JPH01162384A - 酸化物超電導素子 - Google Patents
酸化物超電導素子Info
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、酸化物超電導体を用いた電子素子に係り、特
にトンネル効果を利用した超電導素子に関する。
にトンネル効果を利用した超電導素子に関する。
(従来の技術)
近年、Ba−La−Cu−0系の層状ペロブスカイト型
の酸化物が高い臨界温度を有する可能性のあることが発
表されて以来、各所で酸化物超電導体の研究が行われテ
ィる(Z、Phys、B Condensed Mat
ter64、189−193(1986))。その中で
もY−Ba−Cu−0系で代表される酸素欠陥を有する
欠陥ペロブスカイト型(LnBa2 Cu3 o7−
δ型)(δは酸素欠陥を表わし通常1以下、Lnは、Y
、 LaXSc、 Nd、 Pm、 Sm、 [u。
の酸化物が高い臨界温度を有する可能性のあることが発
表されて以来、各所で酸化物超電導体の研究が行われテ
ィる(Z、Phys、B Condensed Mat
ter64、189−193(1986))。その中で
もY−Ba−Cu−0系で代表される酸素欠陥を有する
欠陥ペロブスカイト型(LnBa2 Cu3 o7−
δ型)(δは酸素欠陥を表わし通常1以下、Lnは、Y
、 LaXSc、 Nd、 Pm、 Sm、 [u。
Gd、 Dy、 llo、 Er、 Tm、 Ybおよ
び[Uがら選ばれた少なくとも1種の元素、Baの一部
はSr等で置換可能)の酸化物超電導体は、臨界温度が
90に以上と液体窒素以上の高い温度を示すため非常に
有望な材料として注目されている(Phys、、Rev
、Lett、Vol、58No、 9.908−910
)。
び[Uがら選ばれた少なくとも1種の元素、Baの一部
はSr等で置換可能)の酸化物超電導体は、臨界温度が
90に以上と液体窒素以上の高い温度を示すため非常に
有望な材料として注目されている(Phys、、Rev
、Lett、Vol、58No、 9.908−910
)。
ところで、トンネル効果を利用した超電導素子は、超高
速動作が可能で消費電力も僅がであるため、コンピュー
タの論理素子やメモリ素子等のデジタルデバイスへの応
用が進められている。そして、Nb/ ”oxide
/ Nl)接合やNbN/ Hり0/旧)N接合等を用
いた4ビット乗算器、3にゲートアレイ等が試作されて
いる。また、超電導体−半導体素子として超電導3端子
素子が試作されているが、これらの素子はいずれも臨界
F、度が低い超電導体からなり、液体ヘリウムを冷媒と
して用いるため、周辺技術の開発や経済性の問題等から
実用化には至っていない。
速動作が可能で消費電力も僅がであるため、コンピュー
タの論理素子やメモリ素子等のデジタルデバイスへの応
用が進められている。そして、Nb/ ”oxide
/ Nl)接合やNbN/ Hり0/旧)N接合等を用
いた4ビット乗算器、3にゲートアレイ等が試作されて
いる。また、超電導体−半導体素子として超電導3端子
素子が試作されているが、これらの素子はいずれも臨界
F、度が低い超電導体からなり、液体ヘリウムを冷媒と
して用いるため、周辺技術の開発や経済性の問題等から
実用化には至っていない。
このため、高い臨界温度を有する酸化物超電導体を前述
の超電導素子に応用することが検討されている。
の超電導素子に応用することが検討されている。
しかしながら、この酸化物超電導体を用いて上記超電導
素子を1(9る場合、酸化物超電導体層形成時の高温熱
処理や、酸化物超電導体に酸素を導入する時の高温熱処
理により、酸化物超電導体層間に介在させた電気絶縁物
層(以下、トンネルバリア層と称す)と酸化物超電導体
とが反応して超電導特性が低下または消滅し、所望の特
性を得ることが困難であるという問題があった。
素子を1(9る場合、酸化物超電導体層形成時の高温熱
処理や、酸化物超電導体に酸素を導入する時の高温熱処
理により、酸化物超電導体層間に介在させた電気絶縁物
層(以下、トンネルバリア層と称す)と酸化物超電導体
とが反応して超電導特性が低下または消滅し、所望の特
性を得ることが困難であるという問題があった。
(発明が解決しJ:うとする問題点)
このように、酸化物超電導体を用いてトンネル効果を利
用した超電導素子を得るにあったでは高温熱処理を必要
とするため、高温熱処理により酸化物超電導体層間に介
在さμた1〜ンネルバリア層と酸化物超電導体とが反応
して、所望の特性を得ることが困難であるという問題が
あった。
用した超電導素子を得るにあったでは高温熱処理を必要
