JPH0119753B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0119753B2
JPH0119753B2 JP59119309A JP11930984A JPH0119753B2 JP H0119753 B2 JPH0119753 B2 JP H0119753B2 JP 59119309 A JP59119309 A JP 59119309A JP 11930984 A JP11930984 A JP 11930984A JP H0119753 B2 JPH0119753 B2 JP H0119753B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heating
sensor
indirect heater
heated
time
Prior art date
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Expired
Application number
JP59119309A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60264085A (ja
Inventor
Shigeki Ueda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP11930984A priority Critical patent/JPS60264085A/ja
Publication of JPS60264085A publication Critical patent/JPS60264085A/ja
Publication of JPH0119753B2 publication Critical patent/JPH0119753B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Control Of Resistance Heating (AREA)
  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
  • Electric Ovens (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はセンサを備えた加熱装置に係り、とり
わけ傍熱ヒータの立上り時の誤動作を防止するた
めの構成に関する。
従来例の構成とその問題点 センサを用いて加熱を自動的に終了させる加熱
装置は、近年広く実用に供されるようになつた。
例えば自動電子レンジなどがこれにあたり、セン
サとしては、傍熱ヒータを備えた気体センサが最
も汎用されている。松下社製の絶対湿度センサ
“ネオ・ヒユミセラム”やフイガロ社製のガスセ
ンサなどが実用化され、これらのセンサは傍熱ヒ
ータによりセンサ・チツプを所定温度に傍熱し、
被加熱物から発生する水蒸気や種々のガスに対し
て所望の検知特性を現出する。
さてこのような傍熱ヒータを備えた気体センサ
では、一般にプラグインと同時に傍熱ヒータへの
通電が始まるが、その立上りには第3図に示すよ
うに数分を要する。このときセンサ・チツプの抵
抗は第4図の如く傍熱ヒータの温度上昇と共に低
下していき、やがて安定する。
一方、センサ抵抗は蒸気あるいはガスによつて
低下する。被加熱物を加熱すると、通常は第5図
Aのように変化し、その変化量ΔRを検出するこ
とで、加熱を自動的に終了させることができる。
このとき加熱時間はT1となる。ところがプラグ
イン直後の十分に傍熱ヒータの温度が立ち上がら
ないうちに加熱を開始すると、第5図Bのように
被加熱物から蒸気やガスの発生のないうちに、ヒ
ータの温度上昇に起因するセンサ抵抗の低下によ
つてΔR以上変化してしまう。従つて見かけ上蒸
気やガスの発生があつたかの如くふるまうため、
時間T2で加熱は誤つて終了し、早切れとなつて
しまう。
このように従来の傍熱ヒータを備えた気体セン
サは、傍熱ヒータが立ち上がらないうちに加熱を
開始されると、被加熱物が温まる前に誤つて加熱
が終了してしまうという問題を有していた。
発明の目的 本発明は上記従来の問題を解消するもので、傍
熱ヒータの立上りに起因する加熱の早切れという
誤動作を防止できる加熱装置を提供することを目
的とする。
発明の構成 上記目的を達成するため、本発明の加熱装置は
傍熱ヒータへの通電が開始されると、センサの特
性を監視し、その時間変化量が所定値以下になる
までは、たとえ加熱の開始が指令されても加熱手
段への給電を保留するよう構成する。このため傍
熱ヒータの立上りによる早切れを防止することが
できる。
実施例の説明 以下、本発明の実施例について図面に基づいて
説明する。
第1図は本発明に係る加熱装置の斜視図であ
る。本体1の前面には開閉自在に扉体2が軸支さ
れ、操作パネル3が具備されている。この操作パ
ネル3上には、センサを用いた自動加熱を行うオ
ートキー4が配される。
第2図は本発明に係るセンサの一例であり、松
下社製のネオ・ヒユミセラムを示す。センサ・チ
ツプ5は感湿特性を有し、傍熱ヒータ6により所
定の温度に傍熱され、所望の検知特性を現出す
る。ベース7はセンサ・チツプ5と傍熱ヒータ6
を支え、防風ネツト8は風の影響を除く。
次にかかる加熱装置の構成を第6図を用いて説
明する。操作パネル3上のオート・キー4から入
力された指令は、制御部9によつて解読される。
そして制御部9はドライバ10を介して加熱手段
たるマグネトロン11に給電を開始する。
加熱室12内には被加熱物13が載置皿14上
に載置され、モータ15により回転駆動されて、
加熱ムラの改善がはかられる。
加熱が進むにつれてやがて被加熱物13から水
蒸気やガスが発生し始める。この水蒸気はフアン
16により、排気ガイド17から機体外に排出さ
れ、ここにセンサ18が配設される。そして検知
回路19を経て、制御部9に接続される。制御部
9はマイコンにより実現できる。
さて第7図は本発明における制御のしかたを示
すチヤートである。A図はセンサ抵抗の時間変化
