JPH01134301A

JPH01134301A - 光記録媒体用基体

Info

Publication number: JPH01134301A
Application number: JP62293639A
Authority: JP
Inventors: Shigeru Sasaki; 繁佐々木; Shiro Osada; 長田　司郎
Original assignee: Kuraray Co Ltd
Current assignee: Kuraray Co Ltd
Priority date: 1987-11-19
Filing date: 1987-11-19
Publication date: 1989-05-26

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は複屈折が極めて低く、光透過性に優れかつ吸水
による反り、変形の非常に少ない、機械的特性および耐
熱性の良好な光記録媒体用基体に関する。

〔従来の技術〕

デジタルオーディオディスクやレーザービジョン等のい
わゆる光ディスクはその高密度大容量記録・非接触再生
に基づく長寿命等の利点のｔめ急速に広まりつつある。

近年は追記型や消去可能型等のユーザーが情報を記録で
きるものも登場し、記録方式の発展に伴い基体材料の緒
特性に対する要求のレベルも高くなってきている。特に
低吸水性（低吸水反り性）・低複屈折性・高耐熱性の３
項目は重要な特性である。現在基体材料として用いられ
ているものには主としてガラスおよびプラスチック材料
があるが、ガラスは敬意性が低くコストがかかる、重い
、割れやすいといった短所があり、プラスチック材料の
方が主流である。

光記録媒体用基体として現在特に用いられているプラス
チック材料はポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）と
ポリカーボネー）（ＰＣ）であるが、ＰＭＭＡは複屈折
は極めて低いものの吸水（吸湿）性が高く吸水によって
反ゆや変形が生じ、光学特性の低下を招きやすいという
欠ａを有している０特にデジタルオーディオディスクの
ような１枚の基体からなる光記録媒体に用い九場合、情
報の忠実な再生が困難となることがある。ま念、耐熱性
も今−歩の向上が望まれている〇一方ＰＣは吸水性は低
く吸水反りもほとんどなく耐熱性も問題ないが、複１折
が大きいという雑煮がある０デジタルオーデイオデイス
クのような比較的径の小さいものでは成形条ｆ！Ｆを高
精度に制御することにより複屈折を要求レベル以下に抑
えることが可能であるが、３０ｃＩＲ径のレーザービジ
ョンや、光磁気記録媒体のような極めて高い光学特性が
要求されるものへの対応は不可能に近い。

ＰＭＭＡやＰＣを共重合やブレンド等により改質し光記
録媒体用基体として用いる際の欠点を解消しようとする
賦与が従来種々性なわれている。

例えばＰＭＭＡの吸水反り（変形）を改善する方法とし
ては、シクロヘキシルメタクリレート等を共重合するも
の（特開昭５８−１２７７５４　）やボルニルメタクリ
レート金共重合するもの（特開昭５８−１６２６５１　
）が知られているが、こｎらはいずれも吸水反り（変形
）は改善されるものの耐熱性は向上しない、あるいは未
反応モノマーが残存し緒特性に悪影響を与えることがあ
る、といつ之欠点を有しており実用的ではない。ま念、
ベンジルメタクリレートを共重合するもの（特開昭５８
−１１５１５　）においては、吸水反りを低下させる九
めにベンジルメタクリレートの共重合比を高くすると複
唱折が増大すると同時に耐熱性が低下し好ましくない。

ＰＣの複屈折を低下させる方法としては、共重合やブレ
ンドにより溶融時の流動性を高めて成形物の残留応力に
基づく複屈折を減少させよりというもの（特開昭６０−
１６６３２１，６Ｏ−２１５０５１）や、特定のビスフ
ェノール誘導体を用いるもの（特開昭６０−１６６３２
２．６ｌ−５５１１７）、ボリヱステルカーボネートと
するもの（特開昭６ｌ−２３６２５）があるが、いずｎ
もＰＭＭＡ（７）Ｊ：うな低いレベルにまで低下させる
ことは極めて雌しいＯＰＭＭＡ−？ＰＣ以外の樹脂の適用もｔ念検討されてい
るが、例えばスチレン系樹脂（特開昭５８−８３００９
　）では複屈折が高くまた表面硬度が非常に低く傷が付
きやすいという問題点がある０ま念、ポリエステル果樹
＠（特開昭５８−１５０１４７）では特に複屈折に関し
て難点がある。