とするため、高温熱処理により酸化物超電導体層間に介
在さμた1〜ンネルバリア層と酸化物超電導体とが反応
して、所望の特性を得ることが困難であるという問題が
あった。
本発明はかかる従来の難点を解決すべくなされたもので
、高温熱処理時においても安定で酸化物超電導体と反応
しないトンネルバリア層を有する酸化物超電導素子を提
供することを目的とする。
、高温熱処理時においても安定で酸化物超電導体と反応
しないトンネルバリア層を有する酸化物超電導素子を提
供することを目的とする。
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段)
すなわち、本発明の酸化物超電導素子は、超電導体層の
間に電気絶縁物の薄層を介在させて、トンネル効果によ
り電気絶縁物の薄層を通じて前記超電導体層間に電圧を
発生させずに電流を流す超電導素子において、 超電導体どして酸化物超電導体を用い、電気絶縁物とし
て非導電性酸化物を用いるとともに、前記非導電性酸化
物の酸化物超電導体と接する面に耐酸化性金属層を設け
てなることを特徴としている。
間に電気絶縁物の薄層を介在させて、トンネル効果によ
り電気絶縁物の薄層を通じて前記超電導体層間に電圧を
発生させずに電流を流す超電導素子において、 超電導体どして酸化物超電導体を用い、電気絶縁物とし
て非導電性酸化物を用いるとともに、前記非導電性酸化
物の酸化物超電導体と接する面に耐酸化性金属層を設け
てなることを特徴としている。
本発明には各種の酸化物超電導体を用いることができる
が、臨界温度の高い、希土類元素含有のペロブスカイト
型の酸化物超電導体を用いた場合に特に実用的効果が大
きい。
が、臨界温度の高い、希土類元素含有のペロブスカイト
型の酸化物超電導体を用いた場合に特に実用的効果が大
きい。
上記の希土類元素を含有しペロブスカイト型構造を有す
る酸化物超電導体は、超電導状態を実現できるものであ
ればよく、1.nBa Cu O系(δ (δは酸素欠陥を表し通常1以下の数、[nは、Y、L
a、 Sc、 Ce、 Pr、 Pm、 Nd、 Pm
、 Sm、Eu1Gd、 Tb。
る酸化物超電導体は、超電導状態を実現できるものであ
ればよく、1.nBa Cu O系(δ (δは酸素欠陥を表し通常1以下の数、[nは、Y、L
a、 Sc、 Ce、 Pr、 Pm、 Nd、 Pm
、 Sm、Eu1Gd、 Tb。
DV、 11o、ErSTm、 Ybおよび1uから選
ばれた少なくとも1種の元素、Baの一部はSr等で置
換可能)等の酸素欠陥を有する欠陥ペロブスカイト型、
5r−La−Cu−0系等の層状ペロブスカイト型等の
広義にペロブスカイト型を有する酸化物が例示される。
ばれた少なくとも1種の元素、Baの一部はSr等で置
換可能)等の酸素欠陥を有する欠陥ペロブスカイト型、
5r−La−Cu−0系等の層状ペロブスカイト型等の
広義にペロブスカイト型を有する酸化物が例示される。
また希土類元素も広義の定義とし、Sc、 Yおよび
La系を含むものとする。代表的な系としてY−Ba−
Cu−0系のぽかに、YをEu、 Dy、Ho、Er、
Tm、 Yb、 Lu等の希土類で置換した系、5c
−Ba−Cu−0系、5r−La−CU−O系、さらに
はSrをBa、 Caで置換した系等が挙げられる。
La系を含むものとする。代表的な系としてY−Ba−
Cu−0系のぽかに、YをEu、 Dy、Ho、Er、
Tm、 Yb、 Lu等の希土類で置換した系、5c
−Ba−Cu−0系、5r−La−CU−O系、さらに
はSrをBa、 Caで置換した系等が挙げられる。
本発明に用いる耐酸化性金属は、耐酸化性に優れるとと
もに高融点であることが好ましく、このような金属とし
ては、Au(金)、Au−Pt (金−白金)合金、A
u−Si (金−ケイ素)合金、A(+(銀)、酊−P
d(銀−パラジウム)合金、PtXAg−pt (銀−
白金)合金等が例示される。
もに高融点であることが好ましく、このような金属とし
ては、Au(金)、Au−Pt (金−白金)合金、A
u−Si (金−ケイ素)合金、A(+(銀)、酊−P
d(銀−パラジウム)合金、PtXAg−pt (銀−
白金)合金等が例示される。
また、本発明に用いる電気絶縁物は、基本的に製造時の
高温熱処理温度より融点の高い非導電性酸化物であれば
よい。
高温熱処理温度より融点の高い非導電性酸化物であれば
よい。
本発明の酸化物超電導素子は、真空蒸着法、マグネトロ
ンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、クラスタイオ
