JPH01139468U - - Google Patents

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JPH01139468U
JPH01139468U JP3555788U JP3555788U JPH01139468U JP H01139468 U JPH01139468 U JP H01139468U JP 3555788 U JP3555788 U JP 3555788U JP 3555788 U JP3555788 U JP 3555788U JP H01139468 U JPH01139468 U JP H01139468U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図、第2図に本考案の第1の実施例を示し
、第1図Aは水平面で切つた断面図、第1図Bは
同1B―1B線断面図、第2図は電気回路図、第
3図は本考案の第2の実施例を示す断面図、第4
図は従来例を示す平面図、第5図は他の従来例を
示す断面図である。 LD……半導体レーザ手段、1〜3……レーザ
ビーム発生源、PD……受光手段、5〜7……受
光部、8……導波部材、9〜11……導波溝。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 夫々2方向にレーザビームを放射する複数
    のレーザビーム発生源を含む半導体レーザ手段と
    、一方向に放射された上記各レーザビームを互い
    に離散する方向へ指向する複数の導波溝を備える
    導波部材と、この導波部材から導出される各レー
    ザビームを個別に受光する複数のモニタ用受光部
    と、これら各受光部の出力を、上記導波部材内で
    の対応のビームの減衰度に応じて補正する電気的
    補正回路とを具備せる半導体レーザ装置。 (2) 夫々2方向にレーザビームを放射する複数
    のレーザビーム発生源を含む半導体レーザ手段と
    、一方向に放射された上記各レーザビームを互い
    に離散する方向へ指向する複数の導波溝を備える
    導波部材と、この導波部材から導出される各レー
    ザビームを個別に受光する複数のモニタ用受光部
    とを備え、これら各受光部の受光面積は、上記導
    波部材内での対応のビームの減衰度に応じて決め
    られていることを特徴とする半導体レーザ装置。
JP3555788U 1988-03-17 1988-03-17 Expired JPH0429582Y2 (ja)

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JP3555788U JPH0429582Y2 (ja) 1988-03-17 1988-03-17

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JPH01139468U true JPH01139468U (ja) 1989-09-22
JPH0429582Y2 JPH0429582Y2 (ja) 1992-07-17

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JPH0429582Y2 (ja) 1992-07-17

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