〔発明の解決しようとする問題点〕

上述し念ように、ＰＭＭＡやＰＣは光記録媒体用基体と
して用いｔ場合に問題点を有しており、それらを改善す
るための種々の公知の手法においては完全には解決され
ないかもしくは解決されたとしてもその犠牲として他の
特性の低下を余儀なくされ、結局光記録媒体用基体とし
て適切なものは得られない。また、新規素材を用いるに
しても何等かの問題点があるというのが現状である。本
発明の目的は、光記録媒体用基体として使用する際に要
求される唸ての特性において優れ次、すなわち複屈折が
極めて小さく、光透過性に優れ、かつ吸水反り（Ｋ形）
の極めて少ない、機械的特性および耐熱性の良好な光記
録媒体用基体を提供することにある。

〔問題点を解決する定めの手段〕

本発明者らは上記の目的に鑑み鋭意検討した結果、特定
のポリエステル樹脂においては複屈折が極めて小さく、
光透過性に優れ、吸水時の反りが非常に少なく、かつ耐
熱性および機械的強度が良好であることを見出し本発明
に至った。すなわち本発明は繰り返し単位が下記一般式
（Ｉ）で表わされるポリエステル又はポリカーボネート
拉抑１旨からなることを特徴とする光記録媒体用基体で
ある。

上記一般式（１）においてＸが０でｙが１００の場合、
ポリエステル樹脂を示し、一方Ｘが１００でｙがＯの場
合はポリカーボネート樹脂を示す。

また、Ｘ＼０、ｙ＼０の場合はポリエステルとポリカー
ボネートとの共重合体を示す。

前記一般式（Ｉ）において２価の基としては、下記式（ＩＩＬ）で示さｎる低級アルキル基
で置換されてもよいシクロブタン環を有する２価の基及
び／又は下記式（Ｉｂ）で示されるモノ又はジシクロ環
を有する２価の基であることが好ましい。該特定のシク
ロ環を有するポリエステル又はポリカーボネート樹脂は
純度が高い京料の入手が容易であり、１色が少なく光透
過率の高い基板を得やすいという特長を有する。

（Ｒｓ、　ＲＩＧ、Ｒ１１及びＲｕは水素原子又は炭素
数４以下の低級アルキル基である）（ｌは０．１ま念は２、几だしｌ＝０のときは（）ｆｔ
表わす）式（１）において、　Ｒｔ〜Ｒ４を含む部分すなわちを
ジオール成分と呼ぶとすると、ジカルボン酸成分として
好ましい構造は具体的には以下の通りである。

一方、ジオール成分として好ましい構造は具体的には以
下の通りである。

本発明において用いられるポリエステル樹脂の構造は上
記に示したようなジカルボン酸成分とジオール成分の任
意の組み合わせであってよいが、特に好ましい組み合わ
せは以下に示す一般式（ＩＩ）〜（ＩＶ）で表わされる
ポリエステル樹脂である。

に同じ。

上記ポリエステルに該当する具体例は以下の通りである
。

本発明において用いられるポリカーボネート樹脂の構造
は上記に示したようなジオール成分を主体とするポリカ
ーボネート樹脂であり、特に好ましいものは下記一般式
（Ｖ）又は（Ｖ［）で表わされるものである。

本発明において用いられるポリエステル又はポリカーボ
ネート樹脂としては、前記一般式（Ｉ）においてｘｓＯ
ｓ　’！Ｓｏの場合におけるコポリ（エステルカーボネ
ート）であってもよい。該コポリ（エステルカーボネー
ト）においても同様に好ましい樹脂は下記一般式（■）
〜（Ｘ）で表わされるものである。

［ｍ、　ｐ　、　ｑ　、　Ｒａ　〜Ｒ１２は上記に同じ
。］本発明において用いられるポリエステル又はポリカ
ーボネート樹脂において、ジカルボン酸成分及び／又は
ジオール成分は１種類であってもよいし、２種以上含ま
れていてもよい。２ｆ’１以上が含まれる場合には共重
合体であっても組成物であってもよい。また少割合で池
の任意の構造を有していてもよい。

