JPH01139247A - 透明積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、優れた透明性を有し透明導電膜や透明ガスバ
リヤ−膜等として好適な透明積層体に関するものである
。

（従来の技術） 従来、透明基体上に透明基体の屈折率より高い屈折率を
有する薄膜を積層した透明積層体が知られている。かか
る透明積層体においては、薄膜の屈折率及び膜厚によっ
て透過率が大きく変化し。

十分な透明性を有するものではなかった。かかる欠点を
解消するために、たとえば酸化インジウムと酸化スズの
混合物等の透明導電膜では、透明性を上げるために透明
導電膜付与面の逆面に、透明基体の屈折率より低い屈折
率を有する薄膜を付与したものが知られている。また、
ＡＩＮ、ＺｎＳ等の透明ガスバリヤ−膜においては、Ａ
ＩＮ、ＺｎＳ等の股上に樹脂をコートしたものが知られ
ている。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、これら低い屈折率を有する薄膜を付与し
たもの又は樹脂をコートしたものはこれらの薄膜又は樹
脂を付与するという工程が必要であった。

本発明は上記のような問題点を解消しようとするもので
あって、その目的は上記のような薄膜。

樹脂等を付与しなくても十分な透明性を有する透明積層
体を提供することにある。

（問題点を解決するための手段） 本発明者らは、上記のごとき問題点を解決するために鋭
意研究の結果、透明基体上に形成する薄膜の屈折率と膜
厚の関係を特定の範囲にすることにより、優れた透明性
を有する透明積層体が得られることを見出し２本発明に
到達した。

すなわち１本発明は、透明基体上に、透明基体の屈折率
より高い屈折率を有する薄膜を積層した透明積層体にお
いて、薄膜の屈折率ｎと膜厚ｄとの積ｎｄが （０，５ａ−０，１２５）λ＜　ｎ　ｄ　＜　（０，５
ａ　＋０．１２５）λ（ただし、λは透過する光線の波
長、ａは０〜１０の整数、ｎｄ＞Ｏ，ｄ及びλの単位は
人） を満足することを特徴とする透明積層体を要旨とするも
のである。

以下１本発明の詳細な説明する。

まず１本発明おける透明基体としては、ガラス板、プラ
スチック板、プラスチックフィルム等の透明基体が挙げ
られる。

本発明の透明積層体は、このような透明基体上に酸化イ
ンジウムと酸化スズの混合物、ＺｎＳ。

ＡＩＮ膜等の薄膜を形成したものであるが、かかる薄膜
の屈折率ｎと膜厚ｄとの積ｎｄが（０，５ａ−０，１２
５）λ＜　ｎ　ｄ　＜　（０，５ａ　＋０．１２５）λ
を満足することが必要である。すなわち、薄膜の屈折率
に応じて薄膜の膜厚を特定の範囲とするものである。好
ましくは、ｎｄが（０，５ａ　−０，０６）λ＜　ｎ　
ｄ　＜　（０，５ａ　＋０．０６）　　λであり、また
、実用面からａは０〜ｌＯの範囲が好適である。ｒｚｆ
が上記範囲外では、上限を超える場合も下限を下回る場
合のいずれの場合も反射率が大きくなり、透明性が低下
するので、好ましくない。

上記本発明の透明積層体は、透明基体上に形成する薄膜
の膜厚を薄膜を構成する物質に依存する屈折率に応じて
制御して、イオンブレーティング法、スパッタリング法
等の真空薄膜形成法により形成される。薄膜の付着強度
、成膜速度等の点から高周波によるイオンブレーティン
グ法、又はホローカソードガンを用いたイオンブレーテ
ィング法、プラズマ発生装置を用いたイオンビームミキ
シング法、シートプラズマ法等を採用することが望まし
い。

また、透明基体と薄膜との付着力を向上させるために、
透明基体の表面にアンカー処理剤を塗布したり、フィル
ム表面に放電処理、化学処理等を施しても良い。また、
透明基体の両面に上記薄膜を付与しても良い。

なお１本発明の透明積層体は、従来の積層体のようにそ
の表面に樹脂等を付与しなくても十分な透明性を有する
が９本発明の透明積層体の薄膜面上にその薄膜の屈折率
より低い屈折率の樹脂をコートするとさらに光の透過率
が上がり、より高い透明性が得られる。