ンビーム法、分子線エピタキシ法等の物理蒸着法や、C
VD、プラズマCVD等の化学気相蒸着法により、たと
えばトンネル接合型のジョセフソン素子の場合は、基板
上に酸化物超電導体層、耐酸化性金属層、トンネルバリ
ア層、耐酸化性金属層および酸化物超電導体層を順次積
層することにJ:す、得ることができる。
ンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、クラスタイオ
ンビーム法、分子線エピタキシ法等の物理蒸着法や、C
VD、プラズマCVD等の化学気相蒸着法により、たと
えばトンネル接合型のジョセフソン素子の場合は、基板
上に酸化物超電導体層、耐酸化性金属層、トンネルバリ
ア層、耐酸化性金属層および酸化物超電導体層を順次積
層することにJ:す、得ることができる。
このとぎの各層の厚さは、酸化物超電導体層は超電導特
性を示す厚さ、すなわち概ね12Å以上、トンネルバリ
ア層の厚さはトンネル効果を阻害しない厚さ、すなわち
5〜30人、各耐酸化性金属層の厚さは1ヘンネル効果
を阻害せずかつ酸化物超電導体と電気絶縁物との反応を
防止することができる厚さ、すなわら2〜15人である
ことが好ましい。
性を示す厚さ、すなわち概ね12Å以上、トンネルバリ
ア層の厚さはトンネル効果を阻害しない厚さ、すなわち
5〜30人、各耐酸化性金属層の厚さは1ヘンネル効果
を阻害せずかつ酸化物超電導体と電気絶縁物との反応を
防止することができる厚さ、すなわら2〜15人である
ことが好ましい。
なお、このとき用いる酸化物超電導体の原料としては、
Y203 、CuO@の酸化物や炭酸塩、硝酸塩、水酸
化物等の化合物、あるいは共沈法等で得たシュウ酸塩等
の原料粉末を製造条件等に応じて所望の割合いで混合し
、仮焼、粉砕して所望の形状にした後、850〜980
°C程度で焼成して得たバルクや、上述の原料の溶融液
、あるいは酸化物超電導体を構成する元素の各単金属の
溶融液等を用いることができる。
Y203 、CuO@の酸化物や炭酸塩、硝酸塩、水酸
化物等の化合物、あるいは共沈法等で得たシュウ酸塩等
の原料粉末を製造条件等に応じて所望の割合いで混合し
、仮焼、粉砕して所望の形状にした後、850〜980
°C程度で焼成して得たバルクや、上述の原料の溶融液
、あるいは酸化物超電導体を構成する元素の各単金属の
溶融液等を用いることができる。
本発明の酸化物超電導素子は、各物質層を形成した後、
必要に応じて酸素含有雰囲気中400〜900℃で熱処
理し、酸化物超電導体の酸素空席に酸素を導入して超電
導特性を向上させる。
必要に応じて酸素含有雰囲気中400〜900℃で熱処
理し、酸化物超電導体の酸素空席に酸素を導入して超電
導特性を向上させる。
このようにして得られた酸化物超電導素子を構成する酸
化物超電導体は、酸素欠陥δを右する酸素欠陥型ペロブ
スカイト構造(LnBa2Cu307−δ(δは通常1
以下))となる。なお、BaをSr、 Caの少なくと
も1種で置換することもでき、ざらにCuの一部をTi
、 V、 Cr、 Hn、 re、、Co、 NiX
Zn等で置換することもできる。この置換量は、超電導
特性を低下させない程度の範囲で適宜設定可能であるが
、あまりに多量の置換は超電導特性を低下させてしまう
ので30mo 1%以下、さらに実用上は20mo1%
以下程度までとする。
化物超電導体は、酸素欠陥δを右する酸素欠陥型ペロブ
スカイト構造(LnBa2Cu307−δ(δは通常1
以下))となる。なお、BaをSr、 Caの少なくと
も1種で置換することもでき、ざらにCuの一部をTi
、 V、 Cr、 Hn、 re、、Co、 NiX
Zn等で置換することもできる。この置換量は、超電導
特性を低下させない程度の範囲で適宜設定可能であるが
、あまりに多量の置換は超電導特性を低下させてしまう
ので30mo 1%以下、さらに実用上は20mo1%
以下程度までとする。
また、同様にして超電導3端子素子や高感度磁気センナ
等を得ることもできる。
等を得ることもできる。
(作 用)
本発明の酸化物超電導素子は、トンネルバリア層と酸化
物超電導体層との間に耐酸化性金属を設りているため、
酸化物超電導体層形成時の高温熱処理、あるいは酸素導
入時の高温熱処理による電気絶縁物と酸化物超電導体と
の反応が防止され、超電導特性の低下が抑止される。ま
た、耐酸化性金属と酸化物超電導体との反応による超電
導特性の低下もないため、トンネル効果を利用した酸化
物超電導素子を得ることができる。
物超電導体層との間に耐酸化性金属を設りているため、
酸化物超電導体層形成時の高温熱処理、あるいは酸素導
入時の高温熱処理による電気絶縁物と酸化物超電導体と