本発明におい′Ｃ用いられるポリエステル又はポリカー
ボネート樹脂は、前記一般式（１）で茂わされるＳり返
し単位が、全繰りａし単位に対して少なくとも７０モル
チ、より好ましくは８０モル優あればよく、他のポリエ
ステル単位又はポリカーボネート単位が３０モル鴫より
少なく、好ましくは２０モルチより少なく含まれていて
もよい。このような他のポリエステル単位又はポリカー
ボネート単位を構成するジオール又はジカルボン酸成分
としては、光記録媒体用基体に適し之ポリエステル又は
ポリカーボネートに使用されるジオール又はジカルボン
酸成分であればよく、一種又は二種以上の混合物として
使用できる。かかるジオール成分としては、＠肪族グリ
コール、上記以外の指環族グリコール、エーテルグリコ
ール、芳香族ジオール等が好ましく例示される。具体的
には工チレングリコール、　７’　ａ　ｋ”レンゲリコ
ール、１，４−フタンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、ヘキサメチレングリコール、ノナンジオール等の炭
素数２〜１０のアルキレ／グリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール等のホリ（アルキレン
グリコール）、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）プロパ７、　２．２−ヒｘ（４−ヒドロキシジフェニ
ル）エーテル、４．４’−ジヒドロキシジフェニルスル
フィド、４．４−ジヒドロキシシフエールスルホン、４
．４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、テトラブロモビ
スフェノール、４．４’−ジヒドロキシビフェニル等の
芳香族ジオールが挙げられる。これらのうち好ましいの
は炭素数が２〜２０の芳香族又は脂肪族ジオールである
。他のジカルボン酸成分としては、脂肪族ジカルボン酸
、芳香族ジカルボン酸等が好ましく例示される。

具体的には、コハク酸、アジピン酸、セパチン酸、ドデ
カンニ酸等の脂肪族ジカルボン酸、テレフタル酸、イン
フタル酸、ジフェニルジカルボン酸、ナフタリンジカル
ボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸等の芳香族カ
ルボン酸が挙げられる。

これらのうち好ましいのは炭素数が８〜２０の芳香族ジ
カルボン酸である。ま九ヒドロキシカルボ／酸単位を含
ませることも自由である。

本発明において用いられるポリエステル樹脂は公知のポ
リエステル樹脂の合成法に準じて製造することができる
。即ち、ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体、
（例えばジカルボン酸メチルエステル等の低級アルキル
エステル、ジカルボやン酸ジフェニルエステル等のアリルエステル、ジカルボ
ン酸ジクロライド等の酸塩化物、酸無水物等）及びグリ
コール又はそのエステル形成性誘導体（例えば酢酸エス
テル等の低級脂肪酸エステル、アルカリ金属塩等）より
、脱水反応、脱アルコール反応、脱ハロゲン化水素反応
、脱アルカリ金属塩化物反応等の反３を必要に応じて適
当な触媒の存在下或いは非存在下で行なわせることによ
り合成することができる。反応の形態は反応方法に応じ
て溶融法や溶液法等の手法を採用できる。また固相で行
なうこともできる。共重合体を得ようとする場合には反
応開始時に複数種のジカルボン酸もしくはその誘導体お
よび／もしくは複数種のジオールもしくはその誘導体を
仕込めばよい。

本発明において用いられるポリカーボネート樹脂も公知
の合成法に準じて製造することができる。

すなわち例えばホスゲンとジオールからの脱塩化水素反
応、炭酸ジメチルとジオールからの脱メタノール反応、
炭酸ジフェニルとジオールからの脱フェノール反♂、ホ
スゲンとジオールのアルカリ金属塩からの脱アルカリ金
属塩化物反応等の反応を必要に応じて適当な触媒の存在
下で行なわせることにより合成することができる。反応
の形態は反応方法に応じて溶融法や溶液法等の手法を採
用できる。共重合体を得ようとする場合には反応開始時
に複数種のジオールもしくはその誘導体を仕込めばよい
。

