JPH01192541A - 熱線反射透明板及びその製造方法 - Google Patents
熱線反射透明板及びその製造方法Info
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- JPH01192541A JPH01192541A JP63018199A JP1819988A JPH01192541A JP H01192541 A JPH01192541 A JP H01192541A JP 63018199 A JP63018199 A JP 63018199A JP 1819988 A JP1819988 A JP 1819988A JP H01192541 A JPH01192541 A JP H01192541A
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- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
ＥＭ業上の利用分野］
本発明は有色熱線反射透明板、特に、可視光線透過率が
比較的高く、美しい外観色を呈すると＃もに、太陽輻射
エネルギーを効果的に遮断する建築用もしくは自動車用
の熱線反射透明板及びその製造方法に関する。
比較的高く、美しい外観色を呈すると＃もに、太陽輻射
エネルギーを効果的に遮断する建築用もしくは自動車用
の熱線反射透明板及びその製造方法に関する。
［従来の技術］
従来、この種の熱線反射透明板としては特公昭４７−１
４８２０号に記載されているように、炭化物、又は窒化
物の少なくとも１つの被膜をガラス板に付着したものが
知られている。これらの炭化物、又は窒化物の少な（と
も１つの物質をガラス板の表面に形成するには、通常炭
化物、又は窒化物をターゲットとした高周波スパッタ法
で行われ、特に大型のターゲットを用いる場合にはター
ゲットが電導性が小なため直流スパッタ法で行うのは困
難であった。
４８２０号に記載されているように、炭化物、又は窒化
物の少なくとも１つの被膜をガラス板に付着したものが
知られている。これらの炭化物、又は窒化物の少な（と
も１つの物質をガラス板の表面に形成するには、通常炭
化物、又は窒化物をターゲットとした高周波スパッタ法
で行われ、特に大型のターゲットを用いる場合にはター
ゲットが電導性が小なため直流スパッタ法で行うのは困
難であった。
［発明の解決しようとする課題］
しかしながら炭化物又は窒化物の少なくとも１つの被膜
をガラス板に付着した熱線反射ガラスは機械的強度や化
学的耐久性があるが、該被膜中に含まれる自由電子の数
が少ないため、熱線反射性能が劣る欠点があったり、大
きなガラス板に大型のターゲットを用いて被膜を形成す
るには高周波スバ、り法を用いなければならず、大容量
の高周波電源を必要としたり、またガラス数個からのい
わゆる逆スパツタ現象によって、破膜の形成が著しく低
下し、安定した被膜の形成が難しいという欠点があった
。
をガラス板に付着した熱線反射ガラスは機械的強度や化
学的耐久性があるが、該被膜中に含まれる自由電子の数
が少ないため、熱線反射性能が劣る欠点があったり、大
きなガラス板に大型のターゲットを用いて被膜を形成す
るには高周波スバ、り法を用いなければならず、大容量
の高周波電源を必要としたり、またガラス数個からのい
わゆる逆スパツタ現象によって、破膜の形成が著しく低
下し、安定した被膜の形成が難しいという欠点があった
。
［課題を解決するための手段］
本発明は前記欠点を解決するためになされたものであっ
て、本発明は透明板と該透明板上に形成された炭化珪素
膜とからなる熱線反射透明板にお厚味で、且つ１．０重
量％乃至１０重量％の遊離した珪素原子を含有すること
を特徴とする熱線反射透明板である。
て、本発明は透明板と該透明板上に形成された炭化珪素
膜とからなる熱線反射透明板にお厚味で、且つ１．０重
量％乃至１０重量％の遊離した珪素原子を含有すること
を特徴とする熱線反射透明板である。
本発明において、透明板としては屈折率が１゜３乃至１
．８のガラス板、または合成樹脂板が用いられる。また
、本発明に係る熱線反射透明板は遊離した珪素原子を含
有する炭化珪素板をターゲットとして直流スパッタリン
グをすることにより透明板上に炭化珪素膜を形成して成
し遂げることができる。
．８のガラス板、または合成樹脂板が用いられる。また
、本発明に係る熱線反射透明板は遊離した珪素原子を含
有する炭化珪素板をターゲットとして直流スパッタリン
グをすることにより透明板上に炭化珪素膜を形成して成
し遂げることができる。
ここでターゲットしては１０重量％乃至２０重量％の遊
離した珪素原子を含佇する炭化珪素板が用いられる。タ
ーゲットに１．０重量％乃至１０重量％の遊離した珪素
原子を用いることにより、形成される炭化珪素膜にはほ
ぼ１．０重量％乃至１０重量％の遊離珪素原子が含有さ
れるようになる。
離した珪素原子を含佇する炭化珪素板が用いられる。タ
ーゲットに１．０重量％乃至１０重量％の遊離した珪素
原子を用いることにより、形成される炭化珪素膜にはほ
ぼ１．０重量％乃至１０重量％の遊離珪素原子が含有さ
れるようになる。
［作 用コ
本発明によれば炭化珪素膜に遊離した珪素原子を１．０
重量％乃至１０重量％を含むため、自由電子の数が増大
し、熱線反射機能を高めることができ、しかも被膜の機
械的強度、及び化学的耐久性を保つことができる。被膜
中の遊離した珪素原子が１．０重量％以上になると熱線
反射機能の向上が小さく、また１０重量％以上になると