の反応が防止され、超電導特性の低下が抑止される。ま
た、耐酸化性金属と酸化物超電導体との反応による超電
導特性の低下もないため、トンネル効果を利用した酸化
物超電導素子を得ることができる。
(実施例)
以下、本発明の実施例について説明する。
実施例1
まず、Y2O3粉末16.7110 IL BaCO3
粉末33.5mo1%、CuO粉末50.1mo1%を
用い、例えばジルコニアボールとともにモノボッ1−に
入れて湿式今差異を行った後、脱水乾燥を施し、加熱処
理して仮焼く850°C〜900℃、24h)、更に再
度モノポットに入れて湿式粉砕を行い、脱水乾燥を施し
粒径〜1μmの粉末(超電導体)を得る。粉砕混合は上
記例に限定されるものではなく、通常の方法を用いるこ
とができる。
粉末33.5mo1%、CuO粉末50.1mo1%を
用い、例えばジルコニアボールとともにモノボッ1−に
入れて湿式今差異を行った後、脱水乾燥を施し、加熱処
理して仮焼く850°C〜900℃、24h)、更に再
度モノポットに入れて湿式粉砕を行い、脱水乾燥を施し
粒径〜1μmの粉末(超電導体)を得る。粉砕混合は上
記例に限定されるものではなく、通常の方法を用いるこ
とができる。
次いで、前記原料粉末にポリビニルアルコールを加えて
造粒して造粒物を調整した。つづいて、前記各造粒物を
金型に充填し、1000kg/ c!の圧力下で加圧し
、直径154mm、厚さ6’、5mmの円盤状に金型成
形した。
造粒して造粒物を調整した。つづいて、前記各造粒物を
金型に充填し、1000kg/ c!の圧力下で加圧し
、直径154mm、厚さ6’、5mmの円盤状に金型成
形した。
次いで、成形物を酸素含有雰囲気中940℃で70時間
焼成して、Yl、0Ba2.0Cu3.0506.8で
表される酸化物超電導体からなる焼結密度が98%であ
るターゲット材料を得た。
焼成して、Yl、0Ba2.0Cu3.0506.8で
表される酸化物超電導体からなる焼結密度が98%であ
るターゲット材料を得た。
このターゲット材料と、反応ガスとして95mo1%の
アルゴンと5m01%の酸素からなる混合気体と、5r
Ti03からなる10X 10X 1mmの基板とを用
い、基板温度700℃、反応圧7Paで基板上に高周波
マグネトロンスパッタにより厚さ10μmの酸化物超電
導体層を作成した。
アルゴンと5m01%の酸素からなる混合気体と、5r
Ti03からなる10X 10X 1mmの基板とを用
い、基板温度700℃、反応圧7Paで基板上に高周波
マグネトロンスパッタにより厚さ10μmの酸化物超電
導体層を作成した。
また、同様にして、ターゲット材料としてAuおJ、び
Al2O3をそれぞれ用いて、酸化物超電導体層上に厚
さ 5人のAu層、厚さ10人のAl103層、および
厚さ5人のAu層を順次積層した後、Au層上に再び厚
さ1000人の酸化物超電導体層を作成した。
Al2O3をそれぞれ用いて、酸化物超電導体層上に厚
さ 5人のAu層、厚さ10人のAl103層、および
厚さ5人のAu層を順次積層した後、Au層上に再び厚
さ1000人の酸化物超電導体層を作成した。
しかる後、酸素含有雰囲気中900°Cで1時間熱処理
して、酸化物超電導体の酸素空席に酸素を導入して、ト
ンネル接合型の酸化物超電導素子を得た。
して、酸化物超電導体の酸素空席に酸素を導入して、ト
ンネル接合型の酸化物超電導素子を得た。
図面はこの素子の横断面を示づもので、同図において酸
化物超電導素子1は、酸化物超電導体層2、Au層3、
へI2O3層4.60層5および酸化物超電導体層6が
順次積層されて、構成されている。
化物超電導素子1は、酸化物超電導体層2、Au層3、
へI2O3層4.60層5および酸化物超電導体層6が
順次積層されて、構成されている。
このようにして得られた酸化物超電導素子の臨異温度は
90 Kであり、臨界電流密度1.5x105八/cイ
で、77kにおける1〜ンネル効果により電気絶縁物の
薄層を通じて電流が流れることが確認された。
90 Kであり、臨界電流密度1.5x105八/cイ
で、77kにおける1〜ンネル効果により電気絶縁物の
薄層を通じて電流が流れることが確認された。
実施例2〜実施例5
酸化物超電導体、耐酸化性金属および電気絶縁物の組成
を変えた以外は実施例1と同様にして、計5秤類の酸化
物超電導素子を得た。
を変えた以外は実施例1と同様にして、計5秤類の酸化
物超電導素子を得た。
これらの酸化物超電導素子の動作の有無を確認したとこ
ろ、いずれの素子も動作することが確認された。
ろ、いずれの素子も動作することが確認された。
