合する。この場合のギャップ長は図
中24で示した長さになり、これを再生ギャップ長ge
nとする。記録ギャップ長gewと再生ギャップ長ge
Rは、それぞれ記録と再生に適する値になるように形成
しておく。それによって、記録時には超伝導体2に電流
を流さず、再生時には超伝導体2に電流を流すことによ
り、記録あるいは再生に適当なギャップ長を用いて記録
あるいは再生を行なうことができるようになり、記録及
び再生の能力を有効に引き出すことができる。
[実施例]
第1図は本発明の磁気ヘッドを示しており、磁気へラド
コア6のギャップ部に超電導体1がはさまれており、ま
た周辺は超電導体2,3によりおおわれている。ヘッド
に発生する磁束9は、超電導体のマイスナ効果により、
ギャップ間にもれることもなく、また周辺にもれ広がる
こともないために、鋭く強い記録磁界がヘッド先端から
発生する。ここで、超電導体1はギャップ部のみでなく
コア内部全面におおうことも容易に類推可能でありコア
内部のもれ磁束も抑えることが可能である。
コア6のギャップ部に超電導体1がはさまれており、ま
た周辺は超電導体2,3によりおおわれている。ヘッド
に発生する磁束9は、超電導体のマイスナ効果により、
ギャップ間にもれることもなく、また周辺にもれ広がる
こともないために、鋭く強い記録磁界がヘッド先端から
発生する。ここで、超電導体1はギャップ部のみでなく
コア内部全面におおうことも容易に類推可能でありコア
内部のもれ磁束も抑えることが可能である。
また、コア周辺の超電導体2,3もコア外側全面にわた
りおおうことができる。
りおおうことができる。
第3図は本発明の他の実施例を示しており、特に薄膜技
術で磁性体を形成する薄膜ヘッドに対する実施例を示し
ている。構造は第1項と同様であり、磁気へラドコア7
,8のギャップ部および周辺に超電導体1,2.3を設
けることにより第1図と同様の結果が得られる。薄膜ヘ
ッドでは薄膜技術により超電導体と磁性体コアとを連結
的に形成できるため、製造工程上非常に簡単であり、現
在の製造プロセスをほとんど変更せずに本発明を適用で
きる利点を有する。
術で磁性体を形成する薄膜ヘッドに対する実施例を示し
ている。構造は第1項と同様であり、磁気へラドコア7
,8のギャップ部および周辺に超電導体1,2.3を設
けることにより第1図と同様の結果が得られる。薄膜ヘ
ッドでは薄膜技術により超電導体と磁性体コアとを連結
的に形成できるため、製造工程上非常に簡単であり、現
在の製造プロセスをほとんど変更せずに本発明を適用で
きる利点を有する。
第4図は本発明の他の実施例を示しており、ヘッドの先
端の方から見た斜視図である。超電導体1.2.3によ
り第1図および第3図と同様の効果が得られる。すなわ
ち、記録ビット長方向に鋭く強い記録磁界を発生するこ
とができビット密度を向上できる。超電導体4,5は、
磁気ヘッドのトラック幅方向のもれ磁界を抑えるために
、ヘッド先端部に設けである。これにより、隣接トラッ
ク間の影響を軽減でき、トラック密度を上げることが可
能となる。トラック幅方向のもれ磁界を抑える手法とし
て、第1図、第3図に示したと方式と同様にキャップ近
傍ポール側面にヘッド移動方向と平行に付着する方法も
ある。
端の方から見た斜視図である。超電導体1.2.3によ
り第1図および第3図と同様の効果が得られる。すなわ
ち、記録ビット長方向に鋭く強い記録磁界を発生するこ
とができビット密度を向上できる。超電導体4,5は、
磁気ヘッドのトラック幅方向のもれ磁界を抑えるために
、ヘッド先端部に設けである。これにより、隣接トラッ
ク間の影響を軽減でき、トラック密度を上げることが可
能となる。トラック幅方向のもれ磁界を抑える手法とし
て、第1図、第3図に示したと方式と同様にキャップ近
傍ポール側面にヘッド移動方向と平行に付着する方法も
ある。
本発明の他の実施例を第5図により説明する。
第5図はリジッドディスク用リング型薄膜ヘッドである
。該ヘッドは下部磁性層11.ギャップ層12、上部磁
性層13.最上部磁性WJ14.コイル15.保護膜1
6より構成する。このうち、ギャップ層12.最上部磁
性層14は超電導材を用いる。
。該ヘッドは下部磁性層11.ギャップ層12、上部磁
性層13.最上部磁性WJ14.コイル15.保護膜1
6より構成する。このうち、ギャップ層12.最上部磁
性層14は超電導材を用いる。