本発明において用いられるポリエステルカーボネート樹
脂は、公知のポリエステル樹脂もしくはポリカーボネー
ト樹脂の合成法に準じて製造することができる。すなわ
ち例えば炭酸ジフェニルとジカルボン酸のジフェニルエ
ステルおよびジオールの混合物からの脱フェノール反応
、炭酸ジアルキルエステルとジカルボン酸のジアルキル
エステルおよびジオールの混合物からの脱アルコール反
応、ホスゲンとジカルボン酸塩化物およびジオールから
の脱塩化水素反応、ホスゲンとジカルボン酸塩化物およ
びジオールのアルカリ金属塩の混合物からの脱アルカリ
金属塩化物反応等の反応を必要に応じて適当な触媒の存
在下で行なわすることＫより合成することができる。反
応の形態は反応方法に応じて溶融法や溶液法等の手法を
採用できる。反応の際には炭酸成分とジカルボン酸成分
との仕込みモル比によって式（１）のＸとｙの比を制御
することができる。

本発明の樹脂の分子量については、成形品として使用出
来る範囲であれば特に限定はさｎないがゲルパーミエイ
ションクロマトグラ７　イー（ＧＰＣ）による数平均分
子量（ポリスチレン換、４）が３．０００以上１００，
０００以下であることが好ましい。

分子量が３，０００以下であるとガラス転移点が低下し
几り機械的強度が低くなる等の問題点が生じることがあ
り好ましくない。一方分子量が１００，０００を超える
と合成が困難となり実用的ではない。

本発明の樹脂は相互に相溶性が良いので、例えばポリエ
ステル樹脂とポリカーボネート樹脂をブレンドして用い
ることもできる。またポリエステル樹脂またはポリカー
ボネート樹脂をポリ（エステルカーボネート）雪脂とブ
レンドして用いることもできる。

この際ブレンド操作は公知の任意の方法に準じて実施可
能である。例えばテトラヒドロフラン等の両者の共通良
溶媒に溶解混合させ、メタノール等の共通の貧溶媒に注
ぐことにより再沈回収する方法や、ロール、スクリュー
、バンバリーミキサ−、ニーダ−、プレンダー、ミル等
の各種混練機を用いて所定の温度下で溶融混練する方法
等を採用することができる。溶融混練の際は樹脂温度は
通常１６０〜３００℃の間に設定される。ポリカーボネ
ートとポリエステルのブレンド比については特に好まし
い範囲はなく、実質的に組成物とみなせる重量比５／９
５〜９５１５の範囲内であｎばよい０本発明の樹脂を光
記録媒体用基体として用いる場合には、公知の任意の方
法例えば押出成形、射出成形、圧縮成形、射出圧縮成形
等の方法により成形を実施することができる。この際樹
脂温は通常２００〜４００℃に、金型温度は４０〜２０
０℃の範囲に設定される。成形の際必要に応じて公知の
添加剤例えば熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、潤滑剤
、無機もしくは有機の充填剤、染料、顔料等を加えても
よい。ｔ７を他の樹脂をブレンドすることもできる。

本発明の光記録媒体用基体は、−旦平板等の簡単な形状
に成形した後に無機または有機の材料と積層する、接着
あるいは融着により貼り合わせる、表面にエンボス加工
を施す、といった高次加工を行なうことも可能である。

例えば読み出し専用光記録媒体用基体として本発明の樹
＠を用いる・祭には、必要に応じてグループや信号等を
記録した金型を用いて射出成形停により該基体を得る。

これにアルミニウム等の金属を真空蒸着等の方法により
情報面上に成膜し、次いで保護ポリマー層を形成するか
もしくは２枚貼り合わせる。情報記録層は本発明の底形
材料を用いた平坦な基体の上に光硬化性の樹脂音用いて
いわゆる２Ｐ法によって設けてもよい。また、その他公
知の任意の方式によって情報記録部を構成することがで
きる。例えば成形し九基体の表面に酸化テルルやテルビ
ウム−鉄−コバルト系合金等の無機物あるいはシアニン
系色素等の有機物の薄膜を設ける等である。なお、ここ
で光記録媒体用基体とは、具体的には光デイスク基体、
光カード基体等の、基体内部を通過するレーザ光によっ
て情報の記録および／もしくは読み出しを物理的もしく
は化学的に行なう九めの媒体に用いられる基体を指す。

