JPH01157997A - 新規なα―ジアゾアセト酢酸エステル - Google Patents
新規なα―ジアゾアセト酢酸エステルInfo
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- JPH01157997A JPH01157997A JP31400187A JP31400187A JPH01157997A JP H01157997 A JPH01157997 A JP H01157997A JP 31400187 A JP31400187 A JP 31400187A JP 31400187 A JP31400187 A JP 31400187A JP H01157997 A JPH01157997 A JP H01157997A
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Landscapes
- Steroid Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光感応性材料として、極めて有用な新規物質
に関する。
に関する。
更に詳しくは、α−ジアゾアセト酢酸エステルおよびそ
の前駆体に関するものである。
の前駆体に関するものである。
芳香環を含むジアゾケトン化合物は、300 nm以上
の光lこ感応する材料として、レジストの感光剤等に使
用されているが、300nm 以下の光に対しては感度
が恕く、ブリーチング作用も起こらないという欠点があ
った。一方、300nm 以下の光に感応するジアゾケ
トン化合物おしては、ビー・デイ−・グランドらがアイ
・イー・イー・イー・トランザクション オン エレク
トロン テハイシス、第28巻、第1300頁(19s
1 ) (B−D、 Grantetal 、 LEE
ETrans Electron Devices、
ED−281300(1981) で述べているよう
に、5−ジアゾメルドラム酸およびその誘導体等が知ら
れている力\これらの材料は、ブリーチング作用に優れ
ているも0〕の、溶解性が乏しく、また、昇華性がある
などの問題があり、実用上、その改讐が強く望韮れてい
た。
の光lこ感応する材料として、レジストの感光剤等に使
用されているが、300nm 以下の光に対しては感度
が恕く、ブリーチング作用も起こらないという欠点があ
った。一方、300nm 以下の光に感応するジアゾケ
トン化合物おしては、ビー・デイ−・グランドらがアイ
・イー・イー・イー・トランザクション オン エレク
トロン テハイシス、第28巻、第1300頁(19s
1 ) (B−D、 Grantetal 、 LEE
ETrans Electron Devices、
ED−281300(1981) で述べているよう
に、5−ジアゾメルドラム酸およびその誘導体等が知ら
れている力\これらの材料は、ブリーチング作用に優れ
ているも0〕の、溶解性が乏しく、また、昇華性がある
などの問題があり、実用上、その改讐が強く望韮れてい
た。
本発明の目的は、上記した材料の欠点を補い、%fこ、
ブリーチング作用、溶解性に優れ昇華性のないことを特
徴とする300 nm 以下の光に感応するジアゾケト
ン化合物を提供することにある。
ブリーチング作用、溶解性に優れ昇華性のないことを特
徴とする300 nm 以下の光に感応するジアゾケト
ン化合物を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明者は、棟々のジアゾ
ケトン化合物を合成した結果、300nm以下の光に感
応して効率良くブリーチングするとともに溶解性に優れ
、昇華性のないジアゾケトン化合物として、出発原料が
、コール酸、デオキシコール酸あるいはりトコール酸が
あり、かつ、下記−数式(りで示されるα−ジアゾアセ
ト酢酸エステルが、上記目的を満足する有用な化合物で
あることを見い出した。
ケトン化合物を合成した結果、300nm以下の光に感
応して効率良くブリーチングするとともに溶解性に優れ
、昇華性のないジアゾケトン化合物として、出発原料が
、コール酸、デオキシコール酸あるいはりトコール酸が
あり、かつ、下記−数式(りで示されるα−ジアゾアセ
ト酢酸エステルが、上記目的を満足する有用な化合物で
あることを見い出した。
但し、R+は、−CO2H,−CO2R9(ここでR9
は芳香環を含まない一価の有機基で、例えば、CI”C
100N’20 II II II のアルキル基等が良い。)および−Ch20C−C−C
−CHaから選ばれた一種I R2+ R31R4は、
−H,−OH,お式(1)中lこは少なくとも1個のα
−ジアゾアセト酢酸エステル基が含まれるものである。
は芳香環を含まない一価の有機基で、例えば、CI”C
100N’20 II II II のアルキル基等が良い。)および−Ch20C−C−C
−CHaから選ばれた一種I R2+ R31R4は、
