JPH01167262A - 輻射エネルギー特性を改良したガラスの製造方法及び製品 - Google Patents
輻射エネルギー特性を改良したガラスの製造方法及び製品Info
- Publication number
- JPH01167262A JPH01167262A JP63297994A JP29799488A JPH01167262A JP H01167262 A JPH01167262 A JP H01167262A JP 63297994 A JP63297994 A JP 63297994A JP 29799488 A JP29799488 A JP 29799488A JP H01167262 A JPH01167262 A JP H01167262A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- ions
- energy
- original
- implanted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 67
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title abstract 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000002513 implantation Methods 0.000 claims description 6
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 claims 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 abstract 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 abstract 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- VEUACKUBDLVUAC-UHFFFAOYSA-N [Na].[Ca] Chemical compound [Na].[Ca] VEUACKUBDLVUAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/0055—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by ion implantation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は、輻射エネルギーの透過及び反射に関して改良
された特性を有するガラスシートの製造方法に関する。
された特性を有するガラスシートの製造方法に関する。
本発明は、この方法によって得られた製品にも関する。
口0発明が解決しようとする問題点
従来、自動車、飛行機及び一般に輸送手段に於いて、並
びに建築分野に於いて使用したガラスシートは、そのガ
ラスの特性に依って入射のものとは異なる量の熱及び光
エネルギーを透過及び反射する。
びに建築分野に於いて使用したガラスシートは、そのガ
ラスの特性に依って入射のものとは異なる量の熱及び光
エネルギーを透過及び反射する。
これらの特性は、外面の一つ又は両方に、この技術で陰
極スパッター及び蒸気状態での化学的沈着として知られ
る作業によって、適当な材料の一つ以上の薄い層を付着
することによって改良することができる。
極スパッター及び蒸気状態での化学的沈着として知られ
る作業によって、適当な材料の一つ以上の薄い層を付着
することによって改良することができる。
しかし、ガラスの外部に付着したこれらの薄く層は、一
連の欠点を示す。それらは堅い物体によってかぎ傷がつ
けられ、不都合な環境条件(はこり、あられ、汚染ガス
等)ですりへらされ、それらの支持体への密着性は、こ
の支持体それ自身との化学的不適合性により又は清浄度
不足によって損われる。更に、付@装置の運転機能の不
具合がこの層の不均一性を生ずることがある。
連の欠点を示す。それらは堅い物体によってかぎ傷がつ
けられ、不都合な環境条件(はこり、あられ、汚染ガス
等)ですりへらされ、それらの支持体への密着性は、こ
の支持体それ自身との化学的不適合性により又は清浄度
不足によって損われる。更に、付@装置の運転機能の不
具合がこの層の不均一性を生ずることがある。
更なる欠点は、これらの外部層が高温に当てられるとき
、それらが分離又は亀裂する傾向を示すという事実であ
り得る。
、それらが分離又は亀裂する傾向を示すという事実であ
り得る。
本発明の目的は、元のガラスによって透過及び反射され
るものとは異なる量の輻射エネルギーを透過及び反射で
きるガラスを製造する方法を提供することにある。
るものとは異なる量の輻射エネルギーを透過及び反射で
きるガラスを製造する方法を提供することにある。
本発明の伯の目的は、改良されたエネルギー特性を有し
且つ上述の欠点を克服できるガラスシートを提供するこ
とにある。
且つ上述の欠点を克服できるガラスシートを提供するこ
とにある。
ハ、従来の技術
表面の改質を得るためのイオン移植法はよく知られてい
る。
る。
この方法によって、機械的、電気的、光学的、化学的及
び物理的特性を改良し又はある性状をもつ新しい合金を
得る目的で、処理した月利に元のものとは異なるそのよ
うな特性を得ることが可能である。
び物理的特性を改良し又はある性状をもつ新しい合金を