を示し、B図はマイクロ波の出力状態を示す。両
図において、制御部はプラグイン後傍熱ヒータへ
の通電が開始されれば、センサ抵抗を監視し、そ
の時間変化(Δr/Δt)が所定値以下となる時点
P1まで加熱は遅延される。遅延タイムTDがこれ
にあたり、プラグイン後P1時点が検出されるよ
り前に加熱が開始されると、これが経過するまで
加熱は遅延される。
傍熱ヒータが完全に立ち上がるには10分程度を
要し、これをそのまま遅延タイムとすることは著
しく商品性を低下せしめる。そこで検知レベル
ΔRが大きく影響を受けない程度に遅延タイムは
短縮される。通常1分で飽和温度の95%以上には
達するので、遅延タイムは1分程度でよい。本実
施例ではこれをさらに縮めるため、マスクタイム
TMを導入している。これはマイクロ波は出力す
るが、センサ抵抗を制御部が処理しない期間であ
る。いかに小量の被加熱物でも加熱が完了するに
は、30〜40秒程度を要する。マスクタイムTM
この点に着目したもので、20〜30秒程度ならセン
サの処理をマスクしてマイクロ波を出力しても、
加熱が終了することはないとの観点に立つもので
ある。センサはP2時点から処理され、マスクタ
イムTMの間、処理が中断される。
さてP1時点は通常30秒〜1分程度であるが、
これは雰囲気温度や湿度の影響を受けて変動す
る。また傍熱ヒータの抵抗値バラつきや電圧変動
なども大きく作用する。(Δr/Δt)によりP1点を
検出する本発明は、このようなセンサおよびその
周辺条件の変動に起因する傍熱ヒータの立上り時
間のバラつきの影響を全く受けず、プラグイン直
後の早切れを防止できる。
発明の効果 以上のように本発明によれば次の効果を得るこ
とができる。
(1) プラグイン直後の傍熱ヒータの立上りに起因
する加熱の早切れという誤動作を防止できる。
(2) 雰囲気温度や湿度、傍熱ヒータ抵抗、電圧変
動などの作用で傍熱ヒータの立上り時間が変動
しても、これらの影響を全く受けない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す加熱装置、第
2図は傍熱ヒータを備えたセンサの部分断面図、
第3図はかかるセンサの傍熱ヒータの立上り特性
図、第4図は同センサ抵抗の変化を示す図、第5
図は従来の加熱中のセンサ抵抗の時間変化を示す
図で、Aは通常の、Bはプラグイン直後の加熱を
示す図、第6図は本発明の一実施例を示す加熱装
置の構成を示すブロツク図、第7図A図は同加熱
中のセンサ抵抗の変化を示す図、B図は同マイク
ロ波の出力を示す図である。 5……センサ・チツプ、6……傍熱ヒータ、9
……制御部、11……加熱手段、12……加熱
室、13……被加熱物、18……センサ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 被加熱物を収納する加熱室と、この加熱室に
    結合された加熱手段と、この加熱手段への給電を
    制御する制御部と、被加熱物の加熱状態を検出す
    る傍熱ヒータを備えたセンサとより成り、前記制
    御部は前記傍熱ヒータへの通電が開始されれば前
    記センサの特性を監視し、その単位時間あたりの
    変化量が所定値以下になるまでは加熱が指令され
    ても前記加熱手段への給電を保留するよう構成し
    た加熱装置。
JP11930984A 1984-06-11 1984-06-11 加熱装置 Granted JPS60264085A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11930984A JPS60264085A (ja) 1984-06-11 1984-06-11 加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11930984A JPS60264085A (ja) 1984-06-11 1984-06-11 加熱装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60264085A JPS60264085A (ja) 1985-12-27
JPH0119753B2 true JPH0119753B2 (ja) 1989-04-12

Family

ID=14758237

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11930984A Granted JPS60264085A (ja) 1984-06-11 1984-06-11 加熱装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60264085A (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55124984A (en) * 1979-03-19 1980-09-26 Sharp Kk Cooking device
JPS55143984A (en) * 1979-04-24 1980-11-10 Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd Novel xanthine derivative

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55124984A (en) * 1979-03-19 1980-09-26 Sharp Kk Cooking device
JPS55143984A (en) * 1979-04-24 1980-11-10 Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd Novel xanthine derivative

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60264085A (ja) 1985-12-27

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