ｔｅその形状はシート状、フィルム状、ディスク状、カ
ード状等任意である。

〔実施例〕

以下実施例により本発明を（に祥細に説明する。

なお、物性値は下記の方法に従って測定した。

■　数平均分子量および分子量分布：　ＧＰＣ（ポリス
チレン換算）により求め友。

■　ガラス転移点：示差熱分析法（窒素中、昇温速度１
０℃／ｍ１ｎ）Ｋより測定した０■　光透過率：熱プレ
スにより２ＩＩ１ｍ厚に成形した試料の波長７ｇＱｎｍ
の光の透過率を分光光度計により測定した。

■　ａＪｌ（リターデーション）：直径４０簡、厚さ６
ｍＫ成形し之試料を熱プレスにより１ｍ厚に圧延し、中
心から３０瓢の点について光源にヘリウム−ネオンレー
ザ（波長６３３　ｎｍ　）を用い偏光顕微境の原理を応
用して測定し友（高分子学会高分子実噴学編集委員会編
「高分子実験学」第１７巻、Ｐ、２６（１９８４）共立
出版、参照）。

■　光弾性係数：熱プレスにより２　ｃｍ　Ｘ　１０　
ｃｍ　ｘ２電暉に成形した板についてヘリウム−ネオン
レーザを光源として副島らの方法（高分子学会高分子実
験学編集委員会編「高分子実験学」第１０巻、Ｐ、２９
６（１９８３）共立出版）に準拠して求めた。

■　ヤング率：引張試験機および歪みゲージを用い、試
料に印加しｔ張力と生じた伸びとの関係から求め念。

■　表面硬度：鉛筆硬度試験（ＪＩＳ　Ｋ−５４００）
によった。

■　吸水率：　ＡＳＴＭ　Ｄ５７０に準拠して求め友。

（９）吸水反り：　２　ｃｍ　Ｘ　１０　ａｎ　Ｘ　２
　ｍｍ厚の板状試料の片面にアルミニウムｔ−１００Ｏ
Ａ厚に真空蒸着し、これを２３℃の蒸留水に浸漬して発
生した反り（中央部の浮き）の最大値を吸水反りとしｔ
０ポリエステルの合成実施例１ｔｒａｎｓ　−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸ジ
フェニル３２．４０Ｆ　（０，１モル）、２，２，４．
４−テトラメチル−１，３−７クロプタンジオール１４
．４２ｆ（０，１モル）、水素化リチウム１，６〜（０
，２ミリモル）を、メカニカルスターラ、窒素ガス流入
口および留出してくるフェノールを凝固させる之めのリ
ービッヒ冷却器を付した１００ｄ三つロフラスコに入れ
、窒素気流中にてオイルパスで２００℃に加部して４時
間攪拌し念。次いでアスピレータで３０分間吸引し、更
に油回転ポンプを用いて０．１５■々の真空とし、２６
０℃　に昇温して１時間攪拌して淡黄色透明のポリマー
２２ｆを得念。このポリマーの数平均分子量は１２，０
００であつ几〇実施例２〜７、比較例１〜２ジカルボン酸成分とジオール取分を変える以外は実施例
１と同様にして各種のポリエステルを合成した。得られ
次ポリマーの構造と数平均分子量およびガラス転移点を
表１に示す。な訃、水素化リチウムの代わりに比較例１
においては酢酸岨鉛８η（０，３６ミリモル）と酸化ア
ンチモン８■（０，２８ミリモル）、比較例２において
はテトライソプロピルオルソチタネートを２１１９　（
７マイクロモル）それぞれ用いた。

以下余白ポリカーボネートの合成実施例８炭酸ジフェニル２１．４Ｆ（０，１モル）　；　２，２
，４，４−ナトラメナル−１，３−シクロブタンジオー
ル１４．４　ｒ　（０，１モル）％水素化リチウムｌ、
　６　ｗｑ（０，２ミリモル）をメカニカルスターラ、
窒素ガス流入口および留出してくるフェノールを凝固さ
せるためのリービッヒ冷却器を付した１００ｄ三つロフ
ラスコに入れ、窒素気流中オイルバスで２００℃に加熱
して４時間攪拌した。次いでアスピレータで３０分間吸
引し、更に油回転ポンプを用いて０．１５　ｍＨＨの真
空とし、２６０℃に昇温して１時間攪拌して淡黄色透明
のポリマー１６．Ｏｆを得た。このポリマーの数平均分
子量は１６，０００であった。

