JPH01162231A - 薄膜磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 薄膜型の磁気記録媒体において、磁性膜をスパッタによ
って形成する方法に関し、 基板の円周方向において、均一な条件でスパッタが行な
われるようにすることを目的とし、非磁性の基板を、一
対のターゲット間に配置することで、基板に磁性膜をス
パッタによって成膜する際に、 基板とターゲットとの間に、基板とターゲット間を結ぶ
方向に貫通する貫通孔を多数有する遮蔽手段を設け、基
板に対し垂直方向から飛来する成分のみが基板に到達し
被着されるように構成する。

〔産業上の利用分野〕

磁気ディスク装置における記録媒体である磁気記録媒体
には、非磁性の円板に磁性塗料を塗布してなる塗膜型と
、Ｃｏ−ＮｉやＣｏ−Ｐｔなどの磁性金属を成膜して成
る薄膜型とがある。本発明は、後者の薄膜型の磁気記録
媒体において、磁性膜をスパッタによって形成する方法
に関する。

〔従来の技術〕

第３図は従来の薄膜磁気記録媒体の全容を示す断面図で
ある。１は例えばアルミニウムなどのような非磁性体か
らなる基板（円板）であり、その上に下地層２、磁性膜
３、保護膜４の順に積層されている。

第４図は従来の磁気記録媒体の断面構造を示す図であり
、磁性膜３が酸化鉄（γ−ＦｅｚＯ，，）によって形成
されている。基板１はアルミニウムからなっており、そ
の表面を酸化させてアルマイト（八１２０３）層を形成
することで下地層２としている。磁性膜３は、７−Ｆｅ
、Ｏ，のスパッタ法で形成される。

保護膜４は、カーボンやＳｉｎｇをスパッタすることで
形成される。

磁性膜３としては、酸化鉄（Ｔ　　ＦｅｚＯ＊）のほか
に、ＣｏＮｉ、　ＣｏＮｉＣｒなどが使用される。

この磁性膜３を形成するには、第５図〜第７図に示すよ
うな方法が採られている。第５図はパ静止対向型゛°と
呼ばれる方法であり、基板１の両側にリング状のターゲ
ット５１．５２が配置され、かつ基板１とリング状ター
ゲット５１．５２との中心が一致している。そのため、
基板ｌは中心から半径方向に、同一条件でスパッタが行
なわれるので、磁性膜の磁気特性が円周方向の全周にお
いて均一となり、情報の記録／再生が正確に行なわれる
。

第６図は、静止型のうち基板を回転させる方式であり、
基板１の両側にターゲット６１．６２が配設されている
。この方式は、ターゲット６１．６２が基板１の中心に
対し点対称になっていないため、基板１の円周方向に均
一な磁気特性が得られない。

そのため、基板１を回転させることで、被着条件を均一
化し、磁気特性の均一化を図っている。しかしながら、
基板１を回転可能に支持する摺動部からの発塵のために
欠陥を引き起こす恐れがあり、実用性に欠ける。

第７図は、同時に多数の基板１…にスパッタを行なう方
法であり、通過型ないしインライン方式と呼ばれている
。７は支持板であり、その各円形孔に基板１…が挿入支
持されている。そして支持板７が、ターゲット６１．６
２の間を移動する。この方法は、同時に多数の基板に磁
性膜のスパッタを行なうことができるが、各基板１…に
おいて、その中心に対し点対称の条件でスパッタが行な
われないため、円周方向において、磁気特性が均一とな
らず、情報の記録／再生に支障を来している。

〔発明が解決しようとする問題点］ 第８図は、この通過型のスパッタ方法における被着模様
を示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は基板の側面
図である。ターゲット６１．６２からは四方六方に分子
が飛散するため、基板１がターゲット６１と６２との間
を通過する際に、基板１がターゲット６１．６２間に進
入する最初の時点においては、矢印１ａで示すように、
基板１に対し斜め方向から分子が飛来し被着される。つ
まり（ｂ）に示すように、基板１の前後の領域１ａ、１
ｂにおいては、基板１に対し径方向に分子が飛来し、被
着される。

ところが基板１の上下の領域ＩＣ２１ｄにおいては、基
板ｌに対し円周方向に分子が飛来し、被着される。この
ように基板１において、はぼ９０度おきに被着条件が変
化するために、基板ｌの円周方向において、磁気特性が
変化するという問題がある。

そのためテクスチャーと称して、基板１の下地層２の成
膜前に、基板ｌに、円周方向の微細な傷をつけることで
、磁気特性の改善を図ることが行なわれている。このテ
クスチャー処理により、磁気ヘッド浮上マージンが面粗
さの分だけ悪くなる問題が発生する。

本発明の技術的課題は、従来の薄膜磁気記録媒体の製造
方法におけるこのような問題を解消し、テクスチャー処
理を施さない基板の円周方向において、均一な条件でス
パッタが行なわれるようにすることにある。