得る目的で、処理した月利に元のものとは異なるそのよ
うな特性を得ることが可能である。
詳細な説明は、アカデミツクプレス発行のジ工−・ニス
・ウィリアムス及びジエー・エム・ボート著[イオン移
植及びビーム技術、1の本分に見られる。
・ウィリアムス及びジエー・エム・ボート著[イオン移
植及びビーム技術、1の本分に見られる。
マイクロエレクトロニクスの生産技術に於いて、高エネ
ルギーイオン移植法が現に使用され、そこではイオンが
、微細回路が作られている珪素基板の外部表面と接触し
た而の下数ミクロンの深さまで浸透することができる。
ルギーイオン移植法が現に使用され、そこではイオンが
、微細回路が作られている珪素基板の外部表面と接触し
た而の下数ミクロンの深さまで浸透することができる。
この方法によって、例えば酸素イオンの移植により、珪
素の中に沈んだ電気的に絶縁された層を得、そして次に
、この珪素をより浅い深さでドーピングすることにより
、S電層を得ることが可能である。このようにして、微
細回路を珪素基板の外側ではなく内側に作ることができ
る。このようにして得た微細回路は通常″埋没微細回路
″と呼ばれる。
素の中に沈んだ電気的に絶縁された層を得、そして次に
、この珪素をより浅い深さでドーピングすることにより
、S電層を得ることが可能である。このようにして、微
細回路を珪素基板の外側ではなく内側に作ることができ
る。このようにして得た微細回路は通常″埋没微細回路
″と呼ばれる。
埋没多層フィルタを得るためのイオン移植法は米国特許
第4262056号に記載されている。
第4262056号に記載されている。
この文書は、600℃と1000℃の間の温度での珪素
の中への窒素の移植が純珪素層を間に挟まれた異なる高
さの812N4の層を作ることを教える。
の中への窒素の移植が純珪素層を間に挟まれた異なる高
さの812N4の層を作ることを教える。
このようにして新しい材料の創造が移植を受【ブた層で
行われ、それはその結果元の材料のものとは違う屈折率
を示す。
行われ、それはその結果元の材料のものとは違う屈折率
を示す。
しかし、このフィルタは、どんな場合も白色光に不透明
で、赤外領域でしか使えない。
で、赤外領域でしか使えない。
二2問題点を解決するための手段
今や驚くべきことにはこのイオン移植技術が、輸送手段
で及び/又は建築分野で及び/又は光学−〇 − 産業で使用されるべき、元来透過及び反射するのとは異
なる適当量の、任意の波長をもつエネルギーを透過及び
反射できるガラスシートの製造に都合よく利用できるこ
とが分かつていて、且つこれが本発明の目的の一つであ
る。
で及び/又は建築分野で及び/又は光学−〇 − 産業で使用されるべき、元来透過及び反射するのとは異
なる適当量の、任意の波長をもつエネルギーを透過及び
反射できるガラスシートの製造に都合よく利用できるこ
とが分かつていて、且つこれが本発明の目的の一つであ
る。
特に、本発明によればガラスの内部層へのイオンの移植
はイオンをこれらの層の分子構造に挿入さゼ、それらの
層の密度が改良され、それによって屈折率を改良するこ
とが分かつている。
はイオンをこれらの層の分子構造に挿入さゼ、それらの
層の密度が改良され、それによって屈折率を改良するこ
とが分かつている。
本発明による方法の利点は、木質的に改良された屈折率
を有する層がガラスの中に″埋没″されるので、それら
が外部原因によるどのような損傷にも全く感じず、従っ
てあらゆる条件で使用できることにある。
を有する層がガラスの中に″埋没″されるので、それら
が外部原因によるどのような損傷にも全く感じず、従っ
てあらゆる条件で使用できることにある。
従って本発明の目的は、輸送手段で及び/又は建築分野
で及び/又は光学産業で都合よく使用できる、元のガラ
スが透過及び反射するのとは異’tZる適当な吊のエネ
ルギーを透過及び反射できるガラスシートの製造方法に
於いて、このガラスによって透過及び/又は反射される
エネルギーの改良がこのガラスの一つ以上の内部層の分
子構造の中に、元のガラスそれ自身を形成する元素と反
応しない元素のイオンを移植することによって得られる
ことを特徴とする方法である。
で及び/又は光学産業で都合よく使用できる、元のガラ
スが透過及び反射するのとは異’tZる適当な吊のエネ
ルギーを透過及び反射できるガラスシートの製造方法に
於いて、このガラスによって透過及び/又は反射される
エネルギーの改良がこのガラスの一つ以上の内部層の分
子構造の中に、元のガラスそれ自身を形成する元素と反
応しない元素のイオンを移植することによって得られる
ことを特徴とする方法である。
本発明の他の目的は、入射エネルギーの適当な量を透過
及び反射できるガラスシートに於いて、それが元のガラ
スのものに関して改良された分子密度の一つ以上の内部
層を有することを特徴とするガラスシートである。
及び反射できるガラスシートに於いて、それが元のガラ
スのものに関して改良された分子密度の一つ以上の内部
層を有することを特徴とするガラスシートである。
ホ、実施例
本発明の特徴を、添付の図面を参照して更によく説明す
る。
る。
本発明を例1及び例2で更に説明する。
第1図及び第2図を参照すると、種々の屈折率をもつ層
がガラス(V)にその厚さの中にイオン移植によって作
られている。
がガラス(V)にその厚さの中にイオン移植によって作
られている。
この方法は、例えば、6MeVに及ぶエネルギーをもつ
イオンを提供できるり、ATONl 003装置のよう