なお、実施例コないし実施例5で得た酸化物超電導素子
を構成する酸化物超電導体の系、耐酸化性金属層および
電気絶縁物層の組成、各素子の臨界温度および臨界電流
の一覧を、第1表に示す。
を構成する酸化物超電導体の系、耐酸化性金属層および
電気絶縁物層の組成、各素子の臨界温度および臨界電流
の一覧を、第1表に示す。
(以下余白)
**: Y−Ba−Cu−0、Er−Ba−Cu−0、
Nd−Ba−Cu−0が、それぞれAl2O3、ZrO
2、MgOと反応して、超電導特性を示さな力じた。
Nd−Ba−Cu−0が、それぞれAl2O3、ZrO
2、MgOと反応して、超電導特性を示さな力じた。
比較例1
実施例1の比較例として、耐酸化性金属層を設けなかっ
た以外は実施例1と同様にして酸化物超電導素子を得た
ところ、素子は動作しなかった。
た以外は実施例1と同様にして酸化物超電導素子を得た
ところ、素子は動作しなかった。
比較例2 i15よび比較例3
実施例2および実施例3の比較例として、耐酸化性金属
層を設けなかった以外は実施例2および実施例3と同様
にして酸化物超電導素子を得たところ、いずれの素子も
動作しなかった。
層を設けなかった以外は実施例2および実施例3と同様
にして酸化物超電導素子を得たところ、いずれの素子も
動作しなかった。
なお、比較例1ないし比較例5で得た酸化物超電導素子
を構成する酸化物超電導体の系、電気絶縁物層の組成、
各素子の臨界温度および動作の有無を、第1表に併記す
る。
を構成する酸化物超電導体の系、電気絶縁物層の組成、
各素子の臨界温度および動作の有無を、第1表に併記す
る。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の酸化物超電導素子は、臨
界温度の高い酸化物超電導体を用い、トンネル効果によ
り電気絶縁物の薄層を通じて酸化物超電導体間に電圧を
発生させ−ずに電流を流すことかできる。
界温度の高い酸化物超電導体を用い、トンネル効果によ
り電気絶縁物の薄層を通じて酸化物超電導体間に電圧を
発生させ−ずに電流を流すことかできる。
したがって、本発明の酸化物超電導素子を用いることに
より、超高速動作で低消費電力のIC、トランジスタ、
高感度磁気センサ等を製造することが可能となる。ざら
に、本発明の酸化物超電導素子をトンネル接合型の素子
とした場合には、耐酸化性金属層を通じて制御電流を印
加することができるため、酸化物超電導素子の制御を容
易に行うことができる。
より、超高速動作で低消費電力のIC、トランジスタ、
高感度磁気センサ等を製造することが可能となる。ざら
に、本発明の酸化物超電導素子をトンネル接合型の素子
とした場合には、耐酸化性金属層を通じて制御電流を印
加することができるため、酸化物超電導素子の制御を容
易に行うことができる。
図は実施例で得たトンネル接合型の酸化物超電導素子の
横断面図である。 1・・・・・・・・・酸化物超電導素子2.6・・・酸
化物超電導体層 3.5・・・銀層 4・・・・・・・・・Al2O3層 出願人 株式会社 東芝
横断面図である。 1・・・・・・・・・酸化物超電導素子2.6・・・酸
化物超電導体層 3.5・・・銀層 4・・・・・・・・・Al2O3層 出願人 株式会社 東芝
Claims (5)
- (1)超電導体層の間に電気絶縁物の薄層を介在させて
、トンネル効果により前記電気絶縁物の薄層を通じて前
記超電導体層間に電圧を発生させずに電流を流す超電導
素子において、 超電導体として酸化物超電導体を用い、電気絶縁物とし
て非導電性酸化物を用いるとともに、前記非導電性酸化
物の酸化物超電導体と接する面に耐酸化性金属層を設け
てなることを特徴とする酸化物超電導素子。 - (2)耐酸化性金属は、Au、Au−Pt合金、Au−
Si合金、Ag、Ag−Pd合金、ptまたはAg−P
t合金であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の酸化物超電導素子。 - (3)酸化物超電導体は、希土類元素を含有するペロブ
スカイト型の酸化物超電導体であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項または第2項記載の酸化物超電導素
子。 - (4)酸化物超電導体は、Ln元素(Lnは、希土類元
素から選ばれた少なくとも1種の元素)、BaおよびC
uを原子比で実質的に1:2:3の割合で含有すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第3項のいず
れか1項記載の酸化物超電導素子。 - (5)酸化物超電導体は、LnBa_2Cu_3O_7
