JPH01166324A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH01166324A JPH01166324A JP62324623A JP32462387A JPH01166324A JP H01166324 A JPH01166324 A JP H01166324A JP 62324623 A JP62324623 A JP 62324623A JP 32462387 A JP32462387 A JP 32462387A JP H01166324 A JPH01166324 A JP H01166324A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- recording medium
- film
- layer
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録再生に適する強磁性金属薄膜を
磁気記録層とする磁気記録媒体に関する。
磁気記録層とする磁気記録媒体に関する。
従来の技術
従来より磁気記録層として広く用いられている塗布型の
磁性層は、今後袋々短波長化する磁気記録において十分
なＣ／Ｎを確保することがむずかしくなッテきており、
代ってＣｏ −Ｏｒ 、 Ｇｏ −Ｈｉ −０等の強磁
性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の実用化が
期待されている［アイイーイーイー トランザクション
ズ オン マグネティクス（ＩＫＫＥ ＴＲＡＮＳＡ
ＯＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＥＴＩＣ８）Ｖｏｌ
、ＭＡＧ−２１、Ｎｏ−３，１２１７〜１２２０（１９
８５）］ ０かかる構成の磁気記録媒体の実用化には、
磁気ヘッドとの高速摺接運動に於ける耐久性の確保が不
可欠で、その点からの改善提案が増えてきている［例え
ば、特開昭５３−８８７０４号公報、特開昭５９−１２
１６３１号公報、特開昭６９−１７１０２６号公報、特
開昭６２−１９７９１７号公報］中でも、磁気記録層に
微細な凹凸を形成する方法は、磁気記録層の耐久性向上
効果が大きく注目されている［アイイーイーイー トラ
ンザクションズ オン マグネティクス（ＩＩＩＣＩ！
：ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＩＣＴＩ
Ｃ８） Ｖｏｌ。
磁性層は、今後袋々短波長化する磁気記録において十分
なＣ／Ｎを確保することがむずかしくなッテきており、
代ってＣｏ −Ｏｒ 、 Ｇｏ −Ｈｉ −０等の強磁
性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の実用化が
期待されている［アイイーイーイー トランザクション
ズ オン マグネティクス（ＩＫＫＥ ＴＲＡＮＳＡ
ＯＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＥＴＩＣ８）Ｖｏｌ
、ＭＡＧ−２１、Ｎｏ−３，１２１７〜１２２０（１９
８５）］ ０かかる構成の磁気記録媒体の実用化には、
磁気ヘッドとの高速摺接運動に於ける耐久性の確保が不
可欠で、その点からの改善提案が増えてきている［例え
ば、特開昭５３−８８７０４号公報、特開昭５９−１２
１６３１号公報、特開昭６９−１７１０２６号公報、特
開昭６２−１９７９１７号公報］中でも、磁気記録層に
微細な凹凸を形成する方法は、磁気記録層の耐久性向上
効果が大きく注目されている［アイイーイーイー トラ
ンザクションズ オン マグネティクス（ＩＩＩＣＩ！
：ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＩＣＴＩ
Ｃ８） Ｖｏｌ。
ＭＡＧ−２１、Ｎｏ−５，１６２４〜１ｓ２ｅ（１９ａ
ｓ）］ 。
ｓ）］ 。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、高分子フィルム上に、ム（！ ２０５
＋５ｉｎ２． ＣａＯポリエチレン球等の微粒子を塗布
固定した、微粒子塗布層を配した上に電子ビーム蒸着法
、スパッタリング法等で強磁性金属薄膜を配し、保護潤
滑層を配した磁気記録媒体は、記録波長が０．６μｍ以
下になると、Ｃ／Ｎが不十分で改善が望まれていた。本
発明は上記した事情に鑑みなされたもので短波長でのＣ
／Ｎの良好な磁気記録媒体を提供するものである。
＋５ｉｎ２． ＣａＯポリエチレン球等の微粒子を塗布
固定した、微粒子塗布層を配した上に電子ビーム蒸着法
、スパッタリング法等で強磁性金属薄膜を配し、保護潤
滑層を配した磁気記録媒体は、記録波長が０．６μｍ以
下になると、Ｃ／Ｎが不十分で改善が望まれていた。本
発明は上記した事情に鑑みなされたもので短波長でのＣ
／Ｎの良好な磁気記録媒体を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記した問題点を解決するため本発明の磁気記録媒体は
、高分子フィルム上に微粒子塗布層を配した上に結晶粒
界の観察されない強磁性金属薄膜と、保護潤滑層とを積
層するようにしたものである。
、高分子フィルム上に微粒子塗布層を配した上に結晶粒
界の観察されない強磁性金属薄膜と、保護潤滑層とを積
層するようにしたものである。
作用
本発明の磁気記録媒体は上記した構成によシ、強磁性金