な、十分に高いエネルギーをもつイオンを提供できるイ
オン移植用装置によって実施する。
イオンを提供できるり、ATONl 003装置のよう
な、十分に高いエネルギーをもつイオンを提供できるイ
オン移植用装置によって実施する。
それで、ガラスの種類及びイオンの種類を基に、移植さ
れたガラスの屈折率を選ぶことができる。
れたガラスの屈折率を選ぶことができる。
事実、アルゴン、キセノン、クリ1トン、ネオン、ヘリ
ウムイオンをガラスに″埋没″シた層の中に都合よく移
植することができる。
ウムイオンをガラスに″埋没″シた層の中に都合よく移
植することができる。
他の元素のイオンも、それらがガラス成分のイオンと反
応しないような温度及び圧力条件を使用すれば、都合よ
く移植することができる。
応しないような温度及び圧力条件を使用すれば、都合よ
く移植することができる。
エネルギー透過の更なる改良は、イオン移植が行われる
″埋没″層の数に影響を及ぼすことによって得ることが
できる。この層の数とイオンの種類の組合せの変化は、
明らかにそのガラスのエネルギー特性の変化を生ずるだ
ろう。
″埋没″層の数に影響を及ぼすことによって得ることが
できる。この層の数とイオンの種類の組合せの変化は、
明らかにそのガラスのエネルギー特性の変化を生ずるだ
ろう。
前述の本発明は、本発明の範囲に入るどのような形にも
実施できることが理解できる。
実施できることが理解できる。
例」−
本発明の方法によれば、エネルギー反射の非常に低いガ
ラスシー1〜、即ち反射防止ガラスを製造することがで
きる。
ラスシー1〜、即ち反射防止ガラスを製造することがで
きる。
第1図を参照すると、白色光の波長に対して得た値の平
均値としで測定した屈折率1,52、及びエネルギー反
射7%のナトリウムカルシウムガラス(V)に、270
keV ノTネルキ−ヲ6チ且つ0.469ミクロンの
有効深さにわたって1×10 イオン/cm2の用量の
イオンを提供できる移植装置を使って、層2に窒素イオ
ン移植が行われている。次に、アルゴンイオン移植を層
1に70 keVのエネルギー及び0.186ミクロン
の深さにわたって0.8X10 イオン/ cm ”
の用量で行った。
均値としで測定した屈折率1,52、及びエネルギー反
射7%のナトリウムカルシウムガラス(V)に、270
keV ノTネルキ−ヲ6チ且つ0.469ミクロンの
有効深さにわたって1×10 イオン/cm2の用量の
イオンを提供できる移植装置を使って、層2に窒素イオ
ン移植が行われている。次に、アルゴンイオン移植を層
1に70 keVのエネルギー及び0.186ミクロン
の深さにわたって0.8X10 イオン/ cm ”
の用量で行った。
この移植中、ガラスの温度は525℃であった。
この処理で、層2が1.660の屈折率を右するのに対
して、層1は1.343の屈折率を得た。
して、層1は1.343の屈折率を得た。
このようにして得たガラスは、1ミクロンの波長でゼロ
に非常に近いエネルギー反射を示すことがわかった。
に非常に近いエネルギー反射を示すことがわかった。
吋ノ
エネルギー反射の増加を示すガラスを作ることができる
。
。
第2図を参照すると、エネルギー反射7%、及び白色光
の波長で得た値の平均値として測定した屈折率1.52
を有するナトリウムカルシウムガラス(V)に、窒素及
びカルボニウム移植を、270 keVのエネルギー及
び0.234ミクロンの深さにわたって1×10 イオ
ン/cm2の用量で85:15の比でB3に行った。
の波長で得た値の平均値として測定した屈折率1.52
を有するナトリウムカルシウムガラス(V)に、窒素及
びカルボニウム移植を、270 keVのエネルギー及
び0.234ミクロンの深さにわたって1×10 イオ
ン/cm2の用量で85:15の比でB3に行った。
層2には0.186ミクロンの深さに何も移植は行わな
かった。次に、層1に窒素及びカルボニウムイオン移植
を100 keVのエネルギー及び0.234ミクロン
の深さにわたって1X101フイオン/cm2の用量で
85:15の比で行った。
かった。次に、層1に窒素及びカルボニウムイオン移植
を100 keVのエネルギー及び0.234ミクロン
の深さにわたって1X101フイオン/cm2の用量で
85:15の比で行った。
ガラスの温度は約350°Cであった。このようにして
得たガラスは、1ミク[lンの波長で最大エネルギー反
射15.9%を示した。
得たガラスは、1ミク[lンの波長で最大エネルギー反
射15.9%を示した。
第1図及び第2図は、実施例として、本発明の方法を適
用したガラスを示す。 ■・・・元のガラス 1.2・・・内部層。 = 11−
用したガラスを示す。 ■・・・元のガラス 1.2・・・内部層。 = 11−
Claims (9)
- (1)輸送手段に於いて、建築分野に於いて及び光学産
業に於いて使用されるべき、元のガラス(V)が透過及
び反射するものとは異なる、選択された量の輻射エネル
ギーを透過及び反射できるガラスシートを製造する方法
に於いて、透過及び反射エネルギーの改良が、このガラ
ス成分の元素と反応しない元素のイオン移植を、このガ
ラスの一つ以上の内部層(1、2)の分子構造に行うこ
とによつて得られることを特徴とする方法。 - (2)請求項1記載の方法に於いて、このガラスによる
透過及び反射エネルギーの改良が、ガラスの一つ以上の
内部層に作られる分子構造の密度変化によつて得られ、
該層がこのガラスの外面と平行に置かれる方法。 - (3)請求項1又は2記載の方法に於いて、このガラス
