JPH01191753A - インジウム含有スクラップの処理方法 - Google Patents

インジウム含有スクラップの処理方法

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JPH01191753A
JPH01191753A JP63015984A JP1598488A JPH01191753A JP H01191753 A JPH01191753 A JP H01191753A JP 63015984 A JP63015984 A JP 63015984A JP 1598488 A JP1598488 A JP 1598488A JP H01191753 A JPH01191753 A JP H01191753A
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JP
Japan
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scrap
indium
chloride
recovered
reaction
Prior art date
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Pending
Application number
JP63015984A
Other languages
English (en)
Inventor
Etsuji Kimura
木村 悦治
Takeshi Sakano
坂野 武
Yutaka Nishiyama
豊 西山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Metal Corp
Original Assignee
Mitsubishi Metal Corp
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Publication date
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20Recycling

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  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、インジウム−リン(In−P)化合物半導体
スクラップなどからインジウムを回収する処理方法に関
する。
[従来技術と問題点コ インジウム−リン化合物半導体を製造する際に、該化合
物単結晶をウニハに切断する工程等において、かなりの
部分がスクラップ化するのを避けることが出来ない。一
方、インジウムはその存在量が少ない希少な元素である
。このため上記スクラップ等からインジウムを回収し、
再利用することが求められ、その回収方法として従来法
の方法が知られている。
(a)熱分解法−一該スクラップを減圧下及び加熱下で
加熱してリンを揮発除去する方法。
(b)酸溶解法−一硫酸、塩酸等により上記スクラップ
を溶解し、不純物の沈澱、イオン交換。
溶媒抽出等の操作によりインジウムを回収する方法。
(C)アルカリ溶解法−一該スクラップをNaOH等に
溶解してインジウムとリンとを分離する方法。
然し乍ら、上記熱分解法(a)は処理工程は簡単である
が、発火性のリンが揮発するため危険であり、またリン
以外の不純物が除去され難い、同様に融溶解法(b)は
溶解時に有毒な自然発火性のホスフィン(PH3)が発
生するので安全性の点で問題が大きい。アルカリ溶解法
(c)は不純物の除去に難点がある5また(b)及び(
c)は湿式法であり1反応時間が長い。
c問題解決の手段] 本発明においては、In−Pスクラップ等を塩素ガスで
処理してインジウム及びリン等を塩化物として分解する
ことにより発火性のリン及びホスフィンを発生させずに
該スクラップを分解し、且つこれら塩化物を蒸留分離す
ることによりインジウムとリン及び他の不純物との分離
効果を高めた。
[発明の構成コ 本発明によれば、インジウムを含有するスクラップを加
熱下で塩素ガスに接触させてインジウム及び他のスクラ
ップ成分を塩素化し、生成した塩化物を蒸留分離して塩
化インジウムを回収するインジウム含有スクラップの処
理方法が提供される。
更に、本発明によれば、塩化インジウムを回収した後に
、該塩化インジウムを金屈逼元して得たスポンジ状イン
ジウムにアルカリフラックスを添加して不純物を除去し
た後に電解精製して高純度インジウムを回収するインジ
