JPS58147B2 - X線発生装置 - Google Patents
X線発生装置Info
- Publication number
- JPS58147B2 JPS58147B2 JP51059883A JP5988376A JPS58147B2 JP S58147 B2 JPS58147 B2 JP S58147B2 JP 51059883 A JP51059883 A JP 51059883A JP 5988376 A JP5988376 A JP 5988376A JP S58147 B2 JPS58147 B2 JP S58147B2
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- JP
- Japan
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- cathode
- target
- light
- photocathode
- light source
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- Expired
Links
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
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- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/06—Cathodes
- H01J35/065—Field emission, photo emission or secondary emission cathodes
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光電放出を利用したX線発生装置に関するも
のである。
のである。
従来から、熱イオン放射によって飛び出した電子を加速
してターゲットに衝突させX線を得るように構成したX
線発生装置が知られている。
してターゲットに衝突させX線を得るように構成したX
線発生装置が知られている。
しかしながら、熱陰極を用いたこの従来装置においては
、熱陰極から重金属が揮発して真空容器内壁に付着し、
放射スペクトル変化や出力低下が生ずるという欠点があ
った。
、熱陰極から重金属が揮発して真空容器内壁に付着し、
放射スペクトル変化や出力低下が生ずるという欠点があ
った。
また、管電流の制御も格子制御によって行うものである
ため、構成も複雑であった。
ため、構成も複雑であった。
本発明の目的は、従来装置の上記のような問題点を解決
したX線発生装置を実現することにある。
したX線発生装置を実現することにある。
以下図面によって本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明装置の一実施例を示す原理的構成図であ
る。
る。
図において、1はタングステン等でなるターゲット、2
は銀セシウム面等の光電面を有スる陰極、3はターゲッ
ト1および陰極2を覆う真空容器、4はターゲット1と
陰極2との間に加速電圧を与える電源、5は電源4によ
って流れる管電流IBを検出するための抵抗である。
は銀セシウム面等の光電面を有スる陰極、3はターゲッ
ト1および陰極2を覆う真空容器、4はターゲット1と
陰極2との間に加速電圧を与える電源、5は電源4によ
って流れる管電流IBを検出するための抵抗である。
電源4のプラス側はターゲット1に接続され、マイナス
側は抵抗5を介して陰極2に接続されている。
側は抵抗5を介して陰極2に接続されている。
6は抵抗50両端電圧を検出する検出回路、7ばその発
する光が陰極2の光電面に当たるように配置された光源
、8は検出回路6の出力が一定値になるように光源70
発光量を制御する制御回路である。
する光が陰極2の光電面に当たるように配置された光源
、8は検出回路6の出力が一定値になるように光源70
発光量を制御する制御回路である。
このように構成された本発明装置の動作は次の通りであ
る。
る。
まず、光源7から出た光は陰極2の光電面に当たる。
この光の波長λば、λ<h・c/φ(hニブランクの定
数、C:光速、φ:仕事関係)に選ばれているから、光
電面から真空中に光電子が放出される。
数、C:光速、φ:仕事関係)に選ばれているから、光
電面から真空中に光電子が放出される。
この光電子は、陰極2とターゲット1との間の加速電圧
によって加速された後ターゲット1に衝突する。
によって加速された後ターゲット1に衝突する。
このターゲット1への光電子の衝突によって、ターゲッ
ト1および陰極2を通って管電流iBが流れるとともに
、ターゲット1からX線が発生する。
ト1および陰極2を通って管電流iBが流れるとともに
、ターゲット1からX線が発生する。
第2図は本発明装置の他の実施例を示す原理的構成図で
ある。
ある。
第1図装置と同一部分には同一符号が付しである。
第1図装置との相違点は、陰極2として光電増倍手段を
施したものを用いたところにある。
施したものを用いたところにある。
すなわち、光電面21と数段のダイノード(二次電子面
)22〜24とから陰極2を構成したことにある。
)22〜24とから陰極2を構成したことにある。
光照射によって光電面21から放出された電子は光電面
21より電位の高いダイノード22に衝突して、数倍の
二次電子放出を行う。
21より電位の高いダイノード22に衝突して、数倍の
二次電子放出を行う。
この二次電子は加速されダイノード23を衝撃し、順次
電子増倍を行う。
電子増倍を行う。
最終のダイノード24から出た電子は、電源4によって
加速されターゲット1に衝突し、ターゲット1からX線