〔問題点を解決するための手段〕

第１図は本発明による薄膜磁気記録媒体の製造方法の基
本原理を説明する図である。６１６２はターゲットであ
り、両者の間に基板１が配設されることで、磁性膜のス
パッタが行なわれる。両ターゲット６１．６２と基板ｌ
との間には、遮蔽手段９１．９２が配設されている。遮
蔽手段９１．９２は、基板１とターゲット６１．６２間
を結ぶ方向に貫通する貫通孔８…を多数有している。

このような遮蔽手段９１．９２を通してスパッタを行な
うことにより、基板１に対し垂直方向から飛来する分子
のみが基板ｌに到達し、磁性膜の被着が行なわれる。

〔作用〕

基板ｌは、破線１１で示す位置から、両ターゲット６１
．６２間に進入し、両ターゲット６１．６２間を通過し
て鎖線１２で示す位置に到達する。ところが、遮蔽手段
９１．９２は、両ターゲット６１．６２間に位置してい
る基板１に向けて貫通する貫通孔８…を有しているため
、ターゲット６１．６２から発生した分子は、基板１に
向けて垂直方向から飛来する成分のみが基板１に到達し
被着される。基板１から斜めに方向に飛散した成分は、
遮蔽手段９１．９２の各貫通孔８…の側壁１０…に遮ら
れて、基板ｌに到達できない。

できない。

そのため、基板ｌがどの位置に有る場合であっても、ま
た基板１のどの領域でも、基板１に対し垂直方向から飛
来する成分のみが被着されることになる。その結果、基
板ｌの円周方向の総ての位置において、被着の条件が一
定し、磁気特性も均一化する。また同時に多数の基板に
スパッタを行なう場合でも、総ての基板が、垂直方向か
ら飛来する成分のみが被着されるので、均一の条件でス
パッタされる。

〔実施例〕

次に本発明による薄膜磁気記録媒体の製造方法が実際上
どのように具体化されるかを実施例で説明する。第２図
は本発明方法に実施する遮蔽手段の実施例を示す斜視図
である。この遮蔽手段は、帯板を格子状に組合わせるこ
とで、多数の貫通孔８…を形成したものである。

この遮蔽手段を、第１図に示した要領で、ターゲット６
１．６２と基板１との間に配置して、スパッタを行なう
と、ターゲット６１．６２から飛散した分子のうち、斜
め方向に飛散した成分は、側壁１０に遮られて、基板ｌ
に到達できず、基板１に対し垂直方向から飛来した成分
のみが基板ｌに到達し、被着される。

図示例では、貫通孔８…が四角形になっているが、円形
あるいは三角形、その他の多角形であってもよい。

なお本発明は、第６図に示すように基板を回転させるス
パッタ法、あるいは第７図のように多数の基板を同時に
スパッタする方法等のいずれにも適用できる。第７図の
ように多数の基板ｌ…に同時にスパッタする場合は、総
ての基板１…が均一の条件でスパッタされる利点がある
。

〔発明の効果］ 以上のように本発明によれば、基板１と一対のターゲッ
ト６１．６２との間に、基板１とターゲット６１．６２
間を結ぶ方向に貫通する貫通孔８…を多数有する遮蔽手
段９１．９２を設けるため、基板１に対し垂直方向から
飛来する成分のみが基板１に到達し、磁性膜の被着が行
なわれる。その結果、基板１の円周方向の総ての位置に
おいて、均一の条件でスパッタが行なわれ、磁気特性が
一定となるので、情報の記録／再生が正確に行なわれ、
信頼性の高い薄膜磁気記録媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による薄膜磁気記録媒体の製造方法の基
本原理を説明する平面図、第２図は本発明に実施する遮
蔽手段の実施例を示す斜視図、第３図は従来の薄膜磁気
記録媒体の全容を示す断面図、第４図は従来の磁気記録
媒体の断面構造を示す図、第５図〜第７図は従来の各種
スパッタ方法を示す斜視図、第８図は通過型のスパッタ
方法における被着模様を示す図、第９図は従来のスパッ
タ法によって成膜された薄膜磁気記録媒体の磁気特性を
示す図である。 図において、１は基板、５１．５２．６１．６２はター
ゲット、８…は貫通孔、９１．９２は遮蔽手段、１０…
は側壁をそれぞれ示す。 特許出願人　　　　　富士通株式会社 復代理人　弁理士　　福　島　康　文 木登日月の基本原理 第１図 実施例 第３図 従来の磁気記錬條体 通皿型スパッタ法 第７図 須Ｉ吐セスバッ５７法における械Ａ對Ｉ某第８図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 非磁性の基板１を、一対のターゲット６１、６２間に配
   置することで、基板１に磁性膜をスパッタによって成膜
   する際に、 基板１とターゲット６１、６２との間に、基板１とター
   ゲット６１、６２間を結ぶ方向に貫通する貫通孔８…を
   多数有する遮蔽手段９１、９２を設け、基板１に対し垂
   直方向から飛来する成分のみが基板１に到達し被着され
   るようにしたことを特徴とする薄膜磁気記録媒体の製造
   方法。