ウム含有スクラップの処理方法が提供される。
本発明においては、原料として種々のインジウム含有ス
クラップを用いることができ、特にIn−P化合物半導
体スクラップが好適に用いられる。
原料のスクラップは塩素ガスに曝される。塩素ガスとの
接触面積を大きくするため上記スクラップは粉砕して用
いられる。スクラップ中のインジウム及びリン等は塩素
ガスとの接触により塩化物となり分解する。塩素化反応
の例を次式に示す。
InP+3Cfl、  −−)InCQ、+PCQ。
InP+5/2CI22−4  InCl2.+PCQ
:1fnP+2c12. −−+  rncQ  +P
CQ。
上記塩素ガスとインジウム含有スクラップとの接触は、
約608℃以上、好ましくは約700℃以上の温度下で
行ない、生成した塩化インジウム及び塩化リンを塩素化
と同時に蒸留するのが好ましい。
InCQ、InCM2の沸点は608℃であり、InC
n、は586℃で昇華する。また、PCQ、、PCQ5
の沸点は夫々約75℃、166℃である。上記スクラッ
プを608℃以上の温度下で塩素化することにより、生
成した塩化インジウム及び塩化リンは直ちに蒸発し、上
記スクラップは高温下で直接塩素ガスに曝されるため反
応が速い。608℃以下で塩素化を行なうと、液状のI
nCQ、が上記スクラップを覆うので該スクラップの塩
素化反応が遅くなる。
尚、上記塩素化反応は発熱反応なので反応開始後はあま
り加熱しなくても良い。反応温度が高過ぎると塩化イン
ジウムより高沸点の塩化物が揮発し、インジウムとの分
離が困難になるので好ましくない、またエネルギーコス
トも嵩む。この観点から上記反応温度は608℃〜80
0℃が好ましい。
上記塩素化反応において未反応のリンが残留すると後処
理が不都合となるので、未反応のリン等が残留しないよ
うに塩素ガスをやや通湯に供給するのが好ましい。塩素
ガスをやや過剰に供給することによりインジウム及びリ
ンはそのは大部分がInCQ、、PCQ、となる、尚ス
クラブにスズが含有されている場合、S n CQ 、
 (mp:246℃、bp=623℃)の融点と沸点は
 InCMよと近似しているが、S n CQ 4(m
pニー31℃、bp:114℃)のそれはInCM2及
びInCQ、と大幅に異なるので、この点からも塩素ガ
スをやや過剰に供給してスズを5nCQ4に転換させる
のが良い。
塩素ガスの供給速度は特に限定されず1反応効率、反応
時間等を考慮して適宜穴められる。
上記塩素化反応によりインジウム及びリンと同時にスク
ラップ中に含有されている不純物が塩素化され、塩化イ
ンジウム及び塩化リンと同時に蒸留される。例えば上記
スクラップにガリウム、スズが微小量混在しているとG
 a CQ 、 (bp:535℃)。
G a CQ 3(bp:201℃)、5nCQ2,5
nCf14が夫々生成し、此れ等は何れも608℃以下
の温度で連発する。これら塩化物は塩化インジウムおよ
び塩化リンと共にコンデンサーに送られ、凝縮分離され
る。
回収された粗塩化インジウムは、その大部分がIn(,
12,であり一部工nCQ2を含有する。該粗塩化イン
ジウムは亜鉛による金属還元など既知の方法により還元
され、金属インジウムとして回収される。例えば、回収
した粗塩化インジウムを水に溶解し、水酸化ナトリウム
を添加して溶液のpHを1に調整した後に亜鉛板を投入
しセメンチージョンを行なう。塩化インジウムは亜鉛に
より還元されて亜鉛板表面にスポンジ状の金属が析出す
る。
該金属インジウムを回収し乾燥した後に水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムを添加して溶融し不純物を除去した
後に電解精製することにより高純度の金属インジウムを
得ることが出来る。
[発明の効果] 本発明の方法は、従来法のような発火性のリンや有毒な
ホスフィンが発生せず、安全である。
本発明は乾式法であり、従来の湿式法に比較して反応時
間が短い利点を有する。また塩化物の蒸留および凝縮分
離工程において大部分の不純物が除去されるので、還元
工程を経て極めて高純度の金属インジウムを製造するこ
とが出来る。
〔実施例コ 実施例 1 図示するように、石英製反応容器1の外周に加熱手段2
を有し、該容器底部に貯溜部3が形成される一方、反応
容器上部に低温部4が形成され。
反応容器内部の原料を載置するネット5の下方に塩素ガ
スの供給管路6が接続し、容器頂部にコンデンサー7を
経て捕集器8が接続する装置を用い、容器内部のネット
の上に、 50gのインジウム−リン化合物スクラップ
(I nニア9.5%、 P:19.77%、  Sn