第6図は本実施例における長手方向磁界成分Hxの分布
18を計算機シミュレーション法で求めた結果とギャッ
プN2.最上部磁性層6をSiO□を用いて形成した従
来型リングヘッドの長手方向磁界成分Hxの分布19を
同手法で求めた結果を比較したグラフである。たて軸は
規格化して示す。
18を計算機シミュレーション法で求めた結果とギャッ
プN2.最上部磁性層6をSiO□を用いて形成した従
来型リングヘッドの長手方向磁界成分Hxの分布19を
同手法で求めた結果を比較したグラフである。たて軸は
規格化して示す。
本実施例によればギャップ暦2.最上部磁性層4が磁気
シールドとして働くので記録磁界分布が急峻になり、こ
れにより記録減磁が緩和されるので高密度域までの記録
が可能となる。また、ギャップ層2の磁気シールド効果
により上部磁性層3と下部磁性層1間の磁束漏れが無く
なるので記録再生効率が上昇し、再生出力が上昇する。
シールドとして働くので記録磁界分布が急峻になり、こ
れにより記録減磁が緩和されるので高密度域までの記録
が可能となる。また、ギャップ層2の磁気シールド効果
により上部磁性層3と下部磁性層1間の磁束漏れが無く
なるので記録再生効率が上昇し、再生出力が上昇する。
本発明の磁気ヘッドを浮動磁気ヘッドに適用した場合の
他の実施例について、以下に説明する。
他の実施例について、以下に説明する。
第8図は本実施例を示す概略図であって、図(a)は斜
視図、図(b)はギャップ部を通る断面図、図(e)は
コア側からみた正面図である。まず。
視図、図(b)はギャップ部を通る断面図、図(e)は
コア側からみた正面図である。まず。
スライダ7のコア38の側の面に、超伝導体39を付着
する。スライダ37は磁性体とするか、あるいは、スラ
イダ38の後面に磁性体を付着しておく。この磁性体が
導電性の大きい場合には、超伝導体39と5i02など
の絶縁層により絶縁する。
する。スライダ37は磁性体とするか、あるいは、スラ
イダ38の後面に磁性体を付着しておく。この磁性体が
導電性の大きい場合には、超伝導体39と5i02など
の絶縁層により絶縁する。
次に、超伝導体39の上にNiFe合金などの磁性体3
10を付着する。磁性体310が導電性の大きい場合に
は、上記と同様に超伝導体39と絶縁層により絶縁する
。更に、コア38をガラスボンディングなどにより接着
する。コア38には、電磁変換用のコイル11を形成す
る。超伝導体39からは引き出しllA32を引き出し
、超伝導と常伝導状態間で遷移させるための制御電流を
印加できるようにする。
10を付着する。磁性体310が導電性の大きい場合に
は、上記と同様に超伝導体39と絶縁層により絶縁する
。更に、コア38をガラスボンディングなどにより接着
する。コア38には、電磁変換用のコイル11を形成す
る。超伝導体39からは引き出しllA32を引き出し
、超伝導と常伝導状態間で遷移させるための制御電流を
印加できるようにする。
例えば超伝導体39の膜厚を0.08μmとし、その両
面を膜厚0.01μmのSiO2により絶縁し、磁性体
310を膜厚0.2.pmのNiFe合金とする。さら
に、0.3μmのギャップ長が形成されるようにコア3
8を接着する。この場合、記録ギャップ長はgew”0
.6μm、再生ギャップ長はgeR=o−3μmとする
ことができる。
面を膜厚0.01μmのSiO2により絶縁し、磁性体
310を膜厚0.2.pmのNiFe合金とする。さら
に、0.3μmのギャップ長が形成されるようにコア3
8を接着する。この場合、記録ギャップ長はgew”0
.6μm、再生ギャップ長はgeR=o−3μmとする
ことができる。
また、超伝導体9を流れる電流密度として、100A/
mが必要としても、制御電流としては1μ八へ度あれば
良く、微小電流で制御可能である。
mが必要としても、制御電流としては1μ八へ度あれば
良く、微小電流で制御可能である。
上記実施例において、磁性体10の膜厚は任意に選ぶこ
とができるため、記録ギャップ長g e wと再生ギャ
ップ長geRは広い範囲で選ぶことが可能である。
とができるため、記録ギャップ長g e wと再生ギャ
ップ長geRは広い範囲で選ぶことが可能である。
[発明の効果コ
本発明によれば、磁気ヘッドからの記録磁界を強くかつ
鋭くすることができるので、ビット密度、トラック密度
ともに向上することが可能となり、より高記録密度を達