実施例９〜１２．比較例５ジオール成分を変える以外は実施例８と同様にして各種
のポリカーボネートを合成した。得られたポリマーの構
造と数平均分子量およびガラス転移点を表２に示す。

表　　　２コポリ（エステルカーボネート）の合成実施例１３ｔｒａｎｓ−１，４−７クロヘキサンジカルボン酸ジフ
エニル１６．２０ｆ（０，０５モル）、炭酸ジフェニル
ｌＯ，７Ｆ（０，０５モル）、２．２．４．４−テトラ
メチル−１，３−シクロブタンジオール１４．４０　ｆ
（０，１０モル）、水素化リチウム１．６Ｎ９（０，２
ミリモル）を、メカニカルヌターラ、窒素ガス流入口お
よび留出してくるフェノールを凝固させるためのり−ビ
ツヒ冷却器を付した１００ｍ／三つロフラスコに入れ、
窒素気流中にてオイルパスで２００℃に加熱して４時間
攪拌した。次いでアスピレータで２０分間吸引し、更に
油回転ポンプを用いて０．２０■Ｉ１ｇの真空とし、２
６０℃に昇温して１時間攪拌して淡黄色透明のポリマー
１９２を得た。

このポリマーの数平均分子量は１６，０００であった。

実施例１４〜２０、比較例６フカルギン縁成分とジオール成分を代える以外は実施例
１３と同様にして各種のコポリ（エステルカーボネート
）を合成した。得られたポリマーの構造と数平均分子量
およびガラス転移点を表３に示す。なお、比較例１においてはテトライングロビルオルソチタネート２Ｎｉ
（７マイクロモル）をそれぞれ用いた。

以下余白ブレンド操作実施例２１〜２６上記で合成した種々のポリマーをプラベンダー社製ＰＬ
３０００型プラストグラフを用いて種々の混合比で２６
０℃で１０分間亀練してブレンドを行なった。得られた
ブレンド物はいずれも透明で光学顕微鏡によっては相分
離構造は認められなかった。得られたブレンド物のガラ
ス転移点を表４に示した。

以下余白表　　　４成形品の物性上述のポリマーよりｉ々の試験片を成形し、物性を測定
した。比較のためにポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ
）及びビスフェノールＡポリカーボネート（ＰＣ）の物
性も測定し、結果を併せて表１がわかる。

以下余白光記録媒体としての特性本発明の成形材料を用い、テクノプラス社製ＳＩＭ−４
７４９Ａ射出成形機により外径１３ｃＩｎ４内径１．５
　ｃｒｓ　、厚さ１．２１ＥＩＩに射出成形した基体を
得た。

これを用いて記録部層として酸化テルルを真空蒸着法に
より表面に成膜した光ディスクの１キ込み／読み出し／
消去特性を評価した結果、基１本にＰＭＭＡを用いた場
合と全く同等の性能を示した。

また、ＰＭＭＡを用いたものは、４０℃、相対湿度９５
％の条件下で１２０時間放置すると吸湿によシ反シが生
じ記録媒体としての使用が不能になったのに対し、本発
明の成形材料を用いたものは同条件下では吸湿反りは発
生せず、吸湿に基づく特性の経時的低下は認められなか
った。