被膜の耐久性が劣るようになる。
重量％乃至１０重量％を含むため、自由電子の数が増大
し、熱線反射機能を高めることができ、しかも被膜の機
械的強度、及び化学的耐久性を保つことができる。被膜
中の遊離した珪素原子が１．０重量％以上になると熱線
反射機能の向上が小さく、また１０重量％以上になると
被膜の耐久性が劣るようになる。
また、被膜形成の際ターゲットとして遊離した珪素原子
を含む炭化珪素板を用いることができるために、ターゲ
ットの電気抵抗率を１Ω・ｃｌｌよりも低くできるので
、直流スパッタ法により安定した被膜の形成ができる。
を含む炭化珪素板を用いることができるために、ターゲ
ットの電気抵抗率を１Ω・ｃｌｌよりも低くできるので
、直流スパッタ法により安定した被膜の形成ができる。
［実 施 例コ
炭化珪素ターゲｙ）として、炭化珪素とカーボンから成
る成形体を原料として約１６５０℃に加熱しながら珪素
を注入して合成するいわゆるシリコン注入法で合成した
ものを用いた。化学分析によれば遊離の珪素は１８％で
あり電気抵抗率は０゜５Ω・Ｃ嘗であった。
る成形体を原料として約１６５０℃に加熱しながら珪素
を注入して合成するいわゆるシリコン注入法で合成した
ものを用いた。化学分析によれば遊離の珪素は１８％で
あり電気抵抗率は０゜５Ω・Ｃ嘗であった。
清浄にされた２１■厚の板ガラス基板を真空槽内に入れ
、タライオポンプで５Ｘ１０−３Ｐａまで真空に引いた
後Ａｒガスを導入し０．３Ｐａに圧力を調節した。前記
した炭化珪素ターゲットを、ガラス基板に対向する位置
にある陰極にセットした。
、タライオポンプで５Ｘ１０−３Ｐａまで真空に引いた
後Ａｒガスを導入し０．３Ｐａに圧力を調節した。前記
した炭化珪素ターゲットを、ガラス基板に対向する位置
にある陰極にセットした。
陰極に接続されている直流電源より電力を投入しスパッ
タリングを生起させた。２人の電流値にセットし、約５
分間維持した。その後電流値を０゜６５Ａにセットし、
ターゲットとガラス基板の間にあるシャッターを開いて
ガラス基板に薄膜を付着せしめた。２分経過後シャッタ
ーを閉じ膜付けを終了した。膜付は中の陰極の電位は一
４０６Ｖであった。
タリングを生起させた。２人の電流値にセットし、約５
分間維持した。その後電流値を０゜６５Ａにセットし、
ターゲットとガラス基板の間にあるシャッターを開いて
ガラス基板に薄膜を付着せしめた。２分経過後シャッタ
ーを閉じ膜付けを終了した。膜付は中の陰極の電位は一
４０６Ｖであった。
この試料（１）を大気中に取り出し表面粗さ計にて薄膜
の厚みを測定したところ５７０Ａであった。この試料（
１）の可視光透過率とガラス面側での可視光反射率を測
定したところそれぞれ３１゜７％および３８．６％であ
った。そのガラス面側からの色調はＣＩＥ１９７８の規
定によるＬゝ、３−Ｘ、 ｂ％色空間においてＬ”＝
６８．３、ａ≠＝−０，７、ｂＸ＝２９．３であり美し
いゴールド色を呈していた。この試料（１）の３８０ｎ
ｍから１８００ｎｍの波長範囲での分光反射率を第１図
に曲線（１０）で示した。この膜は１規定の塩酸および
１規定の回外ソーダ溶液に６時間放置しても実質上前記
光学特性に変化はなかった。膜中に含まれる遊離の珪素
の量をＸ線光電子分光解析により求めたところ約５重量
％であった。
の厚みを測定したところ５７０Ａであった。この試料（
１）の可視光透過率とガラス面側での可視光反射率を測
定したところそれぞれ３１゜７％および３８．６％であ
った。そのガラス面側からの色調はＣＩＥ１９７８の規
定によるＬゝ、３−Ｘ、 ｂ％色空間においてＬ”＝
６８．３、ａ≠＝−０，７、ｂＸ＝２９．３であり美し
いゴールド色を呈していた。この試料（１）の３８０ｎ
ｍから１８００ｎｍの波長範囲での分光反射率を第１図
に曲線（１０）で示した。この膜は１規定の塩酸および
１規定の回外ソーダ溶液に６時間放置しても実質上前記
光学特性に変化はなかった。膜中に含まれる遊離の珪素
の量をＸ線光電子分光解析により求めたところ約５重量
％であった。
なお、比較例として第１図の曲線（１１）に島周波スパ
ッタにより実施例のものと同一厚みで従来の遊離した珪
素原子をもたない炭化珪素膜を形成した熱線反射ガラス
の分光反射率を示した。
ッタにより実施例のものと同一厚みで従来の遊離した珪
素原子をもたない炭化珪素膜を形成した熱線反射ガラス
の分光反射率を示した。
次に前記と同様の炭化珪素ターゲットを用い、前記した
と同一の手順で投入する電流もしくはスパッタ時間を変
えることにより、異なる膜厚の炭化珪素膜付着ガラスの
試料２〜４を作成した。試料１〜４の光学特性を第１表
に示し、膜厚の変化による色相の変化の様子を第２図の
ＣＩＥのＬ≠＋ ａ”＋ １）’色空間に示した。
と同一の手順で投入する電流もしくはスパッタ時間を変
えることにより、異なる膜厚の炭化珪素膜付着ガラスの
試料２〜４を作成した。試料１〜４の光学特性を第１表
に示し、膜厚の変化による色相の変化の様子を第２図の
ＣＩＥのＬ≠＋ ａ”＋ １）’色空間に示した。
［発明の効果コ
以上のように、本発明によれば熱線反射透明体の炭化珪
素膜中に自由電子の数が増大し熱線反射機能を高めるこ
とができ、また炭化珪素膜の膜厚を変えることにより、
該層の両面での反射光の干渉により種々め色相の反射色
もつ熱線反射透明体を得ることができる。
素膜中に自由電子の数が増大し熱線反射機能を高めるこ
とができ、また炭化珪素膜の膜厚を変えることにより、
該層の両面での反射光の干渉により種々め色相の反射色
