JPH01167252A - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents

光ファイバ母材の製造方法

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JPH01167252A
JPH01167252A JP32529287A JP32529287A JPH01167252A JP H01167252 A JPH01167252 A JP H01167252A JP 32529287 A JP32529287 A JP 32529287A JP 32529287 A JP32529287 A JP 32529287A JP H01167252 A JPH01167252 A JP H01167252A
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JP
Japan
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rod
glass
layer
quartz glass
optical fiber
Prior art date
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Pending
Application number
JP32529287A
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English (en)
Inventor
Suehiro Miyamoto
宮本 末広
Takao Shioda
塩田 孝夫
Kenji Nishide
西出 研二
Taiichiro Tanaka
大一郎 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Publication date
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Priority to JP32529287A priority Critical patent/JPH01167252A/ja
Publication of JPH01167252A publication Critical patent/JPH01167252A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/20Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
    • C03B2201/24Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with nitrogen, e.g. silicon oxy-nitride glasses

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  • Materials Engineering (AREA)
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  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、耐水性、耐水素特性、高強度特性を向上さ
せるために窒素をドープしたガラス層を有する光ファイ
バ好打の製造方法に関し、窒素のドープ量を増加させる
方法を提供する9(従来の技術) 光通信用ガラスファイバにおいては、その伝送特性上の
観点から耐水性、耐水素特性の向上が要求され、また破
断防止という観点がら機械的強度の向上も要求されてい
る。これら目的達成のために従来は専らその上に被覆す
る被覆層について検討かなされており、ファイバを構成
するガラスそのものの検討はあまりなされていないとい
うのが実情である。一般のガラスの分野においては、ガ
ラスの耐水性、耐水素特性、高強度特性を向上させるた
めに例えば石英ガラスを例にとると5i−O結合をそれ
よりもさらにち密で結合特性の良い5i−N結合で置換
えていわゆるオキシナイトガラスとすることによって目
的を達成するということが行われている。本発明者等は
、その方法としてS i O,のガラス微粒子(0,0
1〜0.1μn粒径)を火炎加水分解または熱酸化反応
で作製し、これをN、NH,等の窒素含有ガス雰囲気で
高温  。
に加熱して透明ガラス化する方法、およびこの技術を光
通信用石英系ガラスファイバに応用する方法を提案した
(この発明か解決しようとする問題点)しかしこの方法
によって得られる石英ガラス内への窒素ドープ量は処理
濃度、処理温度、処理時間を変えても高々Iwt%程度
であって耐水性、耐水素特性、高強度特性を十分に向上
させるには至らなかった。
(問題点を解決するための手段) この発明者等は、その原因か強固な5i−0結合にある
との観点から炭素で還元してはとの考えに至ったもので
、その特徴とするところ一石英ガラス形成原料を炭素を
含む燃焼カスを用いて火炎加水分解または熱酸化反応さ
せて炭素を含有する石英ガラス微粒子となし、これをコ
アまたはコア−クラッド型透明ガラスロッI・の外周に
堆積させて多孔質ガラス層とし、この多孔質ガラス層を
有するロフトを高温の窒素含有ガス雰囲気炉内に導入し
て前記多孔質ガラス層を透明ガラス化することにある。
なお、炭素を含む燃焼ガスとしては例えばメタン、エタ