（実施例） 次に１本発明を実施例によって具体的に説明する。

以下の実施例における特性値は次の方法で測定したもの
である。

Ｔｌ）　　透過率（％） 透明性を評価するために９分光光度計（０菊日立製作所
製：　Ｕ−３４００）により可視光（５５００人）の透
過率を測定した。

（２）反射率（％） 反射率を評価するために１分光光度計（■日立製作所型
：　Ｕ−３４００）により可視光（５５００人）の１５
度反射率を測定した。

（３）屈折率はエリプソメータで測定し、膜厚は水晶振
動膜厚計で測定した。

実施例１．２．３．４．比較例Ｌ　　２．　３ポリエチ
レンテレフタレートフイルム（屈折率１．５７．透過率
８６％、厚み１００μｍ）と、５重量％の酸化スズを含
む酸化インジウムと酸化スズとの混合物（以下、ＩＴＯ
という）を各所定の位置にセットした真空装置内をＩ　
Ｘ　１０”Ｔｏｒｒまで排気し、しかる後に酸素ガスを
５　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒまで導入した。次に、高周波
プラズマ（１３，５６ＭＩ（ｚ、　５０Ｗ）を発生させ
。

電子銃によりＩＴＯペレットを加熱蒸発させて。

３人／Ｓの成膜速度で屈折率ｎが１．９のＩＴＯ薄膜を
１膜厚がそれぞれ１２７０人　（実施例１）、１４５０
人（実施例２）、１８００人（実施例３）＋１９９０人
（比較例１）。

２１７０人（比較例２）、２３５０人（比較例３）、２
９００人（実施例４）になるように成膜した。

得られた透明積層体の透過率２反射率を測定した。得ら
れた結果を第１表に示す。

実施例５．比較例４ 真空装置内の所定の位置に、実施例１と同様のポリエチ
レンテレフタレートフィルム（屈折率１゜５７、透過率
８６％、厚み１００μｍ）とアルミニュウムを各所定の
位置にセントした真空装置内をｌＸｌ０−’Ｔｏｒｒま
で排気し、窒素ガスをＩ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒまで導
入した。次いで、高周波プラズマ（１３、５６Ｍ１ｌｚ
　、　５０Ｗ）を発生させ、電子銃によりアルミニュウ
ムペレットを加熱蒸発させてアルミニュウムを窒素プラ
ズマ下で反応させ、３人／Ｓの成膜速度で屈折率ｎが２
．０のＡＩＮ膜を、膜厚がそれぞれ１３７５人（実施例
５）、６９０人（比較例４）となるように成膜した。

得られた透明積層体の透過率２反射率を測定した。得ら
れた結果を第１表に示す。

実施例６．比較例５ 真空装置内の所定の位置に、実施例１と同様のポリエチ
レンテレフタレートフィルム（屈折率１゜５７、透過率
８６％、厚み１００　ｐ　ｍ）とＺｎＳを各所定の位置
にセントした真空装置内をＩ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒま
で排気し、ＡｒガスをＩ　Ｘ　１０−　’Ｔｏｒｒ導入
し、高周波プラズマ（１３，５６ＭＨｚ、　５０Ｗ）を
発生させ、電子銃によりＺｎＳペレットを加熱蒸発させ
て、３人／Ｓ成膜速度で屈折率ｎが２．３のＺｎＳ膜を
、膜厚がそれぞれ１１９５人（実施例６）、６００人（
比較例５）となるように成膜した。

得られた透明積層体の透過率１反射率を測定した。得ら
れた結果を第１表に示す。

第１表 第１表から明らかなように１本発明の透明積層体は、優
れた透過率を示していて良好な透明性を有している。こ
れに対して、比較例の積層体は透明性に劣っている。

（発明の効果） 本発明の透明積層体は、上記のように薄膜の屈折率ｎと
膜厚ｄとの積ｎｄが特定の範囲にあるので、優れた透明
性を有するものである。かかる透明積層体は、ＩＴＯ膜
等からなる透明導電膜として、またＺｎＳ、ＡｆｆＮ膜
等からなるガスバリヤ−膜等として好適に利用すること
ができる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明基体上に、透明基体の屈折率より高い屈折率
   を有する薄膜を積層した透明積層体において、薄膜の屈
   折率ｎと膜厚ｄとの積ｎｄが （０．５＿ａ−０．１２５）λ＜ｎｄ＜（０．５＿ａ＋
   ０．１２５）λ（ただし、λは透過する光線の波長、ａ
   は０〜１０の整数、ｎｄ＞０、ｄ及びλの単位はÅ） を満足することを特徴とする透明積層体。
2. （２）薄膜が酸化インジウムと酸化スズの、混合物から
   なる特許請求の範囲第１項記載の透明積層体。
3. （３）薄膜がＺｎＳからなる特許請求の範囲第１項記載
   の透明積層体。
4. （４）薄膜がＡｌＮからなる特許請求の範囲第１項記載
   の透明積層体。