の内部層に移植すべきイオンを、アルゴン、ヘリウム、
ネオン、キセノン、クリプトンからなるクラスから選ぶ
ことを特徴とする方法。 - (4)請求項1から3のいずれか一つの項に記載の方法
に於いて、このガラスの内部層に移植すべきイオンを、
他の元素から、その移植中該元素がこのガラス成分の元
素と反応しないような温度及び圧力条件を使用するとい
う条件で、選ぶ方法。 - (5)元のガラス(V)が透過及び反射するものとは異
なる、選択された量の入射輻射エネルギーを透過及び反
射するガラスに於いて、それが元のガラスのものとは異
なる分子密度の一つ以上の内部層(1、2)を備えるこ
とを特徴とするガラス。 - (6)請求項5記載のガラスに於いて、元のガラスより
高いエネルギー反射を示すという事実を特徴とするガラ
ス。 - (7)請求項5記載のガラスに於いて、元のガラスより
低いエネルギー反射を示すという事実を特徴とするガラ
ス。 - (8)請求項5記載のガラスに於いて、元のガラスに関
して改良されたエネルギー吸収を示すという事実を特徴
とするガラス。 - (9)請求項5記載のガラスに於いて、元のガラスのも
のに関して改良されたエネルギー透過を示すという事実
を特徴とするガラス。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT48645A/87 | 1987-11-27 | ||
IT8748645A IT1211939B (it) | 1987-11-27 | 1987-11-27 | Procedimento per la fabbricazione di vetri con caratteristiche energetiche modificate e prodotto cosi'ottenuto |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01167262A true JPH01167262A (ja) | 1989-06-30 |
Family
ID=11267824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63297994A Pending JPH01167262A (ja) | 1987-11-27 | 1988-11-25 | 輻射エネルギー特性を改良したガラスの製造方法及び製品 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5098792A (ja) |
EP (1) | EP0318440B1 (ja) |
JP (1) | JPH01167262A (ja) |
KR (1) | KR890008047A (ja) |
AT (1) | ATE89535T1 (ja) |
BR (1) | BR8806230A (ja) |
CA (1) | CA1327770C (ja) |
DD (1) | DD275860A5 (ja) |
DE (1) | DE3881169T2 (ja) |
ES (1) | ES2041835T3 (ja) |
IT (1) | IT1211939B (ja) |
PL (1) | PL161619B1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016511736A (ja) * | 2013-02-15 | 2016-04-21 | ケルテック | 反射防止ガラス材料を製造するための気体の1価又は多価イオンのビームによる処理方法 |
JP2021528347A (ja) * | 2018-06-14 | 2021-10-21 | エージーシー グラス ユーロップAgc Glass Europe | 赤外光を透過させる基材の反射率の低減 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5250098A (en) * | 1992-07-27 | 1993-10-05 | Ford Motor Company | Thermally durable anti-reflective glass |
JP3533950B2 (ja) * | 1998-08-07 | 2004-06-07 | トヨタ自動車株式会社 | 非線形光学シリカ薄膜の製造方法及び非線形光学シリカ素子 |
US20060201078A1 (en) * | 2005-03-10 | 2006-09-14 | Westcrowns Inc. | Reinforced glass and method |
US20060210783A1 (en) * | 2005-03-18 | 2006-09-21 | Seder Thomas A | Coated article with anti-reflective coating and method of making same |
GB201202128D0 (en) | 2012-02-08 | 2012-03-21 | Univ Leeds | Novel material |
US9905425B2 (en) * | 2014-04-24 | 2018-02-27 | Halliburton Energy Services, Inc. | Engineering the optical properties of an integrated computational element by ion implantation |