属薄膜が微視的な構造からくる機械強度の強さが、保護
潤滑剤層の厚みを太幅に小さくできるので、短波長で大
きな損失となるスペーシング損失を改善できる度合が大
きく、短波長域でのＣ／Ｎが良好な磁気記録媒体が得ら
れることになる。
属薄膜が微視的な構造からくる機械強度の強さが、保護
潤滑剤層の厚みを太幅に小さくできるので、短波長で大
きな損失となるスペーシング損失を改善できる度合が大
きく、短波長域でのＣ／Ｎが良好な磁気記録媒体が得ら
れることになる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の一実施例の磁気記録
媒体について説明する。図は、本発明の一実施例の磁気
記録媒体の拡大断面図で、図で１はポリエチレンテレフ
タレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテル
サルフオン、ポリアミドイミド、ポリイミド等の高分子
フィルムで２はム１２０． 、 ＣａＯ、ｌＣｕ２Ｏ，
、Ｆｅ２Ｏ３，ＨｆＯ２，ＭｇＯ。
媒体について説明する。図は、本発明の一実施例の磁気
記録媒体の拡大断面図で、図で１はポリエチレンテレフ
タレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテル
サルフオン、ポリアミドイミド、ポリイミド等の高分子
フィルムで２はム１２０． 、 ＣａＯ、ｌＣｕ２Ｏ，
、Ｆｅ２Ｏ３，ＨｆＯ２，ＭｇＯ。
ｆ３ｉｏ ２ ） Ｔｉ Ｏ２、ＢａＣ０ｓ等の直径６
０人から５００人の微粒子を１（μＩＩ＋）尚！ｌｌｏ
、１ケから４００ケの範囲で塗布した微粒子塗布層で、
３はＣｏ −Ｏｒ 。
０人から５００人の微粒子を１（μＩＩ＋）尚！ｌｌｏ
、１ケから４００ケの範囲で塗布した微粒子塗布層で、
３はＣｏ −Ｏｒ 。
Ｃｏ −Ｎｉ 、Ｇｏ −Ｔｉ 、Ｃｏ−０ｒ−Ｗｂ
、Ｇｏ−Ｎｉ−０等の強磁性金属薄膜で、分解能１０人
〜２０人の高分解能走査型電子顕微鏡でも結晶粒界を認
めることのできない膜で、高真空で、基板温度をあげて
蒸着するか、高真空でイオンビーム蒸着を行うこと等で
、材料構成に応じて、条件を最適化して行えばよい。４
は保護潤滑剤層で、プラズマ重合膜。
、Ｇｏ−Ｎｉ−０等の強磁性金属薄膜で、分解能１０人
〜２０人の高分解能走査型電子顕微鏡でも結晶粒界を認
めることのできない膜で、高真空で、基板温度をあげて
蒸着するか、高真空でイオンビーム蒸着を行うこと等で
、材料構成に応じて、条件を最適化して行えばよい。４
は保護潤滑剤層で、プラズマ重合膜。
ＢＮ膜、硬質炭素膜等の保護膜と、脂肪酸、パーフルオ
ロポリエーテル、パーフルオロカルボン酸等の潤滑剤を
積層したもので、全体の厚みは１００人とすることがで
きる。
ロポリエーテル、パーフルオロカルボン酸等の潤滑剤を
積層したもので、全体の厚みは１００人とすることがで
きる。
以下、更に具体的に実施例について比較例との対比で詳
しく説明する。厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを用い、直径８６人のＸｕ ２０ ｓ微粒
子を３０ケ／（μｍ）配し、その上に５ Ｘ １０−’
（Ｔｏｒｒ）の真空中で、入射角５７度から６６度で、
Ｇｏ−Ｃｒ （Ｏｒ ： ２０ ｗｔ％）を３０Ｗの加
速電圧でイオンビーム蒸着し、保磁力８００（Ｏｅ）で
、容易軸が膜面に対し約６０度に傾いたＧｏ−Ｃｒ膜を
Ｑ、１４μｍ形成した基板の温度は、直径５０３のキャ
ンの表面温度を９０”Ｃにコントロールして昇温した状
態で蒸着した。この膜は結晶粒界がみられなかった。比
較例として、キャン温度−２０’Ｃで、直径１ｍの円筒
キャンに沿わせて９．６ Ｘ １０ （Ｔｏｒｒ）
の酸素中でＧｏ−Ｏｒ（Ｃｒｌｓｗｔ％）を入射角９０
°から６０度の斜め蒸着を行い保磁力ｓ ２０ （Ｏａ
） ノＧｏ−Ｏｒ膜０．１４μｍを形成した。この両者
にグラファイトをターゲットにして人ｒ−４−Ｈ２＝：
８ Ｘ １０ （Ｔｏｒｒ） 、ムｒ：Ｈ２＝１：３
の真空中で１３．５８ （石）、１．３３（藺）の高周
波グロー放電を発生させた上でスパッタリングを行い、
ダイアモンド状硬質炭素膜を配し、その上にモンテフル
オス社製のパーフルオロポリエーテル゛フオンブリンＺ
−２５’“を塗布し、夫夫８ミリ幅にスリットし磁気テ
ープを試作した０実施例人、比較例ムは、硬質炭素膜を
６０人。
しく説明する。厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを用い、直径８６人のＸｕ ２０ ｓ微粒
子を３０ケ／（μｍ）配し、その上に５ Ｘ １０−’
（Ｔｏｒｒ）の真空中で、入射角５７度から６６度で、
Ｇｏ−Ｃｒ （Ｏｒ ： ２０ ｗｔ％）を３０Ｗの加
速電圧でイオンビーム蒸着し、保磁力８００（Ｏｅ）で
、容易軸が膜面に対し約６０度に傾いたＧｏ−Ｃｒ膜を
Ｑ、１４μｍ形成した基板の温度は、直径５０３のキャ
ンの表面温度を９０”Ｃにコントロールして昇温した状
態で蒸着した。この膜は結晶粒界がみられなかった。比
較例として、キャン温度−２０’Ｃで、直径１ｍの円筒
キャンに沿わせて９．６ Ｘ １０ （Ｔｏｒｒ）
の酸素中でＧｏ−Ｏｒ（Ｃｒｌｓｗｔ％）を入射角９０
°から６０度の斜め蒸着を行い保磁力ｓ ２０ （Ｏａ
） ノＧｏ−Ｏｒ膜０．１４μｍを形成した。この両者
にグラファイトをターゲットにして人ｒ−４−Ｈ２＝：
８ Ｘ １０ （Ｔｏｒｒ） 、ムｒ：Ｈ２＝１：３