〔発明の効果〕

以上述べてきたように、本発明の樹脂を用いることによ
り光記録媒体用基体として優れた、すな以上と高い。

■　複屈折が少なく光弾性係数の絶対値が２５×１０　
　ｃｔ４　／　ｄｙｎｅ以下と非常に小さい。

■　ガラス転移点が１１０℃以上と良好な耐熱性を示す
。

■　吸水による反り・変形がＰ　Ｍ　Ｍ　Ａよりもはる
かに少なくＰＣと同根にのレベルである。

（リ　異面硬度が２Ｈ以上と高い。

特許出願人　株式会社　り　ラ　し

Claims

【特許請求の範囲】

（１）繰り返し単位が下記一般式（ I ）で表わされる
ポリエステル又はポリカーボネート樹脂からなる光記録
媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）〔Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿５、Ｒ＿６は結合もしくは炭素
数８以下のアルキレン基、アルキリデン基またはシクロ
アルキレン基であり、Ｒ＿１とＲ＿２の間およびＲ＿５
とＲ＿６の間には結合もしくは炭素数６以下のアルキレ
ン基、アルキリデン基による橋かけ構造があつてもよい
。また、Ｒ＿１とＲ＿２およびＲ＿５とＲ＿６はそれぞ
れの組合せにおいて同時に結合であることはない。Ｒ＿
３、Ｂ＿４、Ｒ＿７、Ｒ＿８は水素または炭素数２以下
のアルキル基である。ｘ、ｙは共重合比を示す数字であ
り、ｘ：ｙ＝１００：０〜０：１００（モル比）の範囲
である。〕
（２）前記一般式において、２価の基 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ の少なくとも一方が下記式（ I ａ）又は（ I ｂ）▲数
式、化学式、表等があります▼（ I ａ）（Ｒ＿９、Ｒ
＿１＿０、Ｒ＿１＿１及びＲ＿１＿２は水素原子又は炭
素数４以下の低級アルキル基である） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ｌは０、１または２。ただしｌ＝０のときは▲数式、
化学式、表等があります▼を表わす）である特許請求の範囲第１項記載の光記録媒体用基体。
（３）前記式（ I ａ）が ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ である特許請求の範囲第２項記載の光記録媒体用基体。
（４）前記式（ I ｂ）が ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼又は▲数式、化学式、表等があります
▼ である特許請求の範囲第２項記載の光記録媒体用基体。
（５）繰り返し単位が下記一般式（ I １）で表わされ
るポリエステルからなる特許請求の範囲第１項記載の光
記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I １）〔Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿５、Ｒ＿６は結合もしくは炭素
数８以下のアルキレン基、アルキリデン基またはシクロ
アルキレン基であり、Ｒ＿１とＲ＿２の間およびＲ＿５
とＲ＿６の間には結合もしくは炭素数６以下のアルキレ
ン基、アルキリデン基による橋かけ構造があつてもよい
。また、Ｒ＿１とＲ＿２およびＲ＿５とＲ＿６はそれぞ
れの組合せにおいて同時に結合であることはない。Ｒ＿
３、Ｒ＿４、Ｒ＿７、Ｒ＿８は水素もしくは炭素数４以
下のアルキル基である。〕
（６）繰り返し単位が下記一般式（II）で表わされるポ
リエステル樹脂からなる特許請求の範囲第１項記載の光
記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（II）〔ｍは０、１または２。ただしｍ＝０のときは▲数式、
化学式、表等があります▼を表わす。Ｒ＿５、Ｒ＿６、
Ｒ＿７、Ｒ＿８は上記に同じ。〕
（７）繰り返し単位が下記一般式（III）で表わされる
ポリエステル樹脂からなる特許請求の範囲第１項記載の
光記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（III）〔Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿４は上記に同じ、Ｒ＿
９、Ｒ＿１＿０、Ｒ＿１＿１、Ｒ＿１＿２は水素または
炭素数４以下のアルキル基である。〕
（８）繰り返し単位が下記一般式（IV）で表わされるポ
リエステル樹脂からなる特許請求の範囲第１項記載の光
記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）〔ｎは０、１または２。ただしｎ＝０のときは▲数式、
化学式、表等があります▼を表わす。Ｒ＿１、Ｒ＿２、
Ｒ＿３、Ｒ＿４は上記に同じ。〕
（９）繰り返し単位が下記一般式（ I ２）で表わされ
るポリカーボネート樹脂からなる特許請求の範囲第１項
記載の光記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ２）〔Ｒ＿５、Ｒ＿６は結合もしくは炭素数８以下のアルキ