が発生する。
加速されターゲット1に衝突し、ターゲット1からX線
が発生する。
この電子増倍手段を陰極2に付加することによって、光
源7の発光量が小さくても充分の強度のX線を得ること
ができる。
源7の発光量が小さくても充分の強度のX線を得ること
ができる。
これらの本発明装置から得られるX線のエネルギー分布
はターゲット1の材質によって決まる。
はターゲット1の材質によって決まる。
また、エネルギーの大きさは、陰極2を照射する光の強
さによって決まる。
さによって決まる。
以上のような本発明装置は、熱イオン放射を用いたもの
でないから、従来装置が有している欠点すなわち放射ス
ペクトル変化や出力低下がない。
でないから、従来装置が有している欠点すなわち放射ス
ペクトル変化や出力低下がない。
また、光源の発光量を変えることによって、容易に管電
流を変えることができる。
流を変えることができる。
換言すれば、光源の発光量の変更によって、容易に所望
の強さのしかも安定したX線出力を得ることができる。
の強さのしかも安定したX線出力を得ることができる。
さらに、消耗部である光源が真空容器外部に配置される
ため、保守が容易である。
ため、保守が容易である。
第1図は本発明装置の一実施例を示す原理的構成図、第
2図は本発明装置の他の実施例を示す原理的構成図であ
る。 1…ターゲツト、2陰極、3…真空容器、4…電源、5
…抵抗、6…検出回路、7…光源、8…制御回路。
2図は本発明装置の他の実施例を示す原理的構成図であ
る。 1…ターゲツト、2陰極、3…真空容器、4…電源、5
…抵抗、6…検出回路、7…光源、8…制御回路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ターゲットと、光電面を有する陰極と、この陰極の
光電面に光を与える光源と、前記陰極の光電面から出た
光電子を加速して前記ターゲットに衝突させるための電
源と、前記ターゲットおよび前記陰極を覆う真空容器と
、前記光源を発光させる制御回路とを具備したX線発生
装置。 2 陰極として光電増倍手段が施されているものを用い
た特許請求の範囲第1項記載の装置。 3 制御回路として管電流が一定値となるように前記光
源の発光量を制御するようなものを用いた特許請求の範
囲第1項または第2項記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51059883A JPS58147B2 (ja) | 1976-05-24 | 1976-05-24 | X線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51059883A JPS58147B2 (ja) | 1976-05-24 | 1976-05-24 | X線発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS52142984A JPS52142984A (en) | 1977-11-29 |
| JPS58147B2 true JPS58147B2 (ja) | 1983-01-05 |
Family
ID=13125972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51059883A Expired JPS58147B2 (ja) | 1976-05-24 | 1976-05-24 | X線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58147B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6047355A (ja) * | 1983-08-23 | 1985-03-14 | Hamamatsu Photonics Kk | X線発生管 |
| JPS61140041A (ja) * | 1984-12-11 | 1986-06-27 | Hamamatsu Photonics Kk | マルチスペクトルx線発生管 |
| JPS61140042A (ja) * | 1984-12-11 | 1986-06-27 | Hamamatsu Photonics Kk | 反射形x線発生管 |
| US5768337A (en) * | 1996-07-30 | 1998-06-16 | Varian Associates, Inc. | Photoelectric X-ray tube with gain |
| JP4584470B2 (ja) | 2001-02-01 | 2010-11-24 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生装置 |
| JP2015060735A (ja) * | 2013-09-19 | 2015-03-30 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生装置及び試料検査装置 |
| EP3384737B1 (en) * | 2015-12-01 | 2019-09-18 | Koninklijke Philips N.V. | Determining a status of an x-ray tube of an x-ray system |
-
1976
- 1976-05-24 JP JP51059883A patent/JPS58147B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52142984A (en) | 1977-11-29 |
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