JPH01199180A - 磁気センサの形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ この発明は、主に角度や位置の検出装置として使用され
るスピードセンサ、磁気エンコーダ等に用いられる磁気
センサの形成方法に関する。

［従来の技術］ 磁気エンコーダは、微小距離を隔てて対向する平板部材
の一方の対向面に磁気マークを付与し、他方の対向面に
この磁気マークの磁気を検知する感磁部を形成して、両
者が相対移動したときに上記感磁部の検出値から移動量
を算出して位置を検知するようにしている。

第１図は、上記感磁部の一例の平面図であり、ガラス等
からなる基板ｉ上に、磁気によって抵抗値が変化する磁
気抵抗効果合金、例えばパーマロイから成る磁気抵抗素
子２と、電極３とがパターン形成されている。そして、
これらの磁気抵抗索子２は、Ｃｒ−Ｃｕからなる導電膜
３ａｌこより、第２図に示すように連絡されてブリッジ
を形成しており、電極３を通してブリッジの不平衡出力
を検知するコンパレータ４及び電源とに接続されている
。

ところで、これらの磁気抵抗素子２のパターンは、不要
箇所をマスキングして蒸着やスパッタリング等を行うか
、あるいは逆に、基板ｌの全体に被膜形成した後に必要
部をマスキングして電解などを行って不要部を除去する
か、全体に被膜形成した後にレーザビームなどにより不
要部を除去するようにして形成している。しかし、いず
れの場合でも磁気抵抗素子のパターンの幅や厚さを所定
の値にする、または全体的に均一にすることは困難であ
り、従って、ブリッジを構成する抵抗にばらつきが生じ
る。そこで、バランス調整用抵抗素子５（磁気抵抗素子
と同一の素材からなっている）を基板ｌ上に被膜形成し
ている。これは、第３図に示すように、２列の磁気抵抗
素子帯６の間にＣｒ−Ｃｕの層からなる導通部７を複数
架設したものである。

以下、このような磁気センサを形成する方法について第
４図を参照して述べると、まず、ガラス基板ｌ上にパー
マロイなどを蒸着した後エツチングをして磁気抵抗効果
合金の被膜１１を形成する（同図ａ）。次に、この被膜
１１の所要箇所をマスキングしてエツチングを施し、磁
気抵抗素子２及び調整用抵抗素子５の磁気抵抗素子帯６
のパターンを形成する（同図ｂ）。次に、クロム１２と
銅１３を順次スパッタリングしく同図Ｃ）、所要箇所の
みを残してエツチングして電極３及び導通部７を形成し
く同図ｄ）、Ｓ　ｔｏ　ｔをスパッタリングして全体に
保護膜１４を形成する（同図ｅ）。そして、電極３の表
面の所定箇所をエツチングして露出さ仕、接続用の端子
とする（同図ｆ）。次に、これらの端子を電源及びコン
パレータ４に接続し、所定の条件のもとにおいてその出
力がゼロとなるように調整用抵抗素子５の値を変化させ
る。この工程は、レーザビームを調整用抵抗素子５に照
射して、第３図に仮想線で示すように導通部６をその中
央線に沿って分断しく第４図ｇ）、抵抗値を微小値づつ
上昇させることによって達成される。

このようにして抵抗値の調整が終了した後、基板ｌ全面
を適当な材質、例えばポリイミドなどの保護用樹脂１５
で被覆し、次に端子とすべき電極３の上の部分をエツチ
ングして露出させて（同図ｈ）磁気センサの形成が終了
する。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記のような従来の技術においては、５
ｉｎｓ保護膜１４の上からレーザビームを照射するため
に、保護膜１４にクラックが発生しやすく、使用過程で
保護膜１４の剥離を生じるなどの難点があった。また、
保護膜１４を除去するためにレーザビームの出力を大き
く設定する必要があり、このために、保護膜１４だけで
なく、抵抗素子帯６や基板１にダメージを与えることが
あった。この発明は、信頼性の高い磁気センサを製造す
ることができる磁気センサの形成方法を提供することを
目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 上記のような課題を解決するために、この発明は、電極
端子部を露出させるために保護膜のエツチングを行うと
きに同時に調整用抵抗素子のトリミング箇所の保護膜を
除去し、該当箇所を露出させた状態で調整用抵抗素子を
レーザビームによりトリミングしてブリッジのバランス
調整を行うようにしたものである。