US9695081B2 (en) * | 2014-05-15 | 2017-07-04 | Corning Incorporated | Surface nitrided alkali-free glasses |
US10612129B2 (en) | 2016-06-28 | 2020-04-07 | Corning Incorporated | Thin glass based article with high resistance to contact damage |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1561784A (en) * | 1976-11-23 | 1980-03-05 | Atomic Energy Authority Uk | Optical components |
US4262056A (en) * | 1978-09-15 | 1981-04-14 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Ion-implanted multilayer optical interference filter |
US4465337A (en) * | 1982-03-05 | 1984-08-14 | Westinghouse Electric Corp. | Reduced reflectivity member and ion implantation method of fabrication |
AT382040B (de) * | 1983-03-01 | 1986-12-29 | Guenther Stangl | Verfahren zur herstellung von optisch strukturierten filtern fuer elektromagnetische strahlung und optisch strukturierter filter |
US4521443A (en) * | 1984-05-07 | 1985-06-04 | Northrop Corporation | Integrated optical waveguide fabrication by ion implantation |
US4718905A (en) * | 1986-08-13 | 1988-01-12 | Freeman Jerre M | Haptic element using ion beam implantation for an intraocular lens |
JPS63149601A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-22 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 防曇性光学部材 |
-
1987
- 1987-11-27 IT IT8748645A patent/IT1211939B/it active
-
1988
- 1988-11-21 CA CA000583625A patent/CA1327770C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-22 ES ES198888830502T patent/ES2041835T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-22 DE DE88830502T patent/DE3881169T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-22 EP EP88830502A patent/EP0318440B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-22 AT AT88830502T patent/ATE89535T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-11-24 DD DD32214788A patent/DD275860A5/de not_active IP Right Cessation
- 1988-11-25 JP JP63297994A patent/JPH01167262A/ja active Pending
- 1988-11-25 BR BR888806230A patent/BR8806230A/pt not_active Application Discontinuation
- 1988-11-26 PL PL88276000A patent/PL161619B1/pl unknown
- 1988-11-26 KR KR1019880015625A patent/KR890008047A/ko not_active Application Discontinuation
-
1991
- 1991-07-08 US US07/727,345 patent/US5098792A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016511736A (ja) * | 2013-02-15 | 2016-04-21 | ケルテック | 反射防止ガラス材料を製造するための気体の1価又は多価イオンのビームによる処理方法 |