の真空中で１３．５８ （石）、１．３３（藺）の高周
波グロー放電を発生させた上でスパッタリングを行い、
ダイアモンド状硬質炭素膜を配し、その上にモンテフル
オス社製のパーフルオロポリエーテル゛フオンブリンＺ
−２５’“を塗布し、夫夫８ミリ幅にスリットし磁気テ
ープを試作した０実施例人、比較例ムは、硬質炭素膜を
６０人。
゛フオンブリンｚ−２６”を３０人配したもので、実施
例Ｂ、比較例Ｂは硬質炭素膜１８０人、フオンフ゛リン
ｚ−２６を６０人配したものである。
例Ｂ、比較例Ｂは硬質炭素膜１８０人、フオンフ゛リン
ｚ−２６を６０人配したものである。
夫々を改造した８ミリビデオにより、ギャップ長０．１
８μｍのアモルファス合金を用いたメタルインギャップ
型の磁気ヘッドにより、キャリア周波数を６（＠）から
８（融）にあげて、帯域１０（川）のＣ／Ｎを比較した
。実施何人を○（ｄＢ）とすると比較何人は＋０．９
（ｄＢ） 、 実施例Ｂは−２，２（ｄＢ） 。
８μｍのアモルファス合金を用いたメタルインギャップ
型の磁気ヘッドにより、キャリア周波数を６（＠）から
８（融）にあげて、帯域１０（川）のＣ／Ｎを比較した
。実施何人を○（ｄＢ）とすると比較何人は＋０．９
（ｄＢ） 、 実施例Ｂは−２，２（ｄＢ） 。
比較例Ｂは−１，５（ｄＢ）であった。又スチル状態で
出力が初期から２（ｄＢ）出力が低下するまでの時間は
、実施例ムは４９分、実施例Ｂは８２分、比較何人は３
６分、比較例Ｂは５ｏ分であり、耐久性とＣ／Ｎのバラ
ンスからいって、実施何人が最も優れていることがわか
る。
出力が初期から２（ｄＢ）出力が低下するまでの時間は
、実施例ムは４９分、実施例Ｂは８２分、比較何人は３
６分、比較例Ｂは５ｏ分であり、耐久性とＣ／Ｎのバラ
ンスからいって、実施何人が最も優れていることがわか
る。
発明の効果
以上のように本発明によれば、耐久性と短波長域でのＣ
／Ｎの改良された磁気記録媒体が得られるといったすぐ
れた効果がある。
／Ｎの改良された磁気記録媒体が得られるといったすぐ
れた効果がある。
図は本発明に係る一実施例の磁気記録媒体の拡大断面図
である。 １・・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・微粒子
塗布層、３・・・・・・結晶粒界をもたない強磁性金属
薄膜、４・・・・・・保護潤滑層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／−
−−高分子フィルム ？−−−歓散子診布１ ３− 箱品粒界署したｒｊＬｔ 強１１性、４漬薄膜 ４− 保護澗滑１
である。 １・・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・微粒子
塗布層、３・・・・・・結晶粒界をもたない強磁性金属
薄膜、４・・・・・・保護潤滑層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／−
−−高分子フィルム ？−−−歓散子診布１ ３− 箱品粒界署したｒｊＬｔ 強１１性、４漬薄膜 ４− 保護澗滑１
Claims (1)
- 高分子フィルム上に微粒子塗布層を配した上に、結晶粒
界の観察されない強磁性金属薄膜と、保護潤滑層とを積
層したことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62324623A JPH01166324A (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62324623A JPH01166324A (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01166324A true JPH01166324A (ja) | 1989-06-30 |
Family
ID=18167884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62324623A Pending JPH01166324A (ja) | 1987-12-22 | 1987-12-22 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01166324A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61120345A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61148625A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 垂直磁化記録媒体の製造方法 |
-
1987
- 1987-12-22 JP JP62324623A patent/JPH01166324A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61120345A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61148625A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 垂直磁化記録媒体の製造方法 |
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