−H,−OH,お式(1)中lこは少なくとも1個のα
−ジアゾアセト酢酸エステル基が含まれるものである。
本発明のα−ジアゾアセト酢酸エステルは、以下のよう
(こして合成することができる。
(こして合成することができる。
出発原料は、コール酸、デオキシコール酸あるいはりト
コール酸であり、出発原料、出発原料のR9エステル坏
(ここでR9は芳香i+含まない一価の有機基で、例え
ば、C1〜Csoのアルキル基等が良い。)あるいは出
発原料の還元体の水酸基のうち、少なくとも1個を、酸
触媒下におけるアセト酢熾エステルとのエステル又換反
応あるいは酸触媒下icSけるジケテンとの反応等を用
いて、アセト酢酸エステル基に変換し、下記−数式(2
)で示される一般式(1)に対応した前駆体を得る。
コール酸であり、出発原料、出発原料のR9エステル坏
(ここでR9は芳香i+含まない一価の有機基で、例え
ば、C1〜Csoのアルキル基等が良い。)あるいは出
発原料の還元体の水酸基のうち、少なくとも1個を、酸
触媒下におけるアセト酢熾エステルとのエステル又換反
応あるいは酸触媒下icSけるジケテンとの反応等を用
いて、アセト酢酸エステル基に変換し、下記−数式(2
)で示される一般式(1)に対応した前駆体を得る。
但し、R5は一■2H,CO2R9および0 曾
l
−CH2O−C−CH2−C−CHsから選ばれた一種
、 Rs + R7選ばれた一種で、−数式(2)には
少なくとも1個のアセト酢酸エステル基が含まれている
。次いで、アセト酢酸エステル基+P−)ルエンスルホ
ニルアジドとアミンの反応等を用いて、α−ジアゾアセ
ト酢酸エステル基に変換すると、−数式(1)に示され
る本発明のα−ジアゾアセト酢酸エステルが生成する。
、 Rs + R7選ばれた一種で、−数式(2)には
少なくとも1個のアセト酢酸エステル基が含まれている
。次いで、アセト酢酸エステル基+P−)ルエンスルホ
ニルアジドとアミンの反応等を用いて、α−ジアゾアセ
ト酢酸エステル基に変換すると、−数式(1)に示され
る本発明のα−ジアゾアセト酢酸エステルが生成する。
本発明OJα−ジアゾアセト酢酸エステルは、1個のα
−ジアゾアセト酢酸エステル基に対して、約260 n
m ζこε約7000の光吸収を持つが、光照射する
とカルボン酸に変化してεが約900まで減少し、効率
の良い大きなフリーチング作用を示す。
−ジアゾアセト酢酸エステル基に対して、約260 n
m ζこε約7000の光吸収を持つが、光照射する
とカルボン酸に変化してεが約900まで減少し、効率
の良い大きなフリーチング作用を示す。
また、本発明のα−ジアノアセト酢酸エステルは溶解性
に梗れ、エーテル系、ケトン系、アルコール系、ハロゲ
ン系等の通常の有機溶媒に容易に溶解する。さらに昇華
性もない。したがって、本発明のα−ジアゾアセト酢酸
エステルは、それ自体あるいは樹脂等との組成物として
成膜することができ、光感応性材料として、例えば、レ
ジヌトの感光剤等として、極めて有用である。
に梗れ、エーテル系、ケトン系、アルコール系、ハロゲ
ン系等の通常の有機溶媒に容易に溶解する。さらに昇華
性もない。したがって、本発明のα−ジアゾアセト酢酸
エステルは、それ自体あるいは樹脂等との組成物として
成膜することができ、光感応性材料として、例えば、レ
ジヌトの感光剤等として、極めて有用である。
本発明のα−ジアゾアセト酢酸エステルは、感光基とし
て、−0−C−C−C−C)13 を用いることにより
、300nm 以下OJ光に効率良く反応して大きくブ
リーチングし、一方、エステル基としてステロイド骨格
を持つ大きな母体を結合させることにより浴解性が向上
し、昇華性がなくなったものと考えられる。
て、−0−C−C−C−C)13 を用いることにより
、300nm 以下OJ光に効率良く反応して大きくブ
リーチングし、一方、エステル基としてステロイド骨格
を持つ大きな母体を結合させることにより浴解性が向上
し、昇華性がなくなったものと考えられる。
以下、本発明の実施例のうち、いくつかについて具体的
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
実施例 1
環流管1滴下ロートおよび攪拌子を倫えた100m1三
ツロフラスコに、コール酸メチル2.11g(5,OO
mmoAり 1.4−ジオキサ710m7 +およびP
−トルエンスルホン醒水和物0.14gを入れ、加熱還
流する。次いで、攪拌しながら、ジケテン1.68 g
(20,0mmo/)の1.4−ジオキサン10mn1
G液i40分かけて滴下し、4時間熟成する。反応終了
後、溶媒を減圧下留去し、浅漬をジエチルエーテルtこ
溶解し、水および飽和食塩水で洗う。無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、ジエチルエーテルを留去し、カラムクロマ
トクラフイにて目的化合物を単離した。収量1.56g
、収率60,5チ NMRススベクトル(60MHz、 CDC1a )の
特徴的ビーク: 0 C(δ?)、53 ; C0−C)i3)強度比 A
:B:C=3:2:I IRスペクトルの%徴的ビーク: 1700σ−1,シC二〇 N2 N2 還流管および攪拌子を備えたニツロフラスコに、実施例
11こ記載の前駆体1.56.9 (2,31mmoA
り 。
ツロフラスコに、コール酸メチル2.11g(5,OO
mmoAり 1.4−ジオキサ710m7 +およびP
−トルエンスルホン醒水和物0.14gを入れ、加熱還
流する。次いで、攪拌しながら、ジケテン1.68 g
(20,0mmo/)の1.4−ジオキサン10mn1
G液i40分かけて滴下し、4時間熟成する。反応終了
後、溶媒を減圧下留去し、浅漬をジエチルエーテルtこ
溶解し、水および飽和食塩水で洗う。無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、ジエチルエーテルを留去し、カラムクロマ
トクラフイにて目的化合物を単離した。収量1.56g
、収率60,5チ NMRススベクトル(60MHz、 CDC1a )の
特徴的ビーク: 0 C(δ?)、53 ; C0−C)i3)強度比 A
:B:C=3:2:I IRスペクトルの%徴的ビーク: 1700σ−1,シC二〇 N2 N2 還流管および攪拌子を備えたニツロフラスコに、実施例
11こ記載の前駆体1.56.9 (2,31mmoA
り 。
トリエチルアミン0.779 (7,62mmo l
)およびアセトニトリル10m1を加え、さら憂こ、P
−トルエ7スにホニルアジド1.50.9 (7,62
mmol)のアセトニトリル5 m l溶液を滴下する
。室温で2時間攪拌した後、溶媒を減圧下留去し、ジエ
チルエーテルで抽出を行なう。ジエチルエーテル溶液を
、水酸化カリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。ジエチルエーテルを減圧
下留去し、エタノールから再結晶することにより、目的
化合物を得た。収量1.38,9.収率80.0%、融
点159°C NMRスペクトル(60Mflz、 CDCl5 )の
特徴的ビーク二 〇 A(δ2.42.2.46 ;CHa C)B(δ3
.60 、− C−0−CHs )強度比 A:B=3
:I IRスペクトルの特徴的ピーク A (2160cm−’ : v C=Nz )B
(1730cm−’ 、 1675 cmす;νC=
0)TJVスペクトル(THF中) λmaX 258nml ε24,500実施例5 あるいは ジケテンをコール酸メチルに対して2.2倍等量使い、
実施例1と同様の操作で目的化合物を得た。
)およびアセトニトリル10m1を加え、さら憂こ、P
−トルエ7スにホニルアジド1.50.9 (7,62
mmol)のアセトニトリル5 m l溶液を滴下する
。室温で2時間攪拌した後、溶媒を減圧下留去し、ジエ
チルエーテルで抽出を行なう。ジエチルエーテル溶液を
、水酸化カリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。ジエチルエーテルを減圧
下留去し、エタノールから再結晶することにより、目的
化合物を得た。収量1.38,9.収率80.0%、融
点159°C NMRスペクトル(60Mflz、 CDCl5 )の
特徴的ビーク二 〇 A(δ2.42.2.46 ;CHa C)B(δ3
.60 、− C−0−CHs )強度比 A:B=3
:I IRスペクトルの特徴的ピーク A (2160cm−’ : v C=Nz )B
(1730cm−’ 、 1675 cmす;νC=
0)TJVスペクトル(THF中) λmaX 258nml ε24,500実施例5 あるいは ジケテンをコール酸メチルに対して2.2倍等量使い、
実施例1と同様の操作で目的化合物を得た。
実施例4
あるいは
N2 N2
実施例31こ記載の前駆体を用いて実施例2と同様の操
作を行なうことにより目的化合物を得た。
作を行なうことにより目的化合物を得た。
ジケテンをコール酸メチルに対して11倍等量使い、実
施例1と同様の操作で目的化合物を得た。
施例1と同様の操作で目的化合物を得た。
実施例6
実施例5に記載の前躯体を用いて実施例1と同様の操作
を行なうことにより目的化合物を得た。
を行なうことにより目的化合物を得た。
コール酸−n−プロピル5.119 (11mmol)
。
。
シ’Iテン3.81 & (45,4mmo l )お
よびp−トルエンスルホン酸水利物0.44 gから、
実施例1と同様の操作で目的化合物を得た。
よびp−トルエンスルホン酸水利物0.44 gから、
実施例1と同様の操作で目的化合物を得た。
実施例8
実施例7に記載の前駆体をカラムクロマトグラフィで単
離することなしに、P−)ルエンスルホニルアジド6.
o9g(30,9mmoA! )およびトリエチ)v7
ミ:/ 114 g (30,9mmoA )と反応さ
せ、実施例2と同様の操作でジアゾ化を行なった。次い
で、反応残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から再
結晶することにより目的化合物8′4た。収量4.56
!i、収率6五〇チ、融点110〜112°C9NM
Rスペクトル(60MHz、 CDCl5 )の特徴的
強度比 A:B=9:2 IRスペクトルの特徴的ビーク: A (2160cm−1;νC=Nz)B (1720
cm−’ 、 1680 cm−’ ”、νC=0)
UVスペクトル(Tl−1F中) λmax 258nm 、 a 25,800笑施例9 リトコール酸メチルt9s g(s、Do mmo l
) 、ジゲテ:y o、so fl (6,0mmo
l ) 、およびP−トルエンスルホン酸水和物57
mgを1,2−ジクロロエタン8 m l中で、実施例
1と同様の操作で反応させ、残渣をメタノールから再結
晶することにより目的化合物を得た、収量1.44 g
、収率6α7%、融点184〜189°C1 実施例1O 実施例9に記載の前駆体と、P−)ルエンスルホニルア
ジドQ、60 、!i’ (3,0mmol)およびト
リエチ7t、7ミy o、31 g (3,0mmo
l )’x、実施例2と同様の操作で反応させ、ジアゾ
化を行なった。次いで、反応残渣からカラムクロマトグ
ラフィにより目的化合物を単離した。収f112.!i
’、収率75.0チ。
離することなしに、P−)ルエンスルホニルアジド6.
o9g(30,9mmoA! )およびトリエチ)v7
ミ:/ 114 g (30,9mmoA )と反応さ
せ、実施例2と同様の操作でジアゾ化を行なった。次い
で、反応残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から再
結晶することにより目的化合物8′4た。収量4.56
!i、収率6五〇チ、融点110〜112°C9NM
Rスペクトル(60MHz、 CDCl5 )の特徴的
強度比 A:B=9:2 IRスペクトルの特徴的ビーク: A (2160cm−1;νC=Nz)B (1720
cm−’ 、 1680 cm−’ ”、νC=0)
UVスペクトル(Tl−1F中) λmax 258nm 、 a 25,800笑施例9 リトコール酸メチルt9s g(s、Do mmo l
) 、ジゲテ:y o、so fl (6,0mmo
l ) 、およびP−トルエンスルホン酸水和物57
mgを1,2−ジクロロエタン8 m l中で、実施例
1と同様の操作で反応させ、残渣をメタノールから再結
晶することにより目的化合物を得た、収量1.44 g
、収率6α7%、融点184〜189°C1 実施例1O 実施例9に記載の前駆体と、P−)ルエンスルホニルア
ジドQ、60 、!i’ (3,0mmol)およびト
リエチ7t、7ミy o、31 g (3,0mmo
l )’x、実施例2と同様の操作で反応させ、ジアゾ
化を行なった。次いで、反応残渣からカラムクロマトグ
ラフィにより目的化合物を単離した。収f112.!i
’、収率75.0チ。
NMRスペクトル(60MTiz、 CCJ4) CI
J特徴的ビーク: 0 A(δ230 * CHs C) B (J 3.48 ;−COCHs )強度比 A:
B=1 : I IRスペクトルの特徴的ビーク: A (2160ぼ−l ; ν C=N2 )B (
1755ctn−’ + 1730crn−’ 、1
670c!n−’ i I’C=0)UVスペクトル(
THF中); λmax 258nm 、 g 6600〔発明の効果
〕 本発明のα−ジアゾアセト酢酸エステルは、300nm
以下の光照射により、効率の良い優れたブリーチンク
作用を示すば力)ってなく、溶解性に優れ、昇華性もな
いことから、光感応性材料として、効用の大なるもので
ある。
J特徴的ビーク: 0 A(δ230 * CHs C) B (J 3.48 ;−COCHs )強度比 A:
B=1 : I IRスペクトルの特徴的ビーク: A (2160ぼ−l ; ν C=N2 )B (
1755ctn−’ + 1730crn−’ 、1
670c!n−’ i I’C=0)UVスペクトル(
THF中); λmax 258nm 、 g 6600〔発明の効果
〕 本発明のα−ジアゾアセト酢酸エステルは、300nm
以下の光照射により、効率の良い優れたブリーチンク
作用を示すば力)ってなく、溶解性に優れ、昇華性もな
いことから、光感応性材料として、効用の大なるもので
ある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、出発原料がコール酸、デオキシコールあるいはリト
コール酸であり、下記一般式(1)で示されることを特
徴とする新規なα−ジアゾアセト酢酸エステル。 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) 但し、R_1は、−CO_2H、−CO_2R_9(こ
こでR_9は芳香環を含まない一価の有機基)および ▲数式、化学式、表等があります▼から選ばれた一種。 R_2、 R_3、R_4は、−H、−OH、および ▲数式、化学式、表等があります▼から選ばれた一種で
あり、 一般式(1)中には少なくとも1個のα−ジアゾアセト
酢酸エステル基がある。 2、一般式(1)中のR_1、R_2、R_3、R_4
が、それぞれ、(−CO_2CH_3、▲数式、化学式
、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります
▼ )(−O−C−C−C−CH_3、▲数式、化学式、表
等があります▼、−OH、▲数式、化学式、表等があり
ます▼)(−CO_2CH_3、−OH、▲数式、化学
式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等がありま
す▼)(−CO_2CH_3、−OH、−OH、▲数式
、化学式、表等があります▼)(−CO_2CH_2C
H_2CH_3、▲数式、化学式、表等があります▼、
▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼) (−CO_2CH_3、−H、−H、▲数式、化学式、
表等があります▼)であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の新規なα−ジアゾアセト酢酸エステル
。 5、出発原料がコール酸、デオキシコールあるいはリト
コール酸であり、下記一般式(2)で示されることを特
徴とする新規なα−ジアゾアセト酢酸エステルの前駆体
。 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) 但し、R_5は、−CO_2H、−CO_2R_9およ
び▲数式、化学式、表等があります▼から選ばれた一種
。R_6、R_7、R_8は、−H、−OHおよび▲数
式、化学式、表等があります▼から 選ばれた一種である。 4、一般式(2)中のR_5、R_6、R_7、R_8
が、それぞれ、(−CO_2CH_3、▲数式、化学式
、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります
▼ 、▲数式、化学式、表等があります▼)(−CO_2C
H_3、▲数式、化学式、表等があります▼ 、−OH、▲数式、化学式、表等があります▼)(−C
O_2CH_3、−OH、▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼) (−CO_2CH_3、−OH、−OH、▲数式、化学
式、表等があります▼)(−CO_2CH_2CH_2
CH_3、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等が
あります▼)(−CO_2CH_3、 −H、−H、▲数式、化学式、表等があります▼) であることを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の新
規なα−ジアゾアセト酢酸エステルの前駆体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31400187A JPH0730110B2 (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 新規なα―ジアゾアセト酢酸エステル |
US07/247,882 US5158855A (en) | 1987-09-24 | 1988-09-22 | α-diazoacetoacetates and photosensitive resin compositions containing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31400187A JPH0730110B2 (ja) | 1987-12-14 | 1987-12-14 | 新規なα―ジアゾアセト酢酸エステル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01157997A true JPH01157997A (ja) | 1989-06-21 |
JPH0730110B2 JPH0730110B2 (ja) | 1995-04-05 |
Family
ID=18048021
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31400187A Expired - Lifetime JPH0730110B2 (ja) | 1987-09-24 | 1987-12-14 | 新規なα―ジアゾアセト酢酸エステル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0730110B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6132936A (en) * | 1997-12-31 | 2000-10-17 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Monomer and polymer for photoresist, and photoresist using the same |
-
1987
- 1987-12-14 JP JP31400187A patent/JPH0730110B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6132936A (en) * | 1997-12-31 | 2000-10-17 | Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. | Monomer and polymer for photoresist, and photoresist using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0730110B2 (ja) | 1995-04-05 |
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