もつ熱線反射透明体を得ることができる。
しかもそれを実現するために、ターゲットとして、遊離
した珪素原子を含有する導電性のある炭化珪素板を用い
て直流スパッタリングをすることにより、建築用や自動
車用の大きな面積をもつ熱線反射ガラス板をも実現でき
る。
した珪素原子を含有する導電性のある炭化珪素板を用い
て直流スパッタリングをすることにより、建築用や自動
車用の大きな面積をもつ熱線反射ガラス板をも実現でき
る。
図面は本発明の実施例と比較例を示すものであって、第
１図は試料（１）と比較例の分光反射率特性を示し、第
２図は本発明の試料（１）乃至試料（４）の反射色変化
を示す図である。 １０： 本発明の試料による分光反射率特性曲線 １１：比較例による分光反射率特性曲線第１図 波長（ｎｍ）
１図は試料（１）と比較例の分光反射率特性を示し、第
２図は本発明の試料（１）乃至試料（４）の反射色変化
を示す図である。 １０： 本発明の試料による分光反射率特性曲線 １１：比較例による分光反射率特性曲線第１図 波長（ｎｍ）
Claims (2)
- （１）透明板と該透明板上に形成された炭化珪素膜とか
らなる熱線反射透明板において、該炭化珪素膜が４００
Å乃至１５００Åの厚味で、且つ１．０重量％乃至１０
重量％の遊離した珪素原子を含有することを特徴とする
熱線反射透明板。 - （２）遊離した珪素原子を含有する炭化珪素板をターゲ
ットとして直流スパッタリングをすることにより透明板
上に炭化珪素膜を形成した熱線反射透明板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63018199A JPH064309B2 (ja) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | 熱線反射透明板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63018199A JPH064309B2 (ja) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | 熱線反射透明板及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01192541A true JPH01192541A (ja) | 1989-08-02 |
| JPH064309B2 JPH064309B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=11964964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63018199A Expired - Lifetime JPH064309B2 (ja) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | 熱線反射透明板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH064309B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000037251A1 (fr) * | 1998-12-22 | 2000-06-29 | Bridgestone Corporation | Structure stratifiee et son procede de fabrication |
| US6800182B2 (en) | 1999-10-13 | 2004-10-05 | Asahi Glass Company, Limited | Sputtering target, process for its production and film forming method |
-
1988
- 1988-01-28 JP JP63018199A patent/JPH064309B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000037251A1 (fr) * | 1998-12-22 | 2000-06-29 | Bridgestone Corporation | Structure stratifiee et son procede de fabrication |
| US6562492B1 (en) | 1998-12-22 | 2003-05-13 | Bridgestone Corporation | Laminated structure, and manufacturing method thereof |
| KR100496064B1 (ko) * | 1998-12-22 | 2005-06-17 | 가부시키가이샤 브리지스톤 | 적층구조체 및 그 제조방법 |
| US6800182B2 (en) | 1999-10-13 | 2004-10-05 | Asahi Glass Company, Limited | Sputtering target, process for its production and film forming method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH064309B2 (ja) | 1994-01-19 |
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