JPH01134842A - X線発生装置 - Google Patents
X線発生装置Info
- Publication number
- JPH01134842A JPH01134842A JP29276687A JP29276687A JPH01134842A JP H01134842 A JPH01134842 A JP H01134842A JP 29276687 A JP29276687 A JP 29276687A JP 29276687 A JP29276687 A JP 29276687A JP H01134842 A JPH01134842 A JP H01134842A
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- JP
- Japan
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- ray
- target
- cathode
- rays
- generating device
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- Pending
Links
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000005461 Bremsstrahlung Effects 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 150000002343 gold Chemical class 0.000 description 1
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- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はX線の利用効率を大幅に向上できるX線発生装
置に関する。
置に関する。
[従来の技術]
第3図は従来のX線発生装置の構造を簡略的に示す図で
ある。第3図において、ターゲット1は電子ビームの入
射方向に対して70°〜80°傾斜して設置され、電子
ビームの入射方向に対して約90″方向の制動輻射が、
X線窓2からX線管3の外部に取り出されている。
ある。第3図において、ターゲット1は電子ビームの入
射方向に対して70°〜80°傾斜して設置され、電子
ビームの入射方向に対して約90″方向の制動輻射が、
X線窓2からX線管3の外部に取り出されている。
[発明が解決しようとする問題点]
第3図のような従来のX線発生装置において、加速電圧
が30〜100 k Vの制動輻射によるX線強度分布
は第4図に示すように電子ビームの進行方向に対して6
0°付近が最も強い。
が30〜100 k Vの制動輻射によるX線強度分布
は第4図に示すように電子ビームの進行方向に対して6
0°付近が最も強い。
つまり、近似的に電子の運動方向が変わらないとした場
合に、減速電子からの輻射エネルギーは、加速度らが一
定で、速度がuOから0まで減速されたとすると、 となる。
合に、減速電子からの輻射エネルギーは、加速度らが一
定で、速度がuOから0まで減速されたとすると、 となる。
ここで、C:光速度、e:電子の電荷、ε0:真空の誘
電率、ψ:電子ビームの進行方向に対する角度、Ω:立
体角である。
電率、ψ:電子ビームの進行方向に対する角度、Ω:立
体角である。
上記(1)式から、発生するX線の角度分布(X線強度
のψ依存性)を計算した結果を第5図に示しておく。だ
だし、X線強度は相対値としている。
のψ依存性)を計算した結果を第5図に示しておく。だ
だし、X線強度は相対値としている。
従って、第5図より従来のように電子ビームに対して、
90@方向の輻射を利用すると、X線窓2から取り出さ
れるX線エネルギーは、ターゲットにおいて発生する全
X線エネルギーの数パーセントでしかなく、効率が非常
に悪いという問題点がある。
90@方向の輻射を利用すると、X線窓2から取り出さ
れるX線エネルギーは、ターゲットにおいて発生する全
X線エネルギーの数パーセントでしかなく、効率が非常
に悪いという問題点がある。
本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、その目的は
、X線の利用効率を大幅に向上できるX線発生装置を提
供することにある。
、X線の利用効率を大幅に向上できるX線発生装置を提
供することにある。
[問題点を解決するための手段及び作用]カソードから
発生される電子を電子の入射方向に対して約20°傾斜
して、設けられたターゲットに入射させるようにして、
ターゲットにおいて発生する前方輻射X線をX線窓口を
通過させるようにしている。つまり、第2図に示すよう
に、ターゲット1を電子ビームの進行方向に対して約2
011に設置して、ターゲット1において発生する前方
輻射X線がX線窓2を通過できる構造とすることにより
、X線の利用効率を数十パーセントと大きくすることが
できる。
発生される電子を電子の入射方向に対して約20°傾斜
して、設けられたターゲットに入射させるようにして、
ターゲットにおいて発生する前方輻射X線をX線窓口を
通過させるようにしている。つまり、第2図に示すよう
に、ターゲット1を電子ビームの進行方向に対して約2
011に設置して、ターゲット1において発生する前方
輻射X線がX線窓2を通過できる構造とすることにより
、X線の利用効率を数十パーセントと大きくすることが
できる。
[実施例]
以下図面を参照して本発明の一実施例について説明する
。第1図において、11はX線管である。
。第1図において、11はX線管である。
このX線管ll内には電流導入端子12が挿入して設け
られている。そして、この電流導入端子12の先端部に
は例えばTa箔よりなるカソード13が接続されている
。そして、上記電流導入端子12と上記X線管11間に
は高電圧パルス発生装置14が接続されている。この高
電圧パルス発生装置14により上記カソード13と上記
X線管11の内壁面のカソード13の延長線方向に設け
られたターゲット15間に、BOk Vの高電圧が印加
される。上記ターゲット15は例えば5μm程度の熱さ
でメツキされた金である。この金メツキの厚さは60k
Vの加速電圧における電子の制動距離(3〜4μ11
)によって決定されている。
られている。そして、この電流導入端子12の先端部に
は例えばTa箔よりなるカソード13が接続されている