_−_δ(δは酸素欠陥を表わす)で表わされる酸素欠
陥型ペロブスカイト構造を有することを特徴とする特許
請求の範囲第1項ないし第4項のいずれか1項記載の酸
化物超電導素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62321721A JP2653448B2 (ja) | 1987-12-19 | 1987-12-19 | 酸化物超電導素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62321721A JP2653448B2 (ja) | 1987-12-19 | 1987-12-19 | 酸化物超電導素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01162384A true JPH01162384A (ja) | 1989-06-26 |
JP2653448B2 JP2653448B2 (ja) | 1997-09-17 |
Family
ID=18135699
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62321721A Expired - Lifetime JP2653448B2 (ja) | 1987-12-19 | 1987-12-19 | 酸化物超電導素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2653448B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5528052A (en) * | 1992-07-20 | 1996-06-18 | International Business Machines Corporation | Superconductive-channel electric field-effect drive |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59103390A (ja) * | 1982-12-04 | 1984-06-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | トンネル接合型ジヨセフソン素子及びその製法 |
JPS62172772A (ja) * | 1986-01-27 | 1987-07-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 超伝導素子の製造方法 |
JPS63299281A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Toshiba Corp | 超伝導素子 |
-
1987
- 1987-12-19 JP JP62321721A patent/JP2653448B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59103390A (ja) * | 1982-12-04 | 1984-06-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | トンネル接合型ジヨセフソン素子及びその製法 |
JPS62172772A (ja) * | 1986-01-27 | 1987-07-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 超伝導素子の製造方法 |
JPS63299281A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-06 | Toshiba Corp | 超伝導素子 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5528052A (en) * | 1992-07-20 | 1996-06-18 | International Business Machines Corporation | Superconductive-channel electric field-effect drive |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2653448B2 (ja) | 1997-09-17 |
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