:0.48%1重量%)を粉砕して装入し、反応容器内
部を700℃に加熱して、塩素ガスを20On+1/分
の速度で110分間導入した。塩素化反応が進むにつれ
て内部温度が上昇するので、塩素化反応の進行中、加熱
手段2を調整し反応容器1の温度を700℃に維持し、
低温部4の温度を300℃に維持した。
塩素ガスを供給すると塩化インジウムの一部。
例えば液状のInCQ、がネット5から滴下し、滴下す
る間にさらに塩素ガスに接触して粉末状のInCQ、と
なって貯溜部4に堆積する。一方1gt発したInCQ
2、InCQ、は低温部4を通過する間に大部分のrn
cQ3が凝縮して容器内面に付着する。未凝縮の塩化イ
ンジウムと他の塩化物ガスはコンデンサー7を通過する
間に冷却され。
InCQ2及び工ncQ、が他の塩化物ガスから凝縮分
離されて、捕:S器8に貯溜する。
未凝縮ガスは外部の処理設備に導いた。
上記塩素化反応後、貯溜部3、低温部4.捕集器8から
夫々回収した凝縮物を水に溶解し、成分と含有量を調べ
たところ、貯溜部3から回収したものはエロが25.9
g、 PがOg、低温部4で回収したものはInが13
.8g、 Pが0.9g、捕集器8から回収したものは
Inが0.2g、 Pが5.8g、 S nが 0.1
gであった。また回収した塩化インジウムを水に溶解す
る際に何れもホスフィンは発生しなかった。
次に、回収した塩化インジウムの全量を水に溶解後、水
酸化ナトリウムを添加し溶液のpHを1に調整した後に
アルミニウム板を装入して該塩化インジウムを還元し、
スポンジ状の金属インジウムを39.7g回収した。イ
ンジウムの回収率はほぼ100%であった。該スポンジ
状のインジウムを脱水、乾燥後、溶融し、水酸化ナトリ
ウムフラックスを添加して不純物を除去し、99.99
6%のインジウムアノードを得た。その後、該アノード
を用いて電解精製を行ない、6ナイングレードの金属イ
ンジウム34.9gを得た。
実施例 2 実施例1と同一の装置を用い、インジウム−リン化合物
スクラップ(I n:66.98%、P:17.25%
、Ga:4.75%、As:2.2%、Sn:0.48
%、 Cu:1.2%、残部AQ20.、重量ぶ)を1
00g装入し、反応容器1の温度を650℃に維持し、
低温部4の温度を300℃に保ち、塩素ガスを200m
 Q /分の速度で反応容器に供給して塩素化反応を行
なわせた。貯溜部3、低温部4及び捕集器8から回収さ
れた凝縮物(A、B、C)の成分と含有量は夫々次の通
りであった。
上記回収物Aを実施例1と同様に処理し、6ナイングレ
ードの金属インジウム41.4gを得た。
上記回収物Bを更に精留して不純物を除去しくIn:1
4.6g、 P:0.015g、 Ga:O,001g
、 As:0.001g)。
その後、実施例1と同様の処理工程を経て、6ナイング
レードの金属インジウム13.0gを得た。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の実施例に用いた装置構成の概略図である。  図面中、1−反応容器、2−加熱手段。 3−貯溜部、4−低温部、5−ネット、6−塩素ガス供
給管路、7−コンデンサー、8−捕集器。 特許出頭人   三菱金属株式会社 代理人 弁理士 松井政広 他1名

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)インジウムを含有するスクラップを加熱下で塩素
    ガスに接触させてインジウム及び他のスクラップ成分を
    塩素化し、生成した塩化物を蒸留分離して塩化インジウ
    ムを回収するインジウム含有スクラップの処理方法。
  2. (2)上記スクラップを塩化インジウムの沸点以上の温
    度で塩素ガスと接触させ、塩素化と同時に蒸留を行なう
    第1請求項の処理方法。
  3. (3)第1請求項の方法により塩化インジウムを回収し
    た後に、該塩化インジウムを金属還元して得たスポンジ
    状インジウムにアルカリフラックスを添加して不純物を
    除去した後に電解精製して高純度インジウムを回収する
    インジウム含有スクラップの処理方法。
JP63015984A 1988-01-28 1988-01-28 インジウム含有スクラップの処理方法 Pending JPH01191753A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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