JP2021528347A (ja) * | 2018-06-14 | 2021-10-21 | エージーシー グラス ユーロップAgc Glass Europe | 赤外光を透過させる基材の反射率の低減 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0318440B1 (en) | 1993-05-19 |
PL161619B1 (en) | 1993-07-30 |
DD275860A5 (de) | 1990-02-07 |
ES2041835T3 (es) | 1993-12-01 |
DE3881169T2 (de) | 1993-12-02 |
KR890008047A (ko) | 1989-07-08 |
EP0318440A3 (en) | 1990-06-20 |
BR8806230A (pt) | 1989-08-15 |
ATE89535T1 (de) | 1993-06-15 |
DE3881169D1 (de) | 1993-06-24 |
EP0318440A2 (en) | 1989-05-31 |
PL276000A1 (en) | 1989-07-24 |
IT1211939B (it) | 1989-11-08 |
CA1327770C (en) | 1994-03-15 |
US5098792A (en) | 1992-03-24 |
IT8748645A0 (it) | 1987-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1220894C (zh) | 光波导及其制造方法 | |
DE69607878D1 (de) | Transparentes Substrat mit Antireflektionsbeschichtung | |
KR0179463B1 (ko) | 어닐링된 저복사율의 피막 | |
EP0305135B1 (en) | Optical interference film having high and low refractive index layers inter-layer connection of which is strengthened | |
US4262056A (en) | Ion-implanted multilayer optical interference filter | |
JPH01167262A (ja) | 輻射エネルギー特性を改良したガラスの製造方法及び製品 | |
CN1550046A (zh) | 光子工程白炽发射器 | |
TW349080B (en) | Method of making a glass panel | |
EP0266214A2 (en) | Interference film filters, optical waveguides and methods for producing them | |
JPS5669837A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
JPS63175431A (ja) | ホウケイ酸ガラスを有する半導体装置の製造方法 | |
US4988164A (en) | Anti-reflection film for synthetic resin optical elements | |
US5250098A (en) | Thermally durable anti-reflective glass | |
EP0766281B1 (en) | Method for making a tantala/silica interference filter on the surface of a tungsten-halogen incandescent lamp | |
US5102736A (en) | Process for the manufacture of reflecting glass and the product thereof | |
US6183843B1 (en) | Method for producing low reflectance diamond and products therefor | |
JPS5534416A (en) | Method of manufacturing semiconductor device | |
Demaree et al. | Optical properties and surface roughness of ion implanted single crystal sapphire | |
JPH01192541A (ja) | 熱線反射透明板及びその製造方法 | |
Ila et al. | Application of MeV ion implantation in the formation of nano-metallic clusters in silica | |
JP2002097038A (ja) | 酸窒化スズ膜付き基体とその製造方法 | |
JPH0562266A (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2000098435A (ja) | 非線形光学薄膜の製造方法 | |
JPS5971206A (ja) | 透光性導電膜およびその作製方法 | |
JPH0525611A (ja) | 合成樹脂製反射鏡の作成方法 |