。そして、上記電流導入端子12と上記X線管11間に
は高電圧パルス発生装置14が接続されている。この高
電圧パルス発生装置14により上記カソード13と上記
X線管11の内壁面のカソード13の延長線方向に設け
られたターゲット15間に、BOk Vの高電圧が印加
される。上記ターゲット15は例えば5μm程度の熱さ
でメツキされた金である。この金メツキの厚さは60k
Vの加速電圧における電子の制動距離(3〜4μ11
)によって決定されている。
そして、ターゲット15から輻射されるX線はX線窓(
Be製) 1B及びpb板17によりX線照射域が制限
されて、所定領域に照射される。つまり、このpb板1
7はアパーチャやシャッタの役割を果たしている。
Be製) 1B及びpb板17によりX線照射域が制限
されて、所定領域に照射される。つまり、このpb板1
7はアパーチャやシャッタの役割を果たしている。
次に、上記のように構成された本発明の一実施例の動作
について説明する。まず、高電圧パルス発生装置14に
よりカソード13とターゲット15との間に80k V
が印加される。このように、カソード13とターゲット
15との間に80k Vが印加されると、カソード13
の先端部の電界強度は〜10’V/mとなり、空間電荷
による電子密度の制限を考慮すると電界放出による電子
流密度は〜10’A/m2が得られる。そして、その電
子流はターゲット13に照射される。そして、ターゲッ
ト13において発生する前方輻射X線はX線窓17から
放出される。・[発明の効果] 以上詳述したように本発明によれば、X線の利用効率を
大幅に向上できるX線発生装置を提供することができる
。
について説明する。まず、高電圧パルス発生装置14に
よりカソード13とターゲット15との間に80k V
が印加される。このように、カソード13とターゲット
15との間に80k Vが印加されると、カソード13
の先端部の電界強度は〜10’V/mとなり、空間電荷
による電子密度の制限を考慮すると電界放出による電子
流密度は〜10’A/m2が得られる。そして、その電
子流はターゲット13に照射される。そして、ターゲッ
ト13において発生する前方輻射X線はX線窓17から
放出される。・[発明の効果] 以上詳述したように本発明によれば、X線の利用効率を
大幅に向上できるX線発生装置を提供することができる
。
第1図は本発明の一実施例に係わるX線発生装置を示す
図、第2図は本発明の詳細な説明するための図、第3図
は従来のX線発生装置を示す図、第4図及び第5図はそ
れぞれ電子ビームとターゲットの角度に対するX線の輻
射状態を示す図である。 11・・・X線管、13・・・カソード、14・・・高
電圧パルス発生装置、15・・・ターゲット。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図
図、第2図は本発明の詳細な説明するための図、第3図
は従来のX線発生装置を示す図、第4図及び第5図はそ
れぞれ電子ビームとターゲットの角度に対するX線の輻
射状態を示す図である。 11・・・X線管、13・・・カソード、14・・・高
電圧パルス発生装置、15・・・ターゲット。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図
Claims (1)
- カソードから発生される電子を電子の入射方向に対して
約20°傾斜して設けられたターゲットに入射させて前
方輻射X線を取出すことを特徴とするX線発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29276687A JPH01134842A (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | X線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29276687A JPH01134842A (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | X線発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01134842A true JPH01134842A (ja) | 1989-05-26 |
Family
ID=17786061
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29276687A Pending JPH01134842A (ja) | 1987-11-19 | 1987-11-19 | X線発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01134842A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1146542A1 (en) * | 2000-04-11 | 2001-10-17 | General Electric Company | Apparatus and method for increasing X-ray tube power per target thermal load |
JP2005203358A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-07-28 | General Electric Co <Ge> | X線ビームの発生方法及び装置 |
-
1987
- 1987-11-19 JP JP29276687A patent/JPH01134842A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1146542A1 (en) * | 2000-04-11 | 2001-10-17 | General Electric Company | Apparatus and method for increasing X-ray tube power per target thermal load |
JP2005203358A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-07-28 | General Electric Co <Ge> | X線ビームの発生方法及び装置 |
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