レン基またはアルキリデン基、シクロアルキレン基であ
り、Ｒ＿５の炭素とＲ＿６の炭素との間には結合もしく
は炭素数６以下のアルキレン基、アルキリデン基による
橋かけ構造があつてもよい。また、Ｒ＿５とＲ＿６は同
時に結合であることはない。Ｒ＿７、Ｒ＿８は水素また
は炭素数４以下のアルキル基である。〕
（１０）繰り返し単位が下記一般式（Ｖ）で表わされる
ポリカーボネート樹脂からなる特許請求の範囲第１項記
載の光記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）〔Ｒ＿９、Ｒ＿１＿０、Ｒ＿１＿１、Ｒ＿１＿２は水素
または炭素数４以下のアルキル基である。〕
（１１）繰り返し単位が下記式（VI）で表わされるポリ
カーボネート樹脂からなる特許請求の範囲第１項記載の
光記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（VI）〔ｎは０、１または２である。ただしｎ＝０のときは▲
数式、化学式、表等があります▼を表わす。〕
（１２）繰り返し単位が下記一般式（ I ３）で表わさ
れるポリエステル又はポリカーボネート樹脂からな特許
請求の範囲第１項記載の光記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ３）〔Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿５、Ｒ＿６は結合もしくは炭素
数８以下のアルキレン基、アルキリデン基またはシクロ
アルキレン基であり、Ｒ＿１とＲ＿２の間およびＲ＿５
とＲ＿６の間には結合もしくは炭素数６以下のアルキレ
ン基、アルキリデン基による橋かけ構造があつてもよい
。また、Ｒ＿１とＲ＿２およびＲ＿５とＲ＿６はそれぞ
れの組合せにおいて同時に結合であることはない。Ｒ＿
３、Ｒ＿４、Ｒ＿７、Ｒ＿８は水素または炭素数４以下
のアルキル基である。ｐ、ｑは共重合比を示す数字であ
り、ｐ：ｑ＝９５：５〜５：９５（モル比）の範囲であ
る。〕
（１３）繰り返し単位が下記式（VII）で表わされるコ
ポリ（エステルカーボネート）樹脂からなる特許請求の
範囲第１項記載の光記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（VII）〔ｍは０、１または２。ただしｍ＝０のときは▲数式、
化学式、表等があります▼を表わす。ｐ、ｑ、Ｒ＿５〜
Ｒ＿８は上記に同じ。〕
（１４）繰り返し単位が下記式（VIII）で表わされるコ
ポリ（エステルカーボネート）樹脂からなる特許請求の
範囲第１項記載の光記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII）〔Ｒ＿９〜Ｒ＿１＿２は水素または炭素数４以下のアル
キル基である。ｐ、ｑ、Ｒ＿１〜Ｒ＿４は上記に同じ。〕
（１５）繰り返し単位が下記式（IX）で表わされるコポ
リ（エステルカーボネート）樹脂からなる特許請求の範
囲第１項記載の光記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（IX）〔ｎは０、１または２。ただしｎ＝０のときは▲数式、
化学式、表等があります▼を表わす。ｐ、ｑ、Ｒ＿１〜
Ｒ＿４は上記に同じ。〕
（１６）繰り返し単位が下記式（Ｘ）で表わされるコポ
リ（エステルカーボネート）樹脂からなる特許請求の範
囲第１項記載の光記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｘ）〔ｍ、ｐ、ｑ、Ｒ＿９〜Ｒ＿１＿２は上記に同じ。〕（
１７）繰り返し単位が下記一般式（ I １）で表わされ
るポリエステル樹脂、下記一般式（ I ２）で表わされ
るポリカーボネート樹脂及び下記一般式（ I ３）で表
わされるコポリ（エステルカーボネート）樹脂の群より
選ばれた少なくとも２種以上の樹脂の組成物からなる特
許請求の範囲第１項記載の光記録媒体用基体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I １） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ２） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ３）〔Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿５、Ｒ＿６は結合もしくは炭素
数８以下のアルキレン基、アルキリデン基またはシクロ
アルキレン基であり、Ｒ＿１とＲ＿２の間およびＲ＿５
とＲ＿６の間には結合もしくは炭素数６以下のアルキレ
ン基、アルキリデン基による橋かけ構造があつてもよい
。また、Ｒ＿１とＲ＿２およびＲ＿５とＲ＿６はそれぞ
れの組合せにおいて同時に結合であることはない。Ｒ＿
３、Ｒ＿４、Ｒ＿７、Ｒ＿８は水素または炭素数４以下
のアルキル基である。ｐ、ｑは共重合比を示す数字であ
り、ｐ：ｑ＝９５：５〜５：９５（モル比）の範囲であ
る。〕