［作用］ このような磁気センサの形成方法においては、調整用抵
抗素子の導通部に直接レーザビームを照射するので、保
護膜にクラックや熱歪みなどの影響を与えることが少な
い。また、レーザビームの照射出力を大きく設定するこ
とが不要であり、抵抗膜や基板にダメージを与えること
が防がれる。

さらに、５ｉｎｓ保護膜の除去は、電極端子部のエツチ
ングを行うときに同時に行えばよいので、新たな工程を
導入する必要がなく、製造コストが上昇することもない
。

［実施例］ 以下、図面を参照してこの発明の詳細な説明する。なお
、第１図の平面図、第２図の回路図、第３図、第４図ｇ
ないしｅｌ及びその説明については、従来と同様である
ので、符号を同一としてそのまま発明の詳細な説明に用
いることとする。

第４図ｅの工程、すなわち基板Ｉの全面に５ｉＯ１の保
護膜１４をスパッタリングにより形成した後、従来では
、同図ｆのように電極３上の保護膜１４のみをエツチン
グして除去していたが、この発明においては、電極３の
上の面とともに、凋整用抵抗素子５の除去予定箇所、す
なわち導通部７の上を同時にエツチングして露出させる
（第５図ａ）。

そして、従来と同様に、これらの電極端子を電源及びコ
ンパレータ４に接続し、レーザビームを調整用抵抗索子
５に照射し、その導通部７を、第１図に仮想線で示すよ
うにその中央線に沿って分断しく第５図ｂ）、所定の条
件のもとにおいてその出力がゼロとなるように抵抗値を
変化させる。

この工程においては、レーザビームを直接調整用抵抗素
子５に照射するので、レーザビームが保護膜１４を破壊
することかなく、保護膜１４にクラックが入ったり、剥
離したりすることが防止される。さらに、レーザビーム
自体の強度を特に大きく設定したりする必要がなく、調
整用抵抗膜６自体を損傷したり、基板ｌを損傷したりす
ることがないので、工程に要する時間が短縮される。

このようにして抵抗値の調整をした後、基板ｌ全面を適
当な材質、例えばポリイミドなどの樹脂１５で被覆し、
次に端子とすべき電極３の上の部分をエツチングして露
出させて（第５図Ｃ）磁気センサの形成が終了する。

［発明の効果］ 以上詳述したように、この発明は、電極端子部を露出さ
せるために保護膜のエツチングを行うときに同時に調整
用抵抗素子のトリミング箇所の保護膜を除去し、該当箇
所を露出させた状態で調整用抵抗素子をトリミングして
ブリッジのバランス調整を行うようにしたものであるの
で、保護膜にクラックや熱歪みなどの影響を与えること
が少なく、また、レーザビームの照射出力を大きく設定
することが不要であり、抵抗膜や基板の損傷を防ぐので
歩留りを高くすることができ、品質の安定した品質の磁
気ヘッド回路を提供することができろとともに、能率の
向上を図ることができ、さらに、抵抗膜の保護膜の除去
は、電極端子部のエツチングを行うときに同時に行えば
よいので、新たな工程を導入する必要がなく、製造コス
トが上昇することもないという優れた効果を奏するもの
である。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明を応用すべき磁気ヘッド回路の一実施
例を示す平面図、第２図はその電気回路図、第３図は調
整用抵抗素子の拡大図、第４図及び第５図は第１図にお
ける■−■矢視図に相当し、第４図は従来の磁気センサ
の形成方法を示す図、第５図はこの発明の形成方法を示
す図である。 ！・・・・・・基板、２・・・・・・磁気抵抗素子、３
・・・・・・電極、５・・・・・・調整用抵抗素子、１
４・・・・・保護膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　ブリッジ接続された複数の磁気抵抗素子及びこのブリ
   ッジの少なくとも一辺に挿入される調整用抵抗素子とを
   基板上に成膜し、これらの抵抗素子上に電極を形成した
   後、基板全面を保護膜により被覆し、上記電極の保護膜
   と、調整用抵抗素子のトリミング該当箇所の保護膜とを
   同時に除去し、調整用抵抗素子をレーザビームによりト
   リミングしてブリッジのバランス調整を行うことを特徴
   とする磁気センサの形成方法。