成できる。
鋭くすることができるので、ビット密度、トラック密度
ともに向上することが可能となり、より高記録密度を達
成できる。
第1図は本発明の一実施例を示す図。第2図は従来例の
磁気ヘッドを示す図。第3図および第4とS)と 図は本発明の他の実施例を示す?4図はヘッドの先端の
方から見た斜視図である。第5図は本発明の他の実施例
を示す図、第6図は第5図に示した実施例の効果を示す
図である。第7図は本発明の磁気ヘッドの構成を示す図
、第8図は本発明の一実施例を示す概略図であって、(
a)は斜視図(b)はギャップ部の断面図、(c)はス
ライダ後方からの正面図である。 1.2,3,4.5・・・超電導体、6,7.8・・・
磁気へラドコア、9・・・磁束、11・・・下部磁性層
、12・・・ギャップ層、13・・・上部磁性層、14
・・・最上部磁性層、15・・・コイル、21.21’
、20・・・磁性体、22.29・・・超伝導体、3
3.31・・・コイル、34・・・再生ギャップ、35
・・・記録ギャップ、36・・・記録再生ギャップ、3
7・・・スライダ。 38・・・コア。 策ノ韻 箪2回乙、2)肩1ト
ヘッ1゛′コア f 線束 準5(社) 1〆側 17扉
磁気ヘッドを示す図。第3図および第4とS)と 図は本発明の他の実施例を示す?4図はヘッドの先端の
方から見た斜視図である。第5図は本発明の他の実施例
を示す図、第6図は第5図に示した実施例の効果を示す
図である。第7図は本発明の磁気ヘッドの構成を示す図
、第8図は本発明の一実施例を示す概略図であって、(
a)は斜視図(b)はギャップ部の断面図、(c)はス
ライダ後方からの正面図である。 1.2,3,4.5・・・超電導体、6,7.8・・・
磁気へラドコア、9・・・磁束、11・・・下部磁性層
、12・・・ギャップ層、13・・・上部磁性層、14
・・・最上部磁性層、15・・・コイル、21.21’
、20・・・磁性体、22.29・・・超伝導体、3
3.31・・・コイル、34・・・再生ギャップ、35
・・・記録ギャップ、36・・・記録再生ギャップ、3
7・・・スライダ。 38・・・コア。 策ノ韻 箪2回乙、2)肩1ト
ヘッ1゛′コア f 線束 準5(社) 1〆側 17扉
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、磁性体で形成された磁気コアのギャップ部分および
、磁気コアの周囲を超電導体でおおうことを特徴とする
磁気ヘッド。 2、磁気ギャップを超電導材で形成し、かつ該磁気ギャ
ップ後端磁性属端部を超電導材で被覆したことを特徴と
する磁気ヘッド。 3、ギャップを介して接合された磁気コアとコイルから
なる磁気ヘッドにおいて、磁気コアの2つのギャップ内
面の少なくとも一方の面に超伝導体層を介して磁性層を
付着し、前記超伝導体層に電流を流すための手段を具備
していることを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63021957A JPH01199308A (ja) | 1988-02-03 | 1988-02-03 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63021957A JPH01199308A (ja) | 1988-02-03 | 1988-02-03 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01199308A true JPH01199308A (ja) | 1989-08-10 |
Family
ID=12069546
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63021957A Pending JPH01199308A (ja) | 1988-02-03 | 1988-02-03 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01199308A (ja) |
-
1988
- 1988-02-03 JP JP63021957A patent/JPH01199308A/ja active Pending
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