ン、ブタン、アセチレン、メタノール、エタノールなど
かあ番ヂられる。そして燃焼によって分解生成された炭
素は、火炎加水分解または熱酸化反応によって生成され
た多孔質ガラス層を形成するガラス微粒子の周囲やそれ
らの間の隙間にススとして付着し、窒素含有ガス雰囲気
て高温処理する際に5i−0結合から酸素を奪って−・
酸1ヒ炭素、もしくは二酸化炭素として多孔質ガラス層
中から離散する。がくして5i−N結合が容易となり窒
素のドーピング量を増すことかできる。窒素含有ガスと
しては、N2、Nト−1NFIJなどがあげられる。さ
らに前記雰囲気にヘリウムを導入することにより加熱炉
の熱を効率よく多孔質ガラス層に伝えるとともに気泡内
に残留したガスを速やかに外部に排出することができる
(実施例) 第1図は、この発明方法の一工程であるコアークラッド
型石英ガラス系ロッドの外周に石英ガラスからなる多孔
質ガラス層を形成するための説明図である。図において
1は4重管バーすで、後述するコアークラッド型石英ガ
ラス系ロッドの長さ方向に所定の速度でトラバースされ
るようになされており、その中心にはS i O,、第
2層目には燃焼ガスとしてのC7H,、第3層目にはA
r、第4層目にはQが供給される。2は、qH6とOよ
との反応による燃焼炎でこの燃焼熱によりS i O,
ガラス微粒子が生成される。3は、生成されたSiQガ
ラス微粒子からなる多孔質ガラス層で各微粒子の周囲及
びそれらの間には炭素Cか付着している。なお4は、透
明なコアークラッド型石英ガラス系ロッドでその軸の回
りに回転されるようになされており、その外周には上記
S i O,ガラス微粒子からなる多孔質ガラスが堆積
される。第2図は、第1図の方法によって得られた多孔
質ガラス層3を窒素を含む透明ガラス体にするための加
熱炉を示したもので、同一符号は第1図と同一物を示す
。5は、石英ガラス炉心管でその底部にはN、およびH
e等のガスを供給するための供給口6が設けられ、また
その上部側壁にはガス排出ロアが設けられている。8は
炉心管5の外周に位置されたカーボン発熱体である。か
くして炭素を含むSiqか一4= らなる多孔質ガラス層3が外周部に形成されなロッド4
を炉心管5内に導入すると多孔質ガラスをなず5i−0
結合から炭素が酸素を奪ってCOまたはCqとなって排
出ロアから排出される。一方酸素が遊離した硅素には窒
素か結合し窒素を十分に含む透明なオキシナイトシリカ
ガラスとなる。
(具体例) 直径10mm、長さ300mm、Δ=O13%のS i
 O,コアーFドープSiOよりラッドのロッドを用意
した。このロッド上に第1図に示す方法により厚さ40
mm、長さ300mmの炭素を含むSiqからなる多孔
質ガラスを堆積させた。このときのバーナへのガスの供
給条件及びトラバース速度、ロッドの回転速度は表1に
示すとおりであった。
表1 次にこの多孔質ガラス層を有するロッドを第2図に示す
方法を用いて表2の条件の下に透明ガラス化を図ったと
ころ、直径25mm、長さ200mmの外周部に窒素を
15wt%含む光ファイバ好打が得られた。
表2 かくして得られた光ファイバH材の耐水性、耐水素特性
、耐強度特性を測定したところ、疲労係数nは35(水
中80°C)、水素分子の拡散係数はほとんど0、破断
強度は520Kg/mmであり優れたものであった。
(発明の効果) この発明は、以上のようにコアまたはコア−クラッド型
ロッド上に炭素を含む還元状5ルの多孔質ガラスを形成
し、これを窒素を含む雰囲気で透明ガラス化するように
したので5i−0結合状態にある酸素を容易に遊離させ
窒素と置換させることができ、以って窒素を十分に含ん
だ光ファイバ母材を得ることができる9
【図面の簡単な説明】
第1.2図は、この発明方法を示す説明図。図において
、3は、炭素を含むSiq多孔質ガラス層、3′は、窒
素を含む透明なガラス層を有する光ファイバ母材。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 石英ガラス形成原料を炭素を含む燃焼ガスを用いて火炎
    加水分解または熱酸化反応させて炭素を含有する石英ガ
    ラス微粒子となし、これを石英ガラス系のコアまたはコ
    ア−クラッド型透明ガラスロッドの外周に堆積させて多
    孔質ガラス層とし、次いでこの多孔質ガラス層を有する
    ロッドを高温の窒素含有ガス雰囲気炉内に導入して前記
    多孔質ガラス層を透明ガラス化することを特徴とする光
    ファイバ母材の製造方法。
JP32529287A 1987-12-24 1987-12-24 光ファイバ母材の製造方法 Pending JPH01167252A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04321533A (ja) * 1991-01-30 1992-11-11 Yazaki Corp 光ファイバ母材の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04321533A (ja) * 1991-01-30 1992-11-11 Yazaki Corp 光ファイバ母材の製造方法
JP2592355B2 (ja) * 1991-01-30 1997-03-19 矢崎総業株式会社 光ファイバ母材の製造方法

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