JPH01144411A - 含フッ素フェノール樹脂の製法 - Google Patents
含フッ素フェノール樹脂の製法Info
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- Phenolic Resins Or Amino Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、撥水撥油性、非付着性(防汚性)、耐薬品性
、耐熱性および低摩擦・耐摩耗性(摺動性)等の多様な
特性を有する機能性含フッ素フェノール樹脂およびその
製法に関する。
、耐熱性および低摩擦・耐摩耗性(摺動性)等の多様な
特性を有する機能性含フッ素フェノール樹脂およびその
製法に関する。
従来の技術
フェノール樹脂は電気絶縁性、機械的強度、寸法安定性
および耐熱性等が優れているために電気部品や自動車部
品等の成形材料、工業用の板体や管体等の積層品、シェ
ルモールド用材料、木材加工接着材用材料等として従来
から汎用されている、ばかりでなく、自己潤滑性が良好
なためにブレーキやクラッチ等の材料としても利用され
ている。
および耐熱性等が優れているために電気部品や自動車部
品等の成形材料、工業用の板体や管体等の積層品、シェ
ルモールド用材料、木材加工接着材用材料等として従来
から汎用されている、ばかりでなく、自己潤滑性が良好
なためにブレーキやクラッチ等の材料としても利用され
ている。
しかしながら、フェノール樹脂にはフェノール性水酸基
が存在するために耐水性が劣るという欠点があり(特に
アルカリ水溶液に対しては膨潤もしくは溶解する傾向か
ある)、さらに優れた表面特性を有するフッ素樹脂に比
べて摺動性が乏しいという難点がある。
が存在するために耐水性が劣るという欠点があり(特に
アルカリ水溶液に対しては膨潤もしくは溶解する傾向か
ある)、さらに優れた表面特性を有するフッ素樹脂に比
べて摺動性が乏しいという難点がある。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、フェノール樹脂のこのような欠点を改良し、
優れた撥水撥油性、防汚性、耐薬品性、耐熱性および摺
動性等の特性を有する機能性含フッ素フェノール樹脂を
提供するためになされたものである。
優れた撥水撥油性、防汚性、耐薬品性、耐熱性および摺
動性等の特性を有する機能性含フッ素フェノール樹脂を
提供するためになされたものである。
即ち本発明は、基材フェノール樹脂のフェノール性−O
Hの少なくとも一部が一般式(I):%式%() (式中、mは0.1または2の数を示し、nは1〜8の
数を示す) で表わされる含フッ素エステル置換基によって置換され
たことを特徴とする含フッ素フェノール樹脂に関する。
Hの少なくとも一部が一般式(I):%式%() (式中、mは0.1または2の数を示し、nは1〜8の
数を示す) で表わされる含フッ素エステル置換基によって置換され
たことを特徴とする含フッ素フェノール樹脂に関する。
本発明による含フッ素フェノール樹脂の基材樹脂として
は自体公知のフェノール樹脂から適宜選定して使用すれ
ばよい。
は自体公知のフェノール樹脂から適宜選定して使用すれ
ばよい。
例えば、フェノール、クレゾール、キシレノ−子゛
等のアルjヒト類とを常法に従って縮合反応させること
によって得られるレゾール型もしくはノボラック型のフ
ェノール樹脂およびこれらの変性樹脂等が挙げられる。
によって得られるレゾール型もしくはノボラック型のフ
ェノール樹脂およびこれらの変性樹脂等が挙げられる。
このような基材フェノール樹脂の形態は特に限定的では
ないが、以下に説明するような含フッ素フェノール樹脂
の製造上および利用上の観点からは、平均粒径が500
ミクロン以下、特に5〜30ミクロン微粒状のものが好
適である。
ないが、以下に説明するような含フッ素フェノール樹脂
の製造上および利用上の観点からは、平均粒径が500
ミクロン以下、特に5〜30ミクロン微粒状のものが好
適である。
・本発明による含フッ素フェノール樹脂は、このような
基材フェノール樹脂のフェノール性水酸基の少な(とも
一部が上記の一般式(I)で表わされる含フッ素エステ
ル置換基で置換された樹脂である。
基材フェノール樹脂のフェノール性水酸基の少な(とも
一部が上記の一般式(I)で表わされる含フッ素エステ
ル置換基で置換された樹脂である。
式(Dにおいて、mは0.1または2の数、好ましくは
Oまたは2の数を示し、nは1〜8の数を示す。
Oまたは2の数を示し、nは1〜8の数を示す。
式(I)中のパーフルオロアルキル基−CnF2n+1
トして特に好適なものとしては次のものが例示されるニ ーCF3、−CF2CF3、−CF2CF2CF3、F
2CF3 F3 上記の含フッ素エステル置換基によるフェノール性水酸
基の置換率は含フッ素フェノール樹脂の使用目的等に応
じて適宜選定すればよく、特に限定的ではなく、・この
置換率を調節することによって含フッ素フェノール樹脂
の撥水撥油性、防汚性、摺動性および耐熱性等の特性を
適宜調整することができる。
トして特に好適なものとしては次のものが例示されるニ ーCF3、−CF2CF3、−CF2CF2CF3、F
2CF3 F3 上記の含フッ素エステル置換基によるフェノール性水酸
基の置換率は含フッ素フェノール樹脂の使用目的等に応
じて適宜選定すればよく、特に限定的ではなく、・この
置換率を調節することによって含フッ素フェノール樹脂
の撥水撥油性、防汚性、摺動性および耐熱性等の特性を
適宜調整することができる。
上記の本発明による含フッ素フェノール樹脂の製造方法
は特に限定的ではないが、好演な製法は、前述の基材フ
ェノール樹脂に塩基性触媒の存在下C11Fzl++
@ (Co(J ) (IO^ (式中、mおよびnは前記と同意義である)で表わされ
るパーフルオロアルキリルクロライドを反応させるか、
または該基材フェノール樹脂に無触媒下で一般式(II
: (式中、mおよびnは前記と同意義である)で表わされ
るパーフルオロアルキリツクアンハイドライドを反応さ
せる方法である。
は特に限定的ではないが、好演な製法は、前述の基材フ
ェノール樹脂に塩基性触媒の存在下C11Fzl++
@ (Co(J ) (IO^ (式中、mおよびnは前記と同意義である)で表わされ
るパーフルオロアルキリルクロライドを反応させるか、
または該基材フェノール樹脂に無触媒下で一般式(II
: (式中、mおよびnは前記と同意義である)で表わされ
るパーフルオロアルキリツクアンハイドライドを反応さ
せる方法である。
上記の基材フェノール樹脂と一般式(6)で表わされる
パーフルオロアルキリルクドライドまたは一1般式(2
)で表わされるパーフルオロアルキリツクアンハイドラ
イドとの反応割合は反応成分の種類や所望のフッ素化率
等に応じて適宜選定すればよく、特に限定的ではない。
パーフルオロアルキリルクドライドまたは一1般式(2
)で表わされるパーフルオロアルキリツクアンハイドラ
イドとの反応割合は反応成分の種類や所望のフッ素化率
等に応じて適宜選定すればよく、特に限定的ではない。
塩基性触媒としてはトリメチルアミンやトリエチルアミ
ン等の3級アミン、炭酸ナトリウムや炭酸カリウム等の
無機塩基性塩類、ピリジン、およびN、N−ジメチルア
ニリン等が例示されるが、等にトリメチルアミンあるい
はトリエチルアミン等の3級アミンが好ましい。
ン等の3級アミン、炭酸ナトリウムや炭酸カリウム等の
無機塩基性塩類、ピリジン、およびN、N−ジメチルア
ニリン等が例示されるが、等にトリメチルアミンあるい
はトリエチルアミン等の3級アミンが好ましい。
塩基性触媒の使用量も特に限定的ではないが、通常は反
応当量程度使用する。
応当量程度使用する。
上記の反応は通常は有機溶媒中でおこなう。有機溶媒と
してはアセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキサイド、N−メチルピロリドン、ジグリムお
よびトリグルム等の極性溶媒の外、ベンゼン、トルエン
、キシレン、エーテル、テトラヒドロフランおよびアセ
トン等が例示されるが、膨潤性や溶解性の小さな基材フ
ェノール樹脂を使用する場合にはジメチルホルムアミド
やジメチルスルホキサイド等の極性溶媒を選択する。
してはアセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキサイド、N−メチルピロリドン、ジグリムお
よびトリグルム等の極性溶媒の外、ベンゼン、トルエン
、キシレン、エーテル、テトラヒドロフランおよびアセ
トン等が例示されるが、膨潤性や溶解性の小さな基材フ
ェノール樹脂を使用する場合にはジメチルホルムアミド
やジメチルスルホキサイド等の極性溶媒を選択する。
反応温度も反応成分の種類によって左右され、特に限定
的ではないが、通常は0〜100℃である。
的ではないが、通常は0〜100℃である。
上記の反応によって得られる含フッ素フェノール樹脂は
、その赤外線吸収スペクトルが1100〜1300α″
″1付近にC−F伸縮振動に由来する特性吸収を示すの
で、これによって容易に同定することができる。
、その赤外線吸収スペクトルが1100〜1300α″
″1付近にC−F伸縮振動に由来する特性吸収を示すの
で、これによって容易に同定することができる。
本発明による上記の含フッ素フェノール樹脂は単独ポリ
マーとして使用する場合もあるが、通常は用途に応じた
各種の添加剤、例えば硬化剤(例えがアミン結合を有す
るアンモニア、ヘキサメチレンへキサミン等)、変性剤
(例えばロジン、エステルガム、乾性油、合成ゴム等)
、充填剤(例えばリンター、木粉、紙、アスベスト、ホ
イスカー、ガラス繊維、金属繊維、ポリアミド、ポリエ
ステルおよびポリ塩化ビニル等の合成繊維、アルミナ、
マイカ、タルク、二硫化モリブデン等)、可塑剤、離型
剤、着色剤、希釈剤および耐熱助剤・等を適宜配合した
組成物として使用する。
マーとして使用する場合もあるが、通常は用途に応じた
各種の添加剤、例えば硬化剤(例えがアミン結合を有す
るアンモニア、ヘキサメチレンへキサミン等)、変性剤
(例えばロジン、エステルガム、乾性油、合成ゴム等)
、充填剤(例えばリンター、木粉、紙、アスベスト、ホ
イスカー、ガラス繊維、金属繊維、ポリアミド、ポリエ
ステルおよびポリ塩化ビニル等の合成繊維、アルミナ、
マイカ、タルク、二硫化モリブデン等)、可塑剤、離型
剤、着色剤、希釈剤および耐熱助剤・等を適宜配合した
組成物として使用する。
以下、本発明を実施例によって説明する。
実施例1
滴下漏斗、温度計、撹拌器および還流冷却器を備えた三
つロフラスコ(I00mQ)内にDMF20mffiお
よびトリエチルアミン2.01を入れ、これに微粒状フ
ェノール樹脂10ノを加えて撹拌分散させた溶液中へ、
ヘプタフルオロブチリルクロライド4.92とDMF4
.9S’ との混合液を撹拌下に徐々に滴下し、滴下
終了後、反応を80℃において20時間おこなった。
つロフラスコ(I00mQ)内にDMF20mffiお
よびトリエチルアミン2.01を入れ、これに微粒状フ
ェノール樹脂10ノを加えて撹拌分散させた溶液中へ、
ヘプタフルオロブチリルクロライド4.92とDMF4
.9S’ との混合液を撹拌下に徐々に滴下し、滴下
終了後、反応を80℃において20時間おこなった。
反応混合物をアセトンを用いて十分に洗浄することによ
って球形微粒状の含フッ素7−C/−ル樹脂11.24
F を得た。
って球形微粒状の含フッ素7−C/−ル樹脂11.24
F を得た。
生成物の確認は、IRスペクトルにおける3 500c
ts−’付近のOH伸縮振動吸収の減少および1100
〜1300ell−’付近のCF伸縮振動吸収の生成に
よっておこなった(含フッ素エステル置換基によるフェ
ノール性水酸基の置換率:約5〜20%)。
ts−’付近のOH伸縮振動吸収の減少および1100
〜1300ell−’付近のCF伸縮振動吸収の生成に
よっておこなった(含フッ素エステル置換基によるフェ
ノール性水酸基の置換率:約5〜20%)。
実施例2
ヘプタフルオロブチリルクロライドの代りに2゜2、3
.3−テトラヒドロへブタデカフルオロクンデカン酸ク
ロライド10.2yノを用いる以外は実施例1の手順に
従って含フッ素フェノール樹脂を11.48y得り(含
フッ素エステル置換基によるフェノール性水酸基の置換
率:約5〜20%)。
.3−テトラヒドロへブタデカフルオロクンデカン酸ク
ロライド10.2yノを用いる以外は実施例1の手順に
従って含フッ素フェノール樹脂を11.48y得り(含
フッ素エステル置換基によるフェノール性水酸基の置換
率:約5〜20%)。
実施例3
ヘプタフルオロブチリルクロライドの代りにトリフルオ
ロ無水酢酸4.22を用い、また塩基性触媒を使用しな
い以外は実施例1の手順に準拠して球形粒状の含フッ素
フェノール樹脂を12.04 P得た。
ロ無水酢酸4.22を用い、また塩基性触媒を使用しな
い以外は実施例1の手順に準拠して球形粒状の含フッ素
フェノール樹脂を12.04 P得た。
生成物の確認はIRスペクトルの1700cm″″1付
近のカルボニル基の特性吸収の生成によっておこなった
(含フッ素エステル置換基によるフェノール性水酸基の
置換率:約5〜30%)。
近のカルボニル基の特性吸収の生成によっておこなった
(含フッ素エステル置換基によるフェノール性水酸基の
置換率:約5〜30%)。
発明の効果
本発明による含フッ素フェノール樹脂は優れた撥水撥油
性、防汚性、耐薬品性、耐熱性および摺動性等の特性を
有するので、その用途は極めて多岐にわたるが、なかで
も固体潤滑剤として優れた機能を発揮するので、例えば
プラスチック、ゴム、塗料、コート剤および潤滑油等に
配合することによって摺動性プラスチック、潤滑ゴム、
高スリップ性の塗料もしくはコート剤(例えば磁気テー
プコート剤等)および高潤滑グリース等が得られる。
性、防汚性、耐薬品性、耐熱性および摺動性等の特性を
有するので、その用途は極めて多岐にわたるが、なかで
も固体潤滑剤として優れた機能を発揮するので、例えば
プラスチック、ゴム、塗料、コート剤および潤滑油等に
配合することによって摺動性プラスチック、潤滑ゴム、
高スリップ性の塗料もしくはコート剤(例えば磁気テー
プコート剤等)および高潤滑グリース等が得られる。
また、該含フッ素フェノール樹脂の上記緒特性は含フッ
素エステル置換基の種類および該置換基によるフェノー
ル性水酸基の置換率を適宜選定することによって自由に
調整することができる。
素エステル置換基の種類および該置換基によるフェノー
ル性水酸基の置換率を適宜選定することによって自由に
調整することができる。
特肝出願人 株式会社 ネ オ ス
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基材フェノール樹脂のフェノール性−OHの少なく
とも一部が一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、mは0、1または2の数を示し、nは1〜8の
数を示す) で表わされる含フッ素エステル置換基によつて置換され
たことを特徴とする含フッ素フェノール樹脂。 2、基材フェノール樹脂が、平均粒径が500ミクロン
以下の微粒状のフェノール樹脂である第1項記載の含フ
ッ素フェノール樹脂。 3、基材フェノール樹脂および一般式(II):C_nF
_2_n_+_1(CH_2)_mCOCl(II)(式
中、mは0、1または2の数を示し、nは1〜8の数を
示す) で表わされるパーフルオロアルキリルクロライドを塩基
性触媒の存在下で反応させることを特徴とする、基材フ
ェノール樹脂のフェノール性−OHの少なくとも一部が
一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、mは0、1または2の数を示し、nは1〜8の
数を示す) で表わされる含フッ素エステル置換基によつて置換され
た含フッ素フェノール樹脂の製法。 4、基材フェノール樹脂が、平均粒径が500ミクロン
以下の微粒状のフェノール樹脂である第3項記載の含フ
ッ素フェノール樹脂の製法。 5、基材フェノール樹脂および一般式(III):▲数式
、化学式、表等があります▼(III) (式中、mは0、1または2の数を示し、nは1〜8の
数を示す) で表わされるパーフルオロアルキリツクアンハイドライ
ドを反応させることを特徴とする、基材フェノール樹脂
のフェノール性−OHの少なくとも一部が一般式( I
): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、mは0、1または2の数を示し、nは1〜8の
数を示す) で表わされる含フッ素エステル置換基によつて置換され
た含フッ素フェノール樹脂の製法。 6、基材フェノール樹脂が、平均粒径が500ミクロン
以下の微粒状のフェノール樹脂である第5項記載の含フ
ッ素フェノール樹脂の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62305414A JP2599940B2 (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 | 含フッ素フェノール樹脂の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62305414A JP2599940B2 (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 | 含フッ素フェノール樹脂の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01144411A true JPH01144411A (ja) | 1989-06-06 |
JP2599940B2 JP2599940B2 (ja) | 1997-04-16 |
Family
ID=17944848
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62305414A Expired - Fee Related JP2599940B2 (ja) | 1987-12-01 | 1987-12-01 | 含フッ素フェノール樹脂の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2599940B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999050069A1 (en) * | 1998-03-27 | 1999-10-07 | Kodak Polychrome Graphics Company Ltd. | Waterless lithographic plate |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6456714A (en) * | 1987-05-08 | 1989-03-03 | Neos Kk | Fluorine-containing phenolic resin precursor |
-
1987
- 1987-12-01 JP JP62305414A patent/JP2599940B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6456714A (en) * | 1987-05-08 | 1989-03-03 | Neos Kk | Fluorine-containing phenolic resin precursor |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999050069A1 (en) * | 1998-03-27 | 1999-10-07 | Kodak Polychrome Graphics Company Ltd. | Waterless lithographic plate |
US6416932B1 (en) | 1998-03-27 | 2002-07-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Waterless lithographic plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2599940B2 (ja) | 1997-04-16 |
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