JPH01191439A - ハンドリング装置 - Google Patents

ハンドリング装置

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JPH01191439A
JPH01191439A JP63014434A JP1443488A JPH01191439A JP H01191439 A JPH01191439 A JP H01191439A JP 63014434 A JP63014434 A JP 63014434A JP 1443488 A JP1443488 A JP 1443488A JP H01191439 A JPH01191439 A JP H01191439A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
arms
pitch
holding
wafer
jigs
Prior art date
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Pending
Application number
JP63014434A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideaki Kawashima
川島 英顕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63014434A priority Critical patent/JPH01191439A/ja
Publication of JPH01191439A publication Critical patent/JPH01191439A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、収容される物体間のピッチ間隔の異なる治具
間への移載を容易に実現することのできる物体のハンド
リング装置に関する。
〔従来の技術〕
従来、半導体ウェハ(以下、単にウェハという)を収容
する収容治具の規格によって収容ピッチ間隔の異なるも
のが多かった。このようなピッチ間隔の異なる収容治具
間でウェハのハンドリングを行うためには、人手により
1枚ずつウェハを移し換える面倒な作業が伴っていた。
この点を解決する一手段として、実公昭62−1804
0号において、ウェハのピッチ変換技術が提案されてい
る。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、上記公報に記載された技術においては、任意
の変換ピッチ間隔の設定が一応は可能であるものの、単
一の装置で変換率を順次自動変更する場合については配
慮されておらず、変換率の異なる多品種のウェハのハン
ドリングを順次行う場合には、人手によって変換率を設
定し直すか、あるいはそれぞれ変換率を固定した複数の
装置を用いざるを得なかった。
本発明は、上記問題点に着目してなされたものであり、
その目的はピッチ間隔の変換率を任意の値で即時に変更
可能なハンドリング技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
〔課題を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、各アーム部を互いに両端部と中心部とにおい
て枢軸で連結したパンタグラフ状の伸縮機構とし、この
伸縮機構の所定間隔毎に物体を保持する複数の保持治具
を備えた構造とするものである。
〔作用〕
上記した手段によれば、伸縮機構の伸縮距離に比例して
保持治具間のピッチ間隔も変更されるため、簡易な構造
で変換率の異なる複数のピッチ間隔を即時に実現でき、
多種規格の物体のハンドリングを効率的に実現すること
ができる。
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例であるノ1ンドリング装置の
ピッチ変更機構の概略を示す機構図、第2図(a)〜(
社)はそれぞれ本実施例のハンドリング装置によるハン
ドリング手順を順次示す説明図である。
本実施例のハンドリング装置1は、たとえば収容ピッチ
間隔の異なる第1の収容治具Aから第2の収容治具B、
あるいは第2の収容治具Bから第1の収容治具Aへのウ
ェハ2の移載を行うものである。
上記第1および第2の各収容治具A、Bは、装置本体1
aの上面において、第2図の左右方向に移動可能なステ
ージ3上の両端近傍に並列に載置されており、この間に
は装置本体1aに固定されたハンドリングへラド4が設
けられている。
上記ハンドリングへラド4の下方には装置本体1aより
上下動可能なブツシャ5が突出されており、ステージ3
をいずれかの一端側に移動させた状態で、各収容治具A
、B内のウェハ2を上下動可能な構造としている。
上記ハンドリングへラド4の内部には第1図で示すよう
なハンドリング機構が設けられている。
そこで、このハンドリング機構について以下に詳説する
すなわち、ハンドリング機構は複数本のアーム6が組合
わされて構成されており、各アーム6は互いにその中心
と両端とを枢軸7によって連結されたパンタグラフ状に
形成されている。第1図において、上記アーム6の下方
端部にはウェハ2の保持治具8が吊設されており、該保
持治具8によってウェハ2は、その幅方向から周縁部を
保持される構造となっている。また、上記アーム6の一
端は装置本体1aに対して固定されており、他端側はス
テップモータ10等の回転駆動源の回転により軸方向へ
の移動が可能なナツト11に固定されている。したがっ
て、アーム6の全長しは、上記ステップモータ10の回
転制御によって変更可能であり、これに伴ってアーム6
に吊設された保持治具8間のピッチ間隔Pも任意に変更
可能である。なお、上記ステップモータ10等の作動制
御は上記ステージ3の作動制御とともに、制御部12に
よって行われている。
次に、本実施例の作用について第2図(a)〜(社)を
用いて説明する。
以下の説明では、第1の収容治具Aから第2の収容治具
Bへのウェハ2の移載を行う場合について説明する。
まず、第2図(a)において、そのステージ3の右端に
ウェハ2の収容された第1の収容治具Aが載置され、左
端に空の状態の第2の収容治具Bが載置されると、第1
図に示す制御部12の制御によってステップモータ10
が所定潰回転されて、ピッチ間隔Pを第1の収容治具A
内のウェハ2の収容ピッチ間隔P、と一致させる。この
ような制御量は、あらかじめ制御部12内にプログラム
しておくことも可能である。
次に、ステージ3が移動されて、第1の収容治具Aがハ
ンドリングヘッド4の直下に位置される(第2図う))
。この状態で装置本体1aよりブッシャ5が上方に突出
移動されて収容治具A内のウェハ2が所定の高さ位置ま
で上昇される(第2図(C))。次に、保持治具8が各
ウェハ2の周縁方向よりウェハ2を保持すると、上記ブ
ツシャ5が下降されて、ウェハ2はハンドリングヘッド
4側に保持された状態となる(第2図(ω)。
その後、ステージ3が第2図の右方向に移動され、今度
は空状態の第2の収容治具Bがハンドリングへラド4の
直下に位置される(第2図(e))。
このステージ3の移動の間、ハンドリングヘッド4にお
いては、第1図の制御部12の制御により、ステップモ
ータIDが所定1回転され、そのピッチ間@Pを第2の
収容治具Bの収容ピッチ間隔P2 と一致させる。この
ような制御14Mについても、上記と同様に制御部12
内にプログラム可能である。
ハンドリングへラド4の直下に空の第2の収容治具Bが
位置されると、再度ブツシャ5が上昇される。ブツシャ
5の上昇が所定の高さ位置に達すると、保持治具8によ
るウェハ2の保持が解除され、これにともない、各ウェ
ハ2は上記ブツシャ5上に移される(第2図(f))。
このように上部にウェハ2を載置した状態でブツシャ5
が下降されることにより、各ウェハ2は第2の収容治具
B内にそれぞれのピッチ間隔P。
で収容されるとく第2図((至))、再度ステージ3が
移動されて1サイクルのハンドリング工程を完了する。
以上のように、異なるピッチ間隔P、、P、を有する収
容治具A、B間におけるウェハ2のハンドリングに際し
て、本実施例によれば、ステップモータ10の回転制御
により任意のピッチ間隔Pを即時に設定可能であるため
、ウェハ2のハンドリングを極めて効率的に行うことが
できる。また、このようなハンドリング機構により、た
とえばP1→P2 のピッチ変換をした後に次の工程サ
イクルでは異なる変換率、例えばP、→P、のピッチ変
換(図示せず)を行うような場合、即時に変換率の変更
を実現でき、単一の装置で汎用性の高いウェハ2のハン
ドリングを実現できる。
このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。
(1)、ウェハ2の保持治具8が吊設されたアーム6を
パンタグラフ状に連結して、該アーム6の一端を固定す
るとともに、他端を伸縮制御可能な構造とすることによ
り、アーム6の全長を伸縮させて保持治具間の所望のピ
ッチ間隔Pを実現できる。
(2)、上記(1)により、収容ピッチ間隔の異なる収
容治具A、B間のウェハ2のハンドリングを極めて効率
的に行うことができる。
(3)、上記(1)により、各ハンドリングサイクルに
おいて変換率が異なる場合であっても、即時に所望のピ
ッチ間隔を実現できるため、単一の機構で汎用性の高い
ウェハ2のハンドリングを実現できる。
(4)、上記(1)により、人手を介することなくピッ
チ間隔の変換率の変更が可能であるため、人体からの塵
埃の排出に起因するウェハの汚染を防止することができ
る。
(5)、上記(1)〜(4)により、ウェハ2のハンド
リングを迅速かつ高清浄に行うことが可能となり、半導
体装置の製造処理効率及び信頼性を高めることができる
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、ウェハ2の保持手段としては、ウェハ2の周
縁部より保持する場合について説明したが、ウェハ2の
主面の一部を真空吸着する等の手段を用いてもよい。ま
た、ハンドリングヘッド4自体が上下動機構を備えたも
のであってもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、いわゆるウェハのハンドリング
技術に適用した場合について説明したが、これに限定さ
れるものではなく、他の物体のハンドリングに際しても
広く適用できる。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
すなわち、各アームを互いに両端部と中心部とにおいて
枢軸で連結したパンタグラフ状の伸縮機構とし、この伸
縮機構の所定間隔毎に物体を保持する複数の保持治具を
備えた構造とすることによって、伸縮機構の伸縮距離に
比例して保持治具間のピッチ間隔を任意に変更可能であ
るため、簡易な構造で変換率の異なる複数のピッチ間隔
を即時に実現でき、ピッチ間隔の異なる収容治具間への
物体の移載を容易に実現することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例であるハンドリング装置のピ
ッチ変更機構の概略を示す機構図、第2図(a)〜(5
)は上記実施例のハンドリング装置による1サイクルの
ハンドリング工程を示す説明図である。 1・・・ハンドリング装置、1a・・・装置本体、2・
・・ウェハ、3・・・ステージ、4・・・ハンドリング
ヘッド、5・・・ブツシャ、6・・・アーム、7・・・
枢軸、8・・・保持治具、10・・・ステップモータ、
11・・・ナツト、12・・・制御部、A・・・第1の
収容治具、B・・・第2の収容治具。 第2

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、各アームが互いに両端部と中心部とにおいて枢軸で
    連結されたパンタグラフ状の伸縮機構を有しており、該
    伸縮機構の所定間隔毎に物体を保持する複数の保持治具
    を備えているとともに、各保持治具間のピッチ間隔が上
    記伸縮機構の伸縮にともなって変更可能であることを特
    徴とするハンドリング装置。 2、上記物体が半導体装置製造用の半導体ウェハであり
    、該半導体ウェハについて収容ピッチ間隔の異なる収容
    治具間への移載を行うものであることを特徴とする請求
    項1記載のハンドリング装置。
JP63014434A 1988-01-27 1988-01-27 ハンドリング装置 Pending JPH01191439A (ja)

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JP63014434A JPH01191439A (ja) 1988-01-27 1988-01-27 ハンドリング